KR20080110466A - 리프트 핀 승강 장치 - Google Patents

리프트 핀 승강 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR20080110466A
KR20080110466A KR1020080036507A KR20080036507A KR20080110466A KR 20080110466 A KR20080110466 A KR 20080110466A KR 1020080036507 A KR1020080036507 A KR 1020080036507A KR 20080036507 A KR20080036507 A KR 20080036507A KR 20080110466 A KR20080110466 A KR 20080110466A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
hot plate
plate
support
lift pin
support member
Prior art date
Application number
KR1020080036507A
Other languages
English (en)
Other versions
KR100966231B1 (ko
Inventor
마사히코 노다
Original Assignee
다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤 filed Critical 다이니폰 스크린 세이조우 가부시키가이샤
Publication of KR20080110466A publication Critical patent/KR20080110466A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100966231B1 publication Critical patent/KR100966231B1/ko

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/683—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping
    • H01L21/687—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches
    • H01L21/68714—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support
    • H01L21/68742—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for supporting or gripping using mechanical means, e.g. chucks, clamps or pinches the wafers being placed on a susceptor, stage or support characterised by a lifting arrangement, e.g. lift pins
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65—CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65G—TRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06—Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/061—Lifting, gripping, or carrying means, for one or more sheets forming independent means of transport, e.g. suction cups, transport frames

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

본 발명은, 열처리 장치의 사이즈가 커진 경우에 있어서도, 열변형의 영향을 방지하여 리프트 핀 선단의 위치를 정확하게 유지하는 것이 가능한 리프트 핀 승강 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명의 목적은, 핫 플레이트(2)의 베이스부(3)에는, 2개의 제1 지지 부재(8)와 4개의 제2 지지 부재(7)가 수하(垂下)하는 상태로 연결되어 있고, 이들 제1 지지 부재(8) 및 제2 지지 부재(7)에 의해, 지지판(5)이 매달려 지지되어 있다. 제1 지지 부재(8)는, 지지판(5)과 핫 플레이트(2)를 고정한 상태로 연결하는 것이고, 제2 지지 부재(7)는, 지지판(5)과 핫 플레이트(2)를, 핫 플레이트(2)에 대해 지지판(5)이 수평 방향으로 이동 가능한 상태로 연결하는 리프트 핀 승강 장치에 의해 달성된다.

