JP2008302302A - 塗布膜の乾燥装置および乾燥方法、それらを用いた塗布物の製造装置および製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 塗布膜面に悪影響を与えず蒸発溶剤を取り除き、わずかな乾燥ムラの発生を抑制することができる塗布物の製造装置および製造方法を提供する。
【解決手段】 有機溶剤を含む塗布液を塗布した基材を連続的に搬送し、搬送方向に沿って配置された複数の乾燥ゾーンによって前記塗布液を乾燥させる乾燥装置であって、前記乾燥ゾーンは、複数の穴を有する整風部材によって、前記基材を通すための搬送部と給気口および排気口を有する溶剤除去部に分離され、前記整風部材は各乾燥ゾーンの搬入口側に穴を有しない領域を有することを特徴とする。
【選択図】 図１

Description

本発明は塗布膜の乾燥装置および乾燥方法、それらを用いた塗布物の製造装置および製造方法に関するものである。例えば、反射防止フィルムにおいては、膜厚の相違が光透過率に敏感に反映されることから、誤差１％の以下の膜厚ムラが製品上欠陥として認識される。本発明は、このように精度の厳しい塗布膜の乾燥装置および乾燥方法、それらを用いた塗布物の製造装置および製造方法に関するものである。

近年ウェットコーティング技術を利用して製造される光学フィルム製品には、膜厚精度として誤差１％以下を要求されるような製品が増えてきている。そのような光学フィルムの製造では、一般的に塗布液の溶媒として有機溶剤を使用することが多いが、有機溶剤は水に比べると蒸発速度が速く、塗布後の乾燥過程において精密に乾燥しないと、風紋のようなムラを生じせしめることが知られている。

有機溶剤の乾燥方法として塗膜面に乾燥気体を当てる方法がある。特許文献１では塗膜面に対して平行な風向きでかつ層流として乾燥気体を当てる。特許文献２では塗膜面に対して垂直に乾燥気体を当てる。どちらも乾燥気体は均一な層流であることを特徴とし、複数の穴を有する板状の部材を用いて整流を行っている。このような方法は塗膜の搬送速度が遅い場合には有効であるが、高速になると乾燥風によって塗膜面にムラを生じることが指摘されている。

また、有機溶剤の乾燥方法として塗膜面に乾燥気体を当てない方法が考案されている。特許文献３では塗膜支持体を通すための搬送部と排気口を備えた排気部とを穴の開いた整風部材によって分離し、穴を通して有機溶剤を排気部に逃がす。排気部内部の流動と搬送部の流動は分離されており、乾燥気体は塗膜に接触しない。この方法は塗膜面上の風速不均一を解消する点では優れている。しかし、搬送速度が高速である場合、後述にあるように、塗膜からの有機溶剤蒸発速度が増加するため、蒸発速度の増加に伴う不安定化への対処が不十分である。

以上の処方は塗膜面近傍の物体配置と風速制御によるものである。恒率乾燥域での乾燥速度を支配する因子としては塗膜の搬送速度、有機溶剤分圧、温度などである。塗膜の搬送速度が所与とすれば有機溶剤分圧と温度を変えることで蒸発速度の調節が可能である。

以下に先行技術文献を示す。
特開２００２−３４０４７９号公報 特開２００１−３１４７９９号公報 特開２００３−９３９５４号公報

本発明は上記従来の問題点に鑑みなされたものであり、次のような乾燥装置を提供することを目的とする。

すなわち、本発明の第１の目的は、基材に塗布された有機溶剤を含む塗布膜面に熱風等の送風を直接当てることなく塗布膜面を乾燥させることができる乾燥装置を提供することである。

