JP2008292761A - 露光装置及びデバイス製造方法 - Google Patents

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102455605A (zh) * 2010-10-19 2012-05-16 Asml荷兰有限公司 气体歧管、用于光刻设备的模块、光刻设备和器件制造方法
JP2013250541A (ja) * 2012-06-04 2013-12-12 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
JP2014157892A (ja) * 2013-02-15 2014-08-28 Canon Inc 露光装置、それを用いたデバイスの製造方法
JP2016095412A (ja) * 2014-11-14 2016-05-26 キヤノン株式会社 露光装置、および物品の製造方法
KR20210100528A (ko) * 2020-02-06 2021-08-17 캐논 가부시끼가이샤 광학장치, 노광장치, 및 물품의 제조방법

Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06120113A (ja) * 1992-10-08 1994-04-28 Sharp Corp 投影露光装置
JPH0757986A (ja) * 1993-06-30 1995-03-03 Nikon Corp 露光装置
JPH0845824A (ja) * 1994-08-03 1996-02-16 Toshiba Corp 露光装置
JPH0845827A (ja) * 1994-07-28 1996-02-16 Canon Inc 投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
JPH09270384A (ja) * 1996-03-29 1997-10-14 Nikon Corp 温度制御装置及び露光装置
JP2000306807A (ja) * 1999-04-20 2000-11-02 Nikon Corp 露光装置、露光方法、及び半導体デバイスの製造方法
JP2001297972A (ja) * 2000-04-14 2001-10-26 Canon Inc 光学装置および光学装置の汚染防止方法
JP2004080059A (ja) * 2003-11-26 2004-03-11 Oki Electric Ind Co Ltd 投影露光装置及び投影露光方法
JP2005064391A (ja) * 2003-08-19 2005-03-10 Canon Inc 光学部材の冷却方法、冷却装置、露光装置、及び、デバイスの製造方法
JP2005203522A (ja) * 2004-01-14 2005-07-28 Nikon Corp 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2006041522A (ja) * 2004-07-22 2006-02-09 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置および装置製造方法
JP2006147778A (ja) * 2004-11-18 2006-06-08 Nikon Corp 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
JP2007027632A (ja) * 2005-07-21 2007-02-01 Nikon Corp 光学装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法

Patent Citations (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06120113A (ja) * 1992-10-08 1994-04-28 Sharp Corp 投影露光装置
JPH0757986A (ja) * 1993-06-30 1995-03-03 Nikon Corp 露光装置
JPH0845827A (ja) * 1994-07-28 1996-02-16 Canon Inc 投影露光装置及びそれを用いた半導体デバイスの製造方法
JPH0845824A (ja) * 1994-08-03 1996-02-16 Toshiba Corp 露光装置
JPH09270384A (ja) * 1996-03-29 1997-10-14 Nikon Corp 温度制御装置及び露光装置
JP2000306807A (ja) * 1999-04-20 2000-11-02 Nikon Corp 露光装置、露光方法、及び半導体デバイスの製造方法
JP2001297972A (ja) * 2000-04-14 2001-10-26 Canon Inc 光学装置および光学装置の汚染防止方法
JP2005064391A (ja) * 2003-08-19 2005-03-10 Canon Inc 光学部材の冷却方法、冷却装置、露光装置、及び、デバイスの製造方法
JP2004080059A (ja) * 2003-11-26 2004-03-11 Oki Electric Ind Co Ltd 投影露光装置及び投影露光方法
JP2005203522A (ja) * 2004-01-14 2005-07-28 Nikon Corp 露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法
JP2006041522A (ja) * 2004-07-22 2006-02-09 Asml Netherlands Bv リソグラフィ装置および装置製造方法
JP2006147778A (ja) * 2004-11-18 2006-06-08 Nikon Corp 露光装置及びマイクロデバイスの製造方法
JP2007027632A (ja) * 2005-07-21 2007-02-01 Nikon Corp 光学装置及び露光装置、並びにデバイス製造方法

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102455605A (zh) * 2010-10-19 2012-05-16 Asml荷兰有限公司 气体歧管、用于光刻设备的模块、光刻设备和器件制造方法
US8675169B2 (en) 2010-10-19 2014-03-18 Asml Netherlands B.V. Gas manifold, module for a lithographic apparatus, lithographic apparatus and device manufacturing method
JP2013250541A (ja) * 2012-06-04 2013-12-12 Canon Inc 露光装置及びデバイス製造方法
JP2014157892A (ja) * 2013-02-15 2014-08-28 Canon Inc 露光装置、それを用いたデバイスの製造方法
JP2016095412A (ja) * 2014-11-14 2016-05-26 キヤノン株式会社 露光装置、および物品の製造方法
KR20210100528A (ko) * 2020-02-06 2021-08-17 캐논 가부시끼가이샤 광학장치, 노광장치, 및 물품의 제조방법
JP2021124634A (ja) * 2020-02-06 2021-08-30 キヤノン株式会社 光学装置、露光装置、及び物品の製造方法
JP7427461B2 (ja) 2020-02-06 2024-02-05 キヤノン株式会社 露光装置、及び物品の製造方法
KR102818067B1 (ko) 2020-02-06 2025-06-11 캐논 가부시끼가이샤 광학장치, 노광장치, 및 물품의 제조방법

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