Description

리프트 핀 승강 장치{LIFTING APPARATUS WITH LIFT PIN}
본 발명은, 핫 플레이트를 관통하는 복수의 리프트 핀과, 이 리프트 핀을 핫 플레이트에 대해 승강 구동하는 구동 기구를 구비한 핫 플레이트에 있어서의 리프트 핀 승강 장치에 관한 것이다.
일반적으로, 반도체 웨이퍼나 액정 표시 패널용 유리 기판 혹은 반도체 제조 장치용 마스크 기판 등의 기판을 처리하는 기판 처리 장치에 있어서는, 기판의 반송시에, 처리 장치 내의 기판을 반송 아암과의 사이에서 수도(受渡)하기 위해, 리프트 핀 승강 장치가 사용된다.
이러한 리프트 핀 승강 장치는, 예를 들면 특허 문헌 1에도 기재되어 있는 바와 같이, 복수의 리프트 핀을 승강 부재에 의해 지지하고, 이 승강 부재를 승강시키는 승강 기구를, 처리 장치 본체로부터 매달린 지지판에 의해 지지하는 구성으로 되어 있다.
[특허 문헌 1] 일본국 특허공개 2003-284986호 공보
이러한 리프트 핀 승강 장치를, 기판을 핫 플레이트에 의해 가열 처리하는 열처리 장치 등에 이용한 경우에는, 처리 장치 전체가 핫 플레이트의 열에 의해 열변형을 일으켜, 이에 따라 리프트 핀의 승강 기구를 지지하는 지지판도 변형됨으로써, 각 리프트 핀의 선단의 높이 위치가 균일하지 않게 된다는 문제가 발생한다. 이러한 문제는, 열처리 장치에 의해 처리하는 기판 사이즈의 대형화에 따라, 열처리 장치의 사이즈가 커진 경우에, 특히 문제가 된다.
본 발명은 상기 과제를 해결하기 위해 이루어진 것으로, 열처리 장치의 사이즈가 커진 경우에 있어서도, 열변형의 영향을 방지하여 리프트 핀 선단의 위치를 정확하게 유지하는 것이 가능한 리프트 핀 승강 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
청구항 1에 기재된 발명은, 핫 플레이트를 관통하는 복수의 리프트 핀과, 이 리프트 핀을 핫 플레이트에 대해 승강 구동하는 구동 기구를 구비한 핫 플레이트에 있어서의 리프트 핀 승강 장치로서, 상기 구동 기구를 지지하는 지지판과, 상기 지지판과 상기 핫 플레이트를 연결하는 복수의 지지 부재를 구비하고, 상기 복수의 지지 부재 중 일부는, 상기 지지판과 상기 핫 플레이트를 고정한 상태로 연결하는 제1 지지 부재로 구성되고, 상기 복수의 지지 부재 중 다른 일부는 상기 지지판과 상기 핫 플레이트를, 상기 핫 플레이트에 대해 상기 지지판이 수평 방향으로 이동 가능한 상태로 연결하는 제2 지지 부재로 구성되는 것을 특징으로 한다.
청구항 2에 기재된 발명은, 청구항 1에 기재된 발명에 있어서, 상기 제1 지지 부재 및 상기 제2 지지 부재는, 상기 핫 플레이트로부터 수하되는 것이고, 상기 지지판은, 상기 핫 플레이트에 대해 매달려 지지된다.
청구항 3에 기재된 발명은, 청구항 1 또는 청구항 2에 기재된 발명에 있어서, 상기 제1 지지 부재는, 상기 핫 플레이트에 있어서의 중앙부측에 대응하는 위치에 배치되어 있고, 상기 제2 지지 부재는, 상기 핫 플레이트에 있어서의 상기 제1 지지 부재보다 외측에 대응하는 위치에 배치되어 있다.
청구항 1에 기재된 발명에 의하면, 열처리 장치의 사이즈가 커진 경우에 있어서도, 열변형의 영향을 방지하여 리프트 핀 선단의 위치를 정확하게 유지하는 것이 가능해진다.
청구항 2에 기재된 발명에 의하면, 간이한 매달기 식의 지지 기구를 채용한 경우에 있어서도, 리프트 핀 선단의 위치를 정확하게 유지하는 것이 가능해진다.
청구항 3에 기재된 발명에 의하면, 지지판의 위치 어긋남을 방지하는 것이 가능해진다.
이하, 본 발명의 실시 형태를 도면에 의거하여 설명한다. 도 1은 본 발명에 따른 리프트 핀 승강 장치의 평면도이고, 도 2는 그 정면도이다.
이 리프트 핀 승강 장치는, 베이스부(3)를 갖는 핫 플레이트(2)에 의해, 각 (角)형의 액정용 유리 기판(W)(이하 간단히 「기판(W)」이라고 한다)을 가열 처리하기 위한 것이고, 베이스부(3) 및 핫 플레이트(2)를 관통하여 승강하는 복수의 리프트 핀(6)을 갖는다. 이 리프트 핀(6)은, 지지 프레임(4)에 의해 지지되어 있고, 이 지지 프레임(4)과 함께 승강한다.