また、本発明の第２の目的は、基材に塗布された有機溶剤を含む塗布膜面がムラなく乾燥される乾燥装置を提供することである。

さらに、本発明の第３の目的は、有機溶剤を含む塗布液を塗布した基材を連続的に搬送し、且つ、高速で搬送してもムラが生じない乾燥装置を提供することである。

また、本発明の第４の目的は、基材が長尺広幅であっても有機溶剤を含む塗布膜面がムラなく乾燥される乾燥装置を提供することである。

請求項１に記載の発明は、搬送中の帯状の基材に溶剤を含む塗布液を塗布し塗布膜を形成する塗布装置と、前記基材に形成した塗布膜を搬送しながら乾燥する乾燥装置とを有する塗布物の製造装置において、
前記乾燥装置は、少なくとも
前記基材の塗布膜を形成した側に設置された底板と、前記基材の塗布膜を形成した側とは反対側に設置された天板と、右側板と、左側板と、前記塗布膜を搬入する搬入口と、前記塗布膜を搬出する搬出口と、を有する乾燥炉と、
前記乾燥炉を塗布膜の搬送方向に１以上に分割してなる乾燥ゾーンと、
前記搬入口と搬出口とを備え、塗布膜を搬送し、かつ、前記天板側に配置された搬送部と、
前記底板側に配置された溶剤除去部と、
前記搬送部と前記溶剤除去部を分離し、かつ複数の穴を有する平板状の整風部材と、
各乾燥ゾーンの溶剤除去部に配置された給気口と、
各乾燥ゾーンの溶剤除去部の給気口と対向する位置に配置された排気口と、
前記給気口を介して溶剤除去部内へ空気を強制的に給気する給気手段、または、前記排気口を介して溶剤除去部内から空気を強制的に排気する排気手段、または、その両方、から選ばれる気流発生手段と、を備え、
前記整風部材は、各乾燥ゾーンの搬入口側に穴を有しない領域を持つことを特徴とする塗布物の製造装置である。

請求項２に記載の発明は、前記基材の塗布膜を形成した側に設置された整風部材と前記塗布膜との間の、整風部材側間隙の高さＬ１と、
前記基材の塗布膜を形成した側とは反対側に設置された天板と前記基材との間の、天板側間隙の高さＬ２との関係が、
Ｌ１≦Ｌ２であることを特徴とする請求項１に記載の塗布物の製造装置である。

請求項３に記載の発明は、前記給気口と前記排気口の開口部の高さが前記底板と整風部材との距離とほぼ一致していることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の塗布物の製造装置である。

請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれかに記載の製造装置を用いて形成したことを特徴とする光学フィルムである。

請求項５に記載の発明は、搬送中の帯状の基材に溶剤を含む塗布液を塗布し塗布膜を形成する塗布工程と、次に、前記基材に形成した塗布膜を乾燥炉内で搬送しながら乾燥する乾燥工程とを有する塗布物の製造方法において、
前記乾燥炉は、前記基材の塗布膜を形成した側に設置された底板と、前記基材の塗布膜を形成した側とは反対側に設置された天板と、右側板と、左側板と、前記塗布膜が搬入される搬入口と、前記塗布膜を搬出する搬出口と、を有し、かつ、塗布膜の搬送方向に１以上の乾燥ゾーンに分割されており、
前記搬送中の帯状の基材に溶剤を含む塗布液を塗布し塗布膜を形成する塗布工程と、
次に、前記塗布工程の塗布部から塗布膜を最初に搬入する乾燥ゾーンの搬入口まで塗布膜を搬送する搬送工程と、
次に、前記塗布膜を最初に搬入する乾燥ゾーンの搬入口へ搬入する搬入工程と、
次に、搬入口と搬出口とを備え、塗布膜を搬送し、かつ、前記天板側に配置された搬送部と、底板側に配置された溶剤除去部と、搬送部と溶剤除去部を分離し複数の穴を有する平板状の整風部材と、各乾燥ゾーンの溶剤除去部に配置された給気口と、各乾燥ゾーンの溶剤除去部の給気口と対向する位置に配置された排気口と、前記給気口を介して溶剤除去部内へ空気を強制的に給気する給気手段、または、前期排気口を介して溶剤除去部内から空気を強制的に排気する排気手段、または、その両方、から選ばれる気流発生手段と、を備え、塗布膜の搬送方向に分割されている複数の乾燥ゾーン内を搬送しながら乾燥する乾燥工程と、
次に、前記塗布膜を最後に搬出する乾燥ゾーンの搬出口から搬出する搬出工程と、
を有し、
前記整風部材が、各乾燥ゾーンの搬入口側に穴を有しない領域を持つことを特徴とする塗布物の製造方法である。

