JP2008310849A - 保護膜形成法及び保護膜を備えた磁気記録媒体 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】非磁性基板上に少なくとも磁性膜を形成したディスク上に、高周波プラズマCVD法でカーボン保護膜を形成する保護膜形成法であって、カーボン保護膜形成における放電初期においては0V〜−200Vのバイアス電圧を印加し、放電終了時においては−200V以下かつ−500Vより大きい電圧を印加することを特徴とする保護膜形成法、および非磁性基板上に少なくとも磁性膜と保護膜を備えた磁気記録媒体であって、前記保護膜が、上記保護膜形成法で形成されたものであることを特徴とする磁気記録媒体。
【選択図】図1
Description
本発明で用いる非磁性基板は、通常磁気記録媒体に用いられる非磁性基板であればいずれも用いることができ、例えば、NiPメッキを施したAl合金や強化ガラス、あるいは、結晶化ガラス等を用いることができる。
保護膜形成時には、非磁性基板上に少なくとも磁性膜を形成した磁気記録媒体6をプロセス室1内に設けられた互いに対向する2つの電極2間に配置する。
高周波プラズマCVD法では、成膜時に用いる成膜ガスに放電ガスと原料ガスを混合して用いるが、原料ガスとしては、アセチレン、エチレン、メタン、エタンなどの炭化水素ガスが好ましく用いられる。
放電ガスとしては、アルゴン、ネオン、キセノンなどの希ガスが好ましく用いられる。
シーケンス例3は、連続的にバイアス電圧を変化させ傾斜的に特性を変化させるものであり、放電パワーはシーケンス例1と同様一定としている。
液体潤滑層は、例えば、ディップコート法にてパーフルオロポリエーテル系液体潤滑剤を塗布することにより得ることができる。
以下の各実施例、比較例においては、基板としてアモルファス強化ガラス基板を用い、その上に、下地膜としてCr合金をスパッタ法により形成し、磁性膜として52Co−26Cr−14Pt−7B/65Co−14Cr−12Pt−9Bの積層膜を形成したものを用い、この上に各実施例に示す手順で保護膜を形成し、その上にディップコート法にてパーフルオロポリエーテル系液体潤滑剤を塗布することにより、磁気記録媒体を作製した。
本実施例における保護膜の形成は、図2シーケンス例1に示すように、バイアス電圧は2段の印加プロセスとし、主電力の放電は1段とした放電及びバイアス電圧印加のシーケンスとした。
2:電極
3:高周波整合回路
4:高周波電源
5:原料ガス供給ライン
6:基板
7:高周波バイアス電源
8:主排気ライン
Claims (5)
- 非磁性基板上に少なくとも磁性膜を形成したディスク上に、高周波プラズマCVD法でカーボン保護膜を形成する保護膜形成法であって、カーボン保護膜形成における放電初期においては0V〜−200Vのバイアス電圧を印加し、放電終了時においては−200V以下かつ−500Vより大きい電圧を印加することを特徴とする保護膜形成法。
- バイアス電圧が2段以上に段階的に変化することを特徴とする請求項1記載の保護膜形成法。
- バイアス電圧が連続的に変化することを特徴とする請求項1記載の保護膜形成法。
- 保護膜の膜厚が0.1nm〜6nmであることを特徴とする請求項1〜3のいずれか1項に記載の保護膜形成法。
- 非磁性基板上に少なくとも磁性膜と保護膜を備えた磁気記録媒体であって、前記保護膜が、請求項1〜4のいずれか1項に記載の保護膜形成法で形成されたものであることを特徴とする磁気記録媒体。
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