핫 플레이트(2)의 베이스부(3)에는, 2개의 제1 지지 부재(8)와 4개의 제2 지지 부재(7)가 수하하는 상태로 연결되어 있고, 이들 제1 지지 부재(8) 및 제2 지지 부재(7)에 의해, 지지판(5)이 매달려 지지되어 있다. 도 1에 나타낸 바와 같이, 제1 지지 부재(8)는 핫 플레이트(2)에 있어서의 중앙부측에 대응하는 위치에 배치되어 있고, 제2 지지 부재(7)는 핫 플레이트(2)에 있어서의 상기 제1 지지 부재(8)보다 외측에 대응하는 위치에 배치되어 있다. 또한, 제1 지지 부재(8)는, 지지판(5)과 핫 플레이트(2)를 고정한 상태로 연결하는 것이고, 제2 지지 부재(7)는, 후술하는 바와 같이, 지지판(5)과 핫 플레이트(2)를, 핫 플레이트(2)에 대해 지지판(5)이 수평 방향으로 이동 가능한 상태로 연결하는 것이다.
지지판(5) 상에는, 모터(11)가 배치되어 있다. 이 모터(11)의 구동축에는, 기어(12)가 배치되어 있다. 또, 이 기어(12)는, 지지판(5) 상을 슬라이드 가능한 이동판(10) 상에 배치된 3개의 래크(13) 중 중앙부의 래크(13)와 서로 맞물려 있다. 이 때문에, 모터(11)의 구동에 의해 기어(12)가 회전하였을 때에는, 3개의 래크(13)가 이동판(10)과 함께 도 1 및 도 2에 나타낸 좌우 방향으로 이동한다.
지지판(5) 상을 슬라이드 가능한 이동판(10) 상에 배치된 3개의 래크(13) 중, 좌우의 래크(13)에는, 각각 기어(14)가 서로 맞물려 있다. 도 1에 나타낸 바 와 같이, 이 기어(14)는 축(17)과 연결되어 있고, 이 축(17)의 타단부에도, 래크(13)에 서로 맞물리는 기어(14)와 동일한 기어(14)가 배치되어 있다. 그리고, 이들 4개의 기어(14)는, 각각, 리프트 핀(6)을 지지하는 지지 프레임(4)에 고정된 래크(15)와 서로 맞물려 있다. 이 때문에, 모터(11)의 구동에 의해 기어(12)가 회전하였을 때에는, 리프트 핀(6)이 지지 프레임(4)과 함께 승강하게 된다.
도 3은, 제2 지지 부재(7)의 확대도이다.
이 제2 지지 부재(7)는, 상술한 바와 같이, 핫 플레이트(2)의 베이스부(3)와 지지판(5)을 연결하는 것이고, 그 상부에 플랜지부(24)가 배치된 연결봉(23)을 구비한다. 이 플랜지부(24)는, 베이스부(3)에 대해 연결판(21)을 통해 고정된 브래킷(22) 내에 배치되어 있다. 연결봉(23)은, 브래킷(22)에 뚫어 설치된 구멍부(20)와 관통하고 있다. 그리고, 연결봉(23)의 외경은 구멍부(20)의 내경보다 작아지고 있다. 이 때문에, 연결봉(23)은 구멍부(20) 내를 이동 가능해진다. 따라서, 제2 지지 부재(7)는, 지지판(5)과 핫 플레이트(2)에 있어서의 베이스부(3)를, 핫 플레이트(2)에 대해 지지판(5)이 수평 방향으로 이동 가능한 상태로 연결하게 된다.
이러한 구성을 갖는 리프트 핀 승강 장치에 있어서는, 지지판(5)과 핫 플레이트(2)를 고정한 상태로 연결하는 제1 지지 부재(8)와, 지지판(5)과 핫 플레이트(2)를, 핫 플레이트(2)에 대해 지지판(5)이 수평 방향으로 이동 가능한 상태로 연결하는 제2 지지 부재(7)를 이용하여, 핫 플레이트(2)에 있어서의 베이스부(3)와 지지판(5)을 연결하므로, 핫 플레이트(2)나 지지판(5)에 열변형이 발생한 경우에 있어서도, 연결봉(23)의 외경과 구멍부(20)의 내경의 차에 의해 그 열변형에 기인 하는 응력의 발생을 방지하는 것이 가능해진다. 이 때문에, 열처리 장치의 사이즈가 커진 경우에 있어서도, 열변형의 영향을 방지하여 리프트 핀 선단의 위치를 정확하게 유지하는 것이 가능해진다.