請求項６に記載の発明は、搬送中の帯状の基材に溶剤を含む塗布液を塗布し塗布膜を形成し、前記基材に形成した塗布膜を搬送しながら乾燥する乾燥装置において、
少なくとも
前記基材の塗布膜を形成した側に設置された底板と、前記基材の塗布膜を形成した側とは反対側に設置された天板と、右側板と、左側板と、前記塗布膜を搬入する搬入口と、前記塗布膜を搬出する搬出口と、を有する乾燥炉と、
前記乾燥炉を塗布膜の搬送方向に１以上に分割してなる乾燥ゾーンと、
前記搬入口と搬出口とを備え、塗布膜を搬送し、かつ、前記天板側に配置された搬送部と、
前記底板側に配置された溶剤除去部と、
前記搬送部と前記溶剤除去部を分離し、かつ複数の穴を有する平板状の整風部材と、
各乾燥ゾーンの溶剤除去部に配置された給気口と、
各乾燥ゾーンの溶剤除去部の給気口と対向する位置に配置された排気口と、
前記給気口を介して溶剤除去部内へ空気を強制的に給気する給気手段、または、前記排気口を介して溶剤除去部内から空気を強制的に排気する排気手段、または、その両方、から選ばれる気流発生手段と、を備え、
前記整風部材は、各乾燥ゾーンの搬入口側に穴を有しない領域を持つことを特徴とする塗布膜の乾燥装置である。

請求項７に記載の発明は、搬送中の帯状の基材に溶剤を含む塗布液を塗布し塗布膜を形成する塗布工程と、次に、前記基材に形成した塗布膜を乾燥炉内で搬送しながら乾燥する乾燥工程とを有する塗布膜の乾燥方法において、
前記乾燥炉は、前記基材の塗布膜を形成した側に設置された底板と、前記基材の塗布膜を形成した側とは反対側に設置された天板と、右側板と、左側板と、前記塗布膜が搬入される搬入口と、前記塗布膜を搬出する搬出口と、を有し、かつ、塗布膜の搬送方向に１以上の乾燥ゾーンに分割されており、
前記搬送中の帯状の基材に溶剤を含む塗布液を塗布し塗布膜を形成する塗布工程と、
次に、前記塗布工程の塗布部から塗布膜を最初に搬入する乾燥ゾーンの搬入口まで塗布膜を搬送する搬送工程と、
次に、前記塗布膜を最初に搬入する乾燥ゾーンの搬入口へ搬入する搬入工程と、
次に、搬入口と搬出口とを備え、塗布膜を搬送し、かつ、天板側に配置された搬送部と、底板側に配置された溶剤除去部と、搬送部と溶剤除去部を分離し複数の穴を有する平板状の整風部材と、各乾燥ゾーンの溶剤除去部に配置された給気口と、各乾燥ゾーンの溶剤除去部の給気口と対向する位置に配置された排気口と、前記給気口を介して溶剤除去部内へ空気を強制的に給気する給気手段、または、前期排気口を介して溶剤除去部内から空気を強制的に排気する排気手段、または、その両方、から選ばれる気流発生手段と、を備え、塗布膜の搬送方向に分割されている複数の乾燥ゾーン内を搬送しながら乾燥する乾燥工程と、
次に、前記塗布膜を最後に搬出する乾燥ゾーンの搬出口から搬出する搬出工程と、
を有し、
前記整風部材が、各乾燥ゾーンの搬入口側に穴を有しない領域を持つことを特徴とする塗布膜の乾燥方法である。

本発明における塗布物の製造装置および製造方法を使用することにより、塗布膜中の有機溶剤の蒸発速度を安定化し、わずかな乾燥ムラの発生をも抑制することができる。

以下、本発明の一実施形態について、図面を参照して説明する。
図１は、本発明における塗布物の製造装置を側面から見たときの側面概略図である。塗布装置１ａの塗布部１ｂにおいて基材４上に塗布膜が塗布される。塗布膜が形成された基材４は乾燥装置２の乾燥炉２ａに搬送される。乾燥炉２ａは、乾燥ゾーン３ａ〜３ｄの４ゾーンを備え、各乾燥ゾーン３ａ〜３ｄは、搬入口と搬出口とを有し、塗布膜を搬送し、かつ、底板１０側に配置された溶剤除去部７と、天板９側に配置された搬送部６と、搬送部６と溶剤除去部７とを分離する整風部材８と、各乾燥ゾーンの溶剤除去部７側に配置された給気口１３と、図示していないが溶剤除去部７の給気口１３と対向する位置に配置された排気口と、図示していないが給気口１３を介して溶剤除去部７内へ空気を強制的に給気する給気手段と、同じく図示していないが排気口を介して溶剤除去部７内から空気を強制的に排気する排気手段から構成されている。

