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Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5677076B2 (ja) * 2010-01-07 2015-02-25 キヤノン株式会社 フォトマスクデータの生成方法、その作製方法、そのためのプログラム、固体撮像装置の製造方法、および、マイクロレンズアレイの製造方法
JP6409498B2 (ja) * 2014-10-24 2018-10-24 大日本印刷株式会社 パターンデータの作製方法
JP6701924B2 (ja) * 2016-04-27 2020-05-27 凸版印刷株式会社 フォトマスクにおけるパターンデータの生成方法及びそのためのプログラム並びにそれを用いたフォトマスク及びマイクロレンズの製造方法
JP2018133575A (ja) * 2018-03-08 2018-08-23 ソニー株式会社 固体撮像装置、電子機器、及び、固体撮像装置の製造方法
JP2023138232A (ja) * 2022-03-17 2023-10-02 株式会社東芝 フォトマスク、レンズの製造方法、及び光検出器の製造方法

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5310623A (en) * 1992-11-27 1994-05-10 Lockheed Missiles & Space Company, Inc. Method for fabricating microlenses
JP3342715B2 (ja) * 1992-09-28 2002-11-11 大日本印刷株式会社 フレネルレンズシート
US5576827A (en) * 1994-04-15 1996-11-19 Micromeritics Instrument Corporation Apparatus and method for determining the size distribution of particles by light scattering
JPH10142411A (ja) * 1996-11-06 1998-05-29 Canon Inc 回折光学素子およびその製造方法
JPH1117945A (ja) * 1997-06-20 1999-01-22 Sharp Corp 画像処理装置
JP4557373B2 (ja) * 2000-06-13 2010-10-06 リコー光学株式会社 濃度分布マスクを用いた３次元構造体製造方法
JP4515012B2 (ja) * 2002-08-07 2010-07-28 大日本印刷株式会社 パターンデータの作製方法およびフォトマスク
JP5031173B2 (ja) * 2003-03-26 2012-09-19 大日本印刷株式会社 撮像装置と撮像装置におけるマイクロレンズの形成方法
JP4629473B2 (ja) * 2005-03-25 2011-02-09 大日本印刷株式会社 固体撮像素子の製造方法
JP2007013640A (ja) * 2005-06-30 2007-01-18 Brother Ind Ltd 画像処理装置
JP2008268378A (ja) * 2007-04-17 2008-11-06 Canon Inc マスクパターンデータの生成方法、情報処理装置、フォトマスク及びその作製システム並びに撮像素子

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