이 때, 제1 지지 부재(8)가 핫 플레이트(2)에 있어서의 중앙부측에 대응하는 위치에 배치되어 있고, 제2 지지 부재(7)가 핫 플레이트(2)에 있어서의 제1 지지 부재(8)보다 외측에 대응하는 위치에 배치되어 있으므로, 제1 지지 부재에 의해 지지판(5)의 위치를 고정하면서, 제2 지지 부재(7)에 의해 응력의 발생을 방지하는 것이 가능해진다.
다음에, 제2 지지 부재(7)의 변형예에 대해 설명한다. 도 4 내지 도 7은, 제2 지지 부재(7)의 변형예를 도시한 개요도이다.
도 4에 나타낸 실시 형태에 있어서는, 핫 플레이트(2)에 있어서의 베이스부(3)와 지지판(5)을 연결하는 지지봉(23)의 상부에, 리니어 가이드(31)를 배치하고 있다. 이 때문에, 베이스부(3)와 지지판(5)은, 도 4에 나타낸 좌우 방향으로 이동 가능해지고 있다. 이 때문에, 이 제2 지지 부재(7)에 의해, 도 1 및 도 2의 좌우 방향과 도 4의 좌우 방향을 일치시킨 상태로 베이스부(3)와 지지판(5)을 연결함으로써, 열변형의 영향을 방지하여 리프트 핀 선단의 위치를 정확하게 유지하는 것이 가능해진다.
도 5에 나타낸 실시 형태에 있어서는, 핫 플레이트(2)에 있어서의 베이스부(3)와 지지판(5)을 연결하는 지지봉(23)의 상부에, 리니어 부시(32)를 배치하고 있다. 이 때문에, 베이스부(3)와 지지판(5)은, 도 5에 나타낸 좌우 방향으로 이동 가능해지고 있다. 이 때문에, 이 제2 지지 부재(7)에 의해, 도 1 및 도 2의 좌우 방향과 도 5의 좌우 방향을 일치시킨 상태로 베이스부(3)와 지지판(5)을 연결함으로써, 열변형의 영향을 방지하여 리프트 핀 선단의 위치를 정확하게 유지하는 것이 가능해진다.
도 6에 나타낸 실시 형태에 있어서는, 핫 플레이트(2)에 있어서의 베이스부(3)와 지지판(5)을 연결하는 지지봉(23)의 상부에, 레일(34) 및 캠 플로워(33)를 배치하고 있다. 이 때문에, 베이스부(3)와 지지판(5)은, 도 6에 나타낸 지면(紙面)에 수직인 방향으로 이동 가능해지고 있다. 이 때문에, 이 제2 지지 부재(7)에 의해, 도 1 및 도 2의 좌우 방향과 도 6의 지면에 수직인 방향을 일치시킨 상태로 베이스부(3)와 지지판(5)을 연결함으로써, 열변형의 영향을 방지하여 리프트 핀 선단의 위치를 정확하게 유지하는 것이 가능해진다.
도 7에 나타낸 실시 형태에 있어서는, 핫 플레이트(2)에 있어서의 베이스부(3)와 지지판(5)을 연결하는 지지봉(23)의 상부에, 레일(35, 36)을 배치하고 있다. 이 때문에, 베이스부(3)와 지지판(5)은, 도 7에 나타낸 지면에 수직인 방향으로 이동 가능해지고 있다. 이 때문에, 이 제2 지지 부재(7)에 의해, 도 1 및 도 2의 좌우 방향과 도 7의 지면에 수직인 방향을 일치시킨 상태로 베이스부(3)와 지지판(5)을 연결함으로써, 열변형의 영향을 방지하여 리프트 핀 선단의 위치를 정확하게 유지하는 것이 가능해진다.
도 1은 본 발명에 따른 리프트 핀 승강 장치의 평면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 리프트 핀 승강 장치의 정면도이다.
도 3은 제2 지지 부재(7)의 확대도이다.
도 4는 제2 지지 부재(7)의 변형예를 도시한 개요도이다.
도 5는 제2 지지 부재(7)의 변형예를 도시한 개요도이다.
도 6은 제2 지지 부재(7)의 변형예를 도시한 개요도이다.
도 7은 제2 지지 부재(7)의 변형예를 도시한 개요도이다.
<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명>
2 : 핫 플레이트 17 : 축
3 : 베이스부 20 : 구멍부
4 : 지지 프레임 21 : 연결판
5 : 지지판 22 : 브래킷
6 : 리프트 핀 23 : 연결봉
7 : 제2 지지 부재 24 : 플랜지부
8 : 제1 지지 부재 31 : 리니어 가이드
10 : 이동판 32 : 리니어 부시
11 : 모터 33 : 캠 플로워
12 : 기어 34 : 레일
13 : 래크 35 : 레일
14 : 기어 36 : 레일
15 : 래크 W : 기판