図１における本発明の乾燥装置２では、基材４に形成された塗布膜が乾燥ゾーン３ａ〜３ｄの搬送部６内に搬送される。塗布膜中の溶剤が搬送部６内において蒸発し、蒸発した溶剤は整風部材８を介して溶剤除去部７へ移動し、給気手段、または、排気手段、または、その両方のいずれかより選ばれる気流発生手段を用いて溶剤除去部７内に発生させた空気の流れによって、蒸発した溶剤は溶剤除去部７内に留まることなく乾燥ゾーン３ａ〜３ｄ外へ放出される。

図１に示された乾燥ゾーン３ａ〜３ｄでは、給気口１３が塗布膜の搬送方向に向って右側に設置された右側板に配置されており、排気口１４が給気口１３と対向する左側板に配置されており、給気手段、または、排気手段、または、その両方を用いて乾燥ゾーン３ａ〜３ｄの溶剤除去部７内に空気の流れを発生させている。したがって、乾燥ゾーン３ａ〜３ｄの溶剤除去部７内における空気の流れ１５は、図２に示したような向きになっているが、これは本発明の一実施形態を表したものであり、給気口１３が左側板に配置され排気口１４が給気口１３と対向する右側板に配置されていてもかまわない。

本発明における整風部材８は、穴が全く設けられていない領域８ａと複数の穴が設けられた領域８ｂを有している。整風部材８の領域８ａおよび領域８ｂの配置パターンは、各乾燥ゾーンの搬入口側に穴のない領域８ａが、搬出口側に穴のある領域８ｂが、搬送方向に縞状に交互になるようなものとなっている。

このため、基材４が各乾燥ゾーン３ａ〜３ｄに搬送されたとき、その搬入口近傍や内部に乱流が発生せず、かつ、均一に気体流動が維持される。そして、塗布膜面がムラなく乾燥される。

本発明における整風部材８は、領域８ａでは金網、パンチングメタルなど、複数の穴を有する板状の部材を、領域８ｂでは穴のあいていない通常の平板を組み合わせて利用することができる。また、整風部材８の全領域で、複数の穴を有する板状の部材を使用しておき、必要な領域の穴をふさぐようにしてもよい。

ただし、いずれの場合も、領域８ａと領域８ｂの境界箇所に段差があると、空気の流れを乱す原因となることがある。したがって整風部材８全領域と塗布膜４との距離が一様となるようにしておくことが望ましい。
ここで挙げた整風部材８は、本発明における実施例の一つであり、これに限定するものではない。

図１に示す乾燥装置では、給気口１３が右側板に配置され、排気口１４が給気口１３と対向する左側板に配置されており、塗布膜の搬送方向に向って右側から左側に空気の流れが発生しているが、これは本発明の一実施形態を表したものであり、塗布膜の搬送方向に向って左側から右側に空気の流れが発生していてもよく、隣接する乾燥ゾーンごとに空気の流れの向きを変えてもよい。また、塗布膜の搬送方向と平行に空気の流れが発生していてもよい。

図２は、図１に示された乾燥装置のＡ−Ａ’断面概略図である。乾燥ゾーン３ａの右側板に給気口の開口部１７を有する給気口１３が設置されており、乾燥ゾーン３ａの左側板の給気口１３と対向する位置に排気口の開口部１７を有する排気口１４が設置されている。本発明では、給気口１３から給気手段を用いて溶剤除去部７内へ空気を給気し、排気口１４から排気手段を用いて溶剤除去部７内から空気を排気している。つまり、給気口１３から排気口１４に向かって、塗布膜５の搬送方向と垂直に空気の流れ１５を発生させている。

このとき、整風部材８と基材４に形成した塗布膜５との整風部材側間隙の高さＬ１と、基材４と天板９との天板側間隙の高さＬ２が、Ｌ１≦Ｌ２の関係になっていることが好ましい。Ｌ１≦Ｌ２の関係を満たすとき、外乱となる風は基材４と天板９との間に流れ込むのが主流になるため、塗布膜５面に外乱となる風が当たり難く、面性と生産性を向上することができる。

図１において、基材４に形成された塗布膜は、最初に搬入する乾燥ゾーン３ａの搬入口１１から最初の乾燥ゾーン３ａ内へ搬入され、最後に搬出する乾燥ゾーン３ｄの搬出口１２から乾燥ゾーン３ｄ外へ搬出される。図１では、乾燥ゾーン３ａ〜３ｄの４ゾーンが直線的に配置されているが、これは本発明の一実施形態を表したものであり、塗布膜の搬送方向に沿って１ゾーン以上配置されていればよい。また、隣接する各乾燥ゾーンは直線的に配置されていても、屈折して配置されていてもよい。

また、図１では、乾燥ゾーン３ａ〜３ｄに給気口１３と排気口１４が１個ずつ配置されているが、これは本発明の一実施形態を表したものであり、これに限定されるものではなく、各乾燥ゾーンに対して配置される給気口１３および排気口１４の個数に制限はない。

図２に示すように、給気口１３の開口部１６の高さ（基材面に対し垂直方向の口径）と排気口１４の開口部１７（基材面に対し垂直方向の口径）の高さは、底板１０と整風部材８との距離（基材面に対し垂直方向）とほぼ一致していることが好ましい。こうすることで、給気口１３と排気口１４間に発生する空気の流れ１５が、底板１０と整風部材８との間、つまり、溶剤除去部７内に一様に発生し、安定的に塗布膜５から蒸発する溶剤を除去することができる。

本発明における塗布装置１ａは、グラビア、ワイヤーバー、ダイ等を用いることができるが、これらに限定されるものではない。

本発明における乾燥ゾーンは、乾燥ゾーン外から吹き込む風や塵等の外乱を防止するためにある程度密封された箱型の形状をしている。塗布膜５を搬入する搬入口と、塗布膜５を搬出し搬入口に対向して設置された搬出口と、基材４の塗布膜５を形成したのと反対側に設置された天板９と、基材４を挟んで天板９と対向して設置された底板１０と、塗布膜５の搬送方向に向って右側であり、塗布膜５の幅方向に設置された右側板と、右側板と対向して設置された左側板とで構成されている。ここで、搬送される基材４に対し、重力方向上面側に塗布膜５が形成されているか、下面側に塗布膜５が形成されているかは関係ない。

本発明における給気手段と排気手段としては、一般的にブロアが用いられるが、給気量および排気量を調節できるものであればブロアに限定されるものではない。

本発明における乾燥装置２の長さ（基材の搬送方向）は、特に制約すべき事項ではない。乾燥装置２の長さは塗布膜が乾燥するかどうかで決定されるものであり、製品によって異なるものである。ただし、本発明では、１ｍ以上〜１００ｍ以下程度の一般的な長さの乾燥装置２を用いている。
また、本発明における乾燥ゾーンの長さ（基材の搬送方向）としては、３０ｃｍ以上３０ｍ以下程度のものを用いている。

本発明における基材４の搬送速度は制約すべき事項ではないが、１０ｍ／ｍｉｎ以上〜１００ｍ／ｍｉｎ以下程度の一般的な速度が好ましい。

本発明における乾燥装置２は、塗布膜面に悪影響を与えず蒸発溶剤を取り除き、わずかな乾燥ムラの発生を抑制することができるため、その効果が最も現れるのは乾燥初期である。乾燥装置の全長すべてが本発明の乾燥装置２によるものではなく、基材に形成された塗布膜を最初に搬入する乾燥ゾーンの搬入口を含む乾燥初期段階のみに本発明の乾燥装置２を導入することも可能である。その場合、図１に示すように、前半部に第一乾燥装置として本発明の乾燥装置２を導入し、後半部に第二乾燥装置１８として公知の乾燥装置を導入してもよい。

第二乾燥装置１８としては、スリットノズルやパンチングメタルから基材に形成された塗布膜に温度を上昇させた噴流を当てるような方式を導入しても良いし、クイックリターン方式のノズルや基材の搬送方向に平行流を流す方式のノズルから熱風を噴出する方式でも良い。また、片面だけでなく両面から加熱手段を設けても良い。市販されているいかなる乾燥装置を使用しても本発明の効果をさまたげるものではない。

さらに、図１には本発明の乾燥装置２と公知の第二乾燥装置１８をそれぞれの装置として独立させる場合を示しているが、一つの乾燥装置の中で、前半部が本発明の乾燥装置による方式をとり、後半部が公知の乾燥装置に基づく方式をとる場合でも本発明の効果は変わらない。