Claims (3)

  1. 핫 플레이트를 관통하는 복수의 리프트 핀과, 상기 리프트 핀을 핫 플레이트에 대해 승강 구동하는 구동 기구를 구비한 핫 플레이트에 있어서의 리프트 핀 승강 장치로서,
    상기 구동 기구를 지지하는 지지판과,
    상기 지지판과 상기 핫 플레이트를 연결하는 복수의 지지 부재를 구비하고,
    상기 복수의 지지 부재 중 일부는, 상기 지지판과 상기 핫 플레이트를 고정한 상태로 연결하는 제1 지지 부재로 구성되고,
    상기 복수의 지지 부재 중 다른 일부는 상기 지지판과 상기 핫 플레이트를, 상기 핫 플레이트에 대해 상기 지지판이 수평 방향으로 이동 가능한 상태로 연결하는 제2 지지 부재로 구성되는 것을 특징으로 하는 리프트 핀 승강 장치.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 제1 지지 부재 및 상기 제2 지지 부재는, 상기 핫 플레이트로부터 수하(垂下)되는 것이고,
    상기 지지판은, 상기 핫 플레이트에 대해 매달려 지지되는 리프트 핀 승강 장치.
  3. 청구항 1 또는 청구항 2에 있어서,
    상기 제1 지지 부재는, 상기 핫 플레이트에 있어서의 중앙부측에 대응하는 위치에 배치되어 있고,
    상기 제2 지지 부재는, 상기 핫 플레이트에 있어서의 상기 제1 지지 부재보다 외측에 대응하는 위치에 배치되어 있는 리프트 핀 승강 장치.
KR1020080036507A 2007-06-14 2008-04-21 리프트 핀 승강 장치 KR100966231B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007157373A JP2008311407A (ja) 2007-06-14 2007-06-14 リフトピン昇降装置
JPJP-P-2007-00157373 2007-06-14

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080110466A true KR20080110466A (ko) 2008-12-18
KR100966231B1 KR100966231B1 (ko) 2010-06-25

Family

ID=40238768

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020080036507A KR100966231B1 (ko) 2007-06-14 2008-04-21 리프트 핀 승강 장치

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2008311407A (ko)
KR (1) KR100966231B1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101130969B1 (ko) * 2009-09-17 2012-04-03 주성엔지니어링(주) 기판 지지부재와 이를 포함하는 기판 가열 장치
KR101360896B1 (ko) * 2012-07-23 2014-02-17 주식회사 제우스 리프트 핀 승강장치

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6888654B2 (ja) * 2019-08-23 2021-06-16 トヨタ自動車株式会社 積層体保持装置
JP2022002274A (ja) 2020-06-22 2022-01-06 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス 基板処理装置

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH11145025A (ja) * 1997-11-10 1999-05-28 Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd ベーク装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101130969B1 (ko) * 2009-09-17 2012-04-03 주성엔지니어링(주) 기판 지지부재와 이를 포함하는 기판 가열 장치
KR101360896B1 (ko) * 2012-07-23 2014-02-17 주식회사 제우스 리프트 핀 승강장치

Also Published As

Publication number Publication date
KR100966231B1 (ko) 2010-06-25
JP2008311407A (ja) 2008-12-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5068738B2 (ja) 基板処理装置およびその方法
JP5212395B2 (ja) 部品実装用装置および部品実装用装置における基板支持機構の動作状態の判定方法
KR100966231B1 (ko) 리프트 핀 승강 장치
CN105981155A (zh) 基板对准装置及基板对准装置的控制方法
CN209872223U (zh) 升降装置及玻璃基板检测系统
JP5047859B2 (ja) リフトピンユニット及びそれを具備したｘｙステージ装置
JP2005142443A (ja) カセット装置および薄型基板移載システム
KR20130071284A (ko) 기판 이송장치
JP2010056217A (ja) 基板昇降装置および基板処理装置
JP2010195571A (ja) 搬送装置
KR100570477B1 (ko) 기판 지지구조와 그 적재장치 및 로봇 핸드
KR101533022B1 (ko) 반도체 소자 테스트 핸들러의 소자 이송장치
KR101587337B1 (ko) 기판 이송장치용 승강장치 및 이를 포함하는 기판 이송장치
KR101239825B1 (ko) 엘씨디 글래스 적재용 카세트장치
KR20120079982A (ko) 기판 수직 이송장치
JP4711771B2 (ja) 搬送装置および真空処理装置
KR20150008297A (ko) 승강장치 및 이를 포함하는 기판 이송장치
KR101129041B1 (ko) 플렉시블 디스플레이용 홀더 스테이지 및 그 기판 적재 방법
JP2013228170A (ja) 定盤ユニット
JP2009043846A (ja) 基板搬送装置
KR102699257B1 (ko) 기판 처리 장치
JP5115850B2 (ja) 板状ワーク垂直搬送装置
JP6499756B2 (ja) 基板保持装置
KR102706681B1 (ko) 기판 증착 시스템
KR101052750B1 (ko) 기판 이송 모듈 및 이를 포함하는 기판 처리 장치

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
LAPS Lapse due to unpaid annual fee