本発明の塗布膜の乾燥装置および乾燥方法、これらを用いた塗布物の製造装置および製造方法は、様々な製品に対して用いることができるが、近年需要が伸びている光学フィルムのようなこれまで以上にムラに対する許容余地の少ない製品に効果的である。

ここで、光学フィルムとは透過光や反射光の方向、位相、偏光面等を制御するフィルムであり、例えば、液晶やプラズマディスプレイなどの表示装置の最表面またはその内側に使用されるフィルムであり、ハードコートフィルム、反射防止フィルム、防眩性フィルム、光学補償フィルム、光拡散フィルムなどが挙げられる。

また、本発明に用いられる溶剤としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、２−メトキシエタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチル等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、ジイソプロピルエーテル等のエーテル類、エチレングリコール、プロピレングリコール、ヘキシレングリコール等のグリコール類、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、エチルカルビトール・ブチルカルビトール等のグリコールエーテル類、ヘキサン、ヘプタン・オクタン等の脂肪族炭化水素類、ハロゲン化炭化水素、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド等が挙げられ、１種、または、２種類以上の混合物として用いてよいが、これらに限定されるものではない。

本発明の塗布液に用いられるバインダーとしては、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などの電離放射線硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等が挙げられ、電離放射線硬化性樹脂等には光重合開始剤が含まれる。

電離放射線硬化性樹脂としては、多価アルコールのアクリル酸またはメタクリル酸エステルのような多官能性のアクリレート樹脂、ジイソシアネート、多価アルコール及びアクリル酸またはメタクリル酸のヒドロキシエステル等から合成されるような多官能のウレタンアクリレート樹脂等が挙げられる。またこれらの他にも、アクリレート系の官能基を有するポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も使用することができる。

熱硬化性樹脂としては、熱硬化型ウレタン樹脂、フェノール樹脂、尿素メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、シリコーン樹脂等が挙げられる。

光重合開始剤としては、活性エネルギー線が照射された際にラジカルを発生するものであればよく、例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル［４−（メチルチオ）フェニル］モルフォリノプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ベンゾフェノン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。光重合開始剤の添加量は、活性エネルギー線硬化単量体１０〜８０質量部に対して、０．１〜１０質量部が好ましく、１〜７質量部がより好ましく、１〜５質量部がさらに好ましい。

本発明に用いられる基材としては、用途によって様々なものを使用することができる。基材を構成する成分としては、例えば、アセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フルイム、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系フィルム等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、基材は、単層からなっていても複数層からなっていてもよい。なお、基材の厚さは一般的に１０μｍ以上５００μｍ以下のものが用いられる。

以下に、本発明の実施例について具体的に説明する。本発明はこれらに限定される訳ではない。まず、乾燥ゾーン内の搬送部と溶剤除去部を分離する整風部材としては、搬送方向に幅が２０ｍｍと５０ｍｍ及び５００ｍｍの穴を有しない部材と、搬送方向に幅が９８０ｍｍ、９５０ｍｍ、５００ｍｍの穴を有する部材を組み合わせて作製した。

基材には、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート樹脂フィルムを使用し、その表面に、酢酸エチルを含む、固形分濃度５０ｗｔ％のポリビニルアルコール（ＰＶＡ）塗布液をダイコーティングで３０μｍ（ウエット膜厚）塗布した。

そして、塗布した直後に、図１に示した本発明の乾燥装置を使用して乾燥を行った。乾燥装置は、整風部材の複数の穴が設けられている領域の開口率７０％、塗布膜面と整風部材の距離Ｌ１は１０ｍｍ、基材と天板との距離Ｌ２は１５ｍｍ、各乾燥ゾーンの排気風速は０．１５ｍ／秒に設定した。

上記設定した本発明の乾燥装置に塗布液が塗布された基材を搬送速度１０ｍ／分と２０ｍ／分で搬送し塗布膜面を乾燥した。そして、乾燥した塗布膜面のムラの程度を目視で観察した。その結果については表１に示す。

尚、目視での観察は塗布膜面を乾燥して巻き取った後におこなった。

表１より基材の搬送速度が２０ｍ／分の場合、穴を有しない部材の幅が２０ｍｍでは不十分であり５０ｍｍ以上必要であることが分かった。

本発明の塗布膜の製造装置を側面から見たときの側面概略図。 図１に示された乾燥装置の断面概略図。

符号の説明

１ａ 塗布装置
１ｂ 塗布部
２ 乾燥装置
２ａ 乾燥炉
３ａ〜３ｄ 乾燥ゾーン
４ 基材
５ 塗布膜
６ 搬送部
７ 溶剤除去部
８ 整風部材
８ａ 整風部材ののうち穴の開いていない領域
８ｂ 整風部材ののうち穴の開いている領域
９ 天板
１０ 底板
１１ 最初に搬入する乾燥ゾーンの搬入口
１２ 最後に搬出する乾燥ゾーンの搬出口
１３ 給気口
１４ 排気口
１５ 空気の流れ
１６ 給気口の開口部
１７ 排気口の開口部
１８ 第二乾燥装置
１９ 塗布膜の搬送方向

Claims (7)

1. 搬送中の帯状の基材に溶剤を含む塗布液を塗布し塗布膜を形成する塗布装置と、前記基材に形成した塗布膜を搬送しながら乾燥する乾燥装置とを有する塗布物の製造装置において、
   前記乾燥装置は、少なくとも
   前記基材の塗布膜を形成した側に設置された底板と、前記基材の塗布膜を形成した側とは反対側に設置された天板と、右側板と、左側板と、前記塗布膜を搬入する搬入口と、前記塗布膜を搬出する搬出口と、を有する乾燥炉と、
   前記乾燥炉を塗布膜の搬送方向に１以上に分割してなる乾燥ゾーンと、
   前記搬入口と搬出口とを備え、塗布膜を搬送し、かつ、前記天板側に配置された搬送部と、
   前記底板側に配置された溶剤除去部と、
   前記搬送部と前記溶剤除去部を分離し、かつ複数の穴を有する平板状の整風部材と、
   各乾燥ゾーンの溶剤除去部に配置された給気口と、
   各乾燥ゾーンの溶剤除去部の給気口と対向する位置に配置された排気口と、
   前記給気口を介して溶剤除去部内へ空気を強制的に給気する給気手段、または、前記排気口を介して溶剤除去部内から空気を強制的に排気する排気手段、または、その両方、から選ばれる気流発生手段と、を備え、
   前記整風部材は、各乾燥ゾーンの搬入口側に穴を有しない領域を持つことを特徴とする塗布物の製造装置。
2. 前記基材の塗布膜を形成した側に設置された整風部材と前記塗布膜との間の、整風部材側間隙の高さＬ１と、
   前記基材の塗布膜を形成した側とは反対側に設置された天板と前記基材との間の、天板側間隙の高さＬ２との関係が、
   Ｌ１≦Ｌ２であることを特徴とする請求項１に記載の塗布物の製造装置。
3. 前記給気口と前記排気口の開口部の高さが前記底板と整風部材との距離とほぼ一致していることを特徴とする請求項１〜２のいずれかに記載の塗布物の製造装置。
4. 請求項１〜３のいずれかに記載の製造装置を用いて形成したことを特徴とする光学フィルム。
5. 搬送中の帯状の基材に溶剤を含む塗布液を塗布し塗布膜を形成する塗布工程と、次に、前記基材に形成した塗布膜を乾燥炉内で搬送しながら乾燥する乾燥工程とを有する塗布物の製造方法において、
   前記乾燥炉は、前記基材の塗布膜を形成した側に設置された底板と、前記基材の塗布膜を形成した側とは反対側に設置された天板と、右側板と、左側板と、前記塗布膜が搬入される搬入口と、前記塗布膜を搬出する搬出口と、を有し、かつ、塗布膜の搬送方向に１以上の乾燥ゾーンに分割されており、
   前記搬送中の帯状の基材に溶剤を含む塗布液を塗布し塗布膜を形成する塗布工程と、
   次に、前記塗布工程の塗布部から塗布膜を最初に搬入する乾燥ゾーンの搬入口まで塗布膜を搬送する搬送工程と、
   次に、前記塗布膜を最初に搬入する乾燥ゾーンの搬入口へ搬入する搬入工程と、
   次に、搬入口と搬出口とを備え、塗布膜を搬送し、かつ、前記天板側に配置された搬送部と、底板側に配置された溶剤除去部と、搬送部と溶剤除去部を分離し複数の穴を有する平板状の整風部材と、各乾燥ゾーンの溶剤除去部に配置された給気口と、各乾燥ゾーンの溶剤除去部の給気口と対向する位置に配置された排気口と、前記給気口を介して溶剤除去部内へ空気を強制的に給気する給気手段、または、前期排気口を介して溶剤除去部内から空気を強制的に排気する排気手段、または、その両方、から選ばれる気流発生手段と、を備え、塗布膜の搬送方向に分割されている複数の乾燥ゾーン内を搬送しながら乾燥する乾燥工程と、
   次に、前記塗布膜を最後に搬出する乾燥ゾーンの搬出口から搬出する搬出工程と、
   を有し、
   前記整風部材が、各乾燥ゾーンの搬入口側に穴を有しない領域を持つことを特徴とする塗布物の製造方法。
6. 搬送中の帯状の基材に溶剤を含む塗布液を塗布し塗布膜を形成し、前記基材に形成した塗布膜を搬送しながら乾燥する乾燥装置において、
   少なくとも
   前記基材の塗布膜を形成した側に設置された底板と、前記基材の塗布膜を形成した側とは反対側に設置された天板と、右側板と、左側板と、前記塗布膜を搬入する搬入口と、前記塗布膜を搬出する搬出口と、を有する乾燥炉と、
   前記乾燥炉を塗布膜の搬送方向に１以上に分割してなる乾燥ゾーンと、
   前記搬入口と搬出口とを備え、塗布膜を搬送し、かつ、前記天板側に配置された搬送部と、
   前記底板側に配置された溶剤除去部と、
   前記搬送部と前記溶剤除去部を分離し、かつ複数の穴を有する平板状の整風部材と、
   各乾燥ゾーンの溶剤除去部に配置された給気口と、
   各乾燥ゾーンの溶剤除去部の給気口と対向する位置に配置された排気口と、
   前記給気口を介して溶剤除去部内へ空気を強制的に給気する給気手段、または、前記排気口を介して溶剤除去部内から空気を強制的に排気する排気手段、または、その両方、から選ばれる気流発生手段と、を備え、
   前記整風部材は、各乾燥ゾーンの搬入口側に穴を有しない領域を持つことを特徴とする塗布膜の乾燥装置。
7. 搬送中の帯状の基材に溶剤を含む塗布液を塗布し塗布膜を形成する塗布工程と、次に、前記基材に形成した塗布膜を乾燥炉内で搬送しながら乾燥する乾燥工程とを有する塗布膜の乾燥方法において、
   前記乾燥炉は、前記基材の塗布膜を形成した側に設置された底板と、前記基材の塗布膜を形成した側とは反対側に設置された天板と、右側板と、左側板と、前記塗布膜が搬入される搬入口と、前記塗布膜を搬出する搬出口と、を有し、かつ、塗布膜の搬送方向に１以上の乾燥ゾーンに分割されており、
   前記搬送中の帯状の基材に溶剤を含む塗布液を塗布し塗布膜を形成する塗布工程と、
   次に、前記塗布工程の塗布部から塗布膜を最初に搬入する乾燥ゾーンの搬入口まで塗布膜を搬送する搬送工程と、
   次に、前記塗布膜を最初に搬入する乾燥ゾーンの搬入口へ搬入する搬入工程と、
   次に、搬入口と搬出口とを備え、塗布膜を搬送し、かつ、天板側に配置された搬送部と、底板側に配置された溶剤除去部と、搬送部と溶剤除去部を分離し複数の穴を有する平板状の整風部材と、各乾燥ゾーンの溶剤除去部に配置された給気口と、各乾燥ゾーンの溶剤除去部の給気口と対向する位置に配置された排気口と、前記給気口を介して溶剤除去部内へ空気を強制的に給気する給気手段、または、前期排気口を介して溶剤除去部内から空気を強制的に排気する排気手段、または、その両方、から選ばれる気流発生手段と、を備え、塗布膜の搬送方向に分割されている複数の乾燥ゾーン内を搬送しながら乾燥する乾燥工程と、
   次に、前記塗布膜を最後に搬出する乾燥ゾーンの搬出口から搬出する搬出工程と、
   を有し、
   前記整風部材が、各乾燥ゾーンの搬入口側に穴を有しない領域を持つことを特徴とする塗布膜の乾燥方法。

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