JP6701924B2 - フォトマスクにおけるパターンデータの生成方法及びそのためのプログラム並びにそれを用いたフォトマスク及びマイクロレンズの製造方法 - Google Patents
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Description
r=k1・λ/NA (式1)
以下、本発明の実施例1に係るフォトマスクにおけるパターンデータを生成する方法を説明する。図4は、フォトマスクにおいて分割数を変えてドットパターンを生成した場合における、ウエハ上の位置に対する透過率の露光プロファイルのシミュレーション結果を示す図である。図4(a)、図4(b)、図4(c)は、それぞれ、分割数が12、16、24であり、同じ設計ターゲットを用いている。図4(a)乃至図4(c)における設計ターゲットでは、露光波長λを248nmとし、中心透過率が20%であって四隅透過率が60%の放物面形状とし、パターン形成領域の一辺が3600nmであって1/4に縮小投影し、拡がり半径rを265nmとした(k1=0.61、NA=0.57)。ここで、図4(a)に示されるように分割数が12の場合にはドットサイズは3600[nm]/12=300[nm]であり、図4(b)に示されるように分割数が16の場合にはドットサイズは3600[nm]/16=225[nm]であり、図4(c)に示されるように分割数が24の場合にはドットサイズは3600[nm]/24=150[nm]である。図4には、図4(a)乃至図4(c)に示される原点Oを中心にして、図中のx軸から45度回転した方向の位置に対する透過率が示されている。
本発明の実施例2に係るフォトマスクの製造方法は、図3に示す方法ステップに従って決定されたドットパターン配置を有するパターンデータを生成するステップと、当該生成したパターンデータを用いてフォトマスクを製造するステップと、を含む。
本発明の実施例3に係るマイクロレンズの製造方法は、基板に受光部を設けるステップと、当該受光部が設けられた基板上に第1の平坦化膜を形成するステップと、第1の平坦化膜上にレジスト層を形成するステップと、レジスト層上に第2の平坦化膜を形成するステップと、第2の平坦化膜上に感光性レンズ材料層を形成するステップと、図3に示す方法ステップに従って決定されたドットパターン配置を有するパターンデータを用いて作製されたフォトマスクを製造するステップと、当該フォトマスクを用いて感光性レンズ材料層に対して露光し、現像することにより、マイクロレンズを製造するステップと、を含む。
Claims (8)
- 複数のマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイをフォトリソグラフィーによって製造するために使用される、フォトマスクにおけるパターンデータを生成する方法であって、
前記フォトリソグラフィーに使用する露光の露光波長から、パターン形成領域の表面上での前記露光の拡がり半径を計算するステップと、
前記拡がり半径に最も近いドットサイズとなるような分割数を用いて、所定のアルゴリズムにより第1のドットパターン配置を生成する第1の生成ステップであって、前記ドットサイズは、前記露光波長では解像しないドットサイズである、ステップと、
前記生成した第1のドットパターン配置について、第1の透過光量分布を計算する第1の計算ステップと、
前記計算した第1の透過光量分布と所望の透過光量分布との差が所定の閾値の範囲内であるかどうかを判定する第1の判定ステップと、
前記第1の判定ステップで前記所定の閾値の範囲内ではないと判定された場合、分割数を1増やし、当該増やした分割数を用いて第2のドットパターン配置を生成する第2の生成ステップと、
前記生成した第2のドットパターン配置についての第2の透過光量分布を計算する第2の計算ステップと、
前記計算した第2の透過光量分布と前記所望の透過光量分布との差が前記所定の閾値の範囲内であるかどうかを判定する第2の判定ステップと、
前記第2の判定ステップで前記所定の閾値の範囲内ではないと判定された場合、分割数をさらに1増やして、前記第2の生成ステップ、前記第2の計算ステップ及び前記第2の判定ステップを行うステップであって、前記第2の生成ステップ、前記第2の計算ステップ及び前記第2の判定ステップは、前記第2の判定ステップで前記所定の閾値の範囲内であると判定されるまで繰り返される、ステップと、
を含むことを特徴とする方法。 - 前記第2の判定ステップで前記所定の閾値の範囲内であると判定された場合、当該判定されたときの分割数で生成したドットパターンを用いてパターンデータを生成するステップと、
前記第1の判定ステップで前記所定の閾値の範囲内であると判定された場合、分割数を1減らし、当該減らした分割数を用いて第3のドットパターン配置を生成する第3の生成ステップと、
前記生成した第3のドットパターン配置についての第3の透過光量分布を計算する第3の計算ステップと、
前記計算した第3の透過光量分布と前記所望の透過光量分布との差が前記所定の閾値の範囲内であるかどうかを判定する第3の判定ステップと、
前記第3の判定ステップで前記所定の閾値の範囲内であると判定された場合、前記第3の生成ステップ、前記第3の計算ステップ及び前記第3の判定ステップを行うステップであって、前記第3の生成ステップ、前記第3の計算ステップ及び前記第3の判定ステップは、前記第3の判定ステップで前記所定の閾値の範囲内ではないと判定されるまで繰り返される、ステップと、
前記第3の判定ステップで前記所定の閾値の範囲内ではないと判定された場合、当該判定されたときの分割数を1増やした数の分割数で生成したドットパターンを用いてパターンデータを生成するステップと、
をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載の方法。 - 前記所定のアルゴリズムは、ディザ法又は誤差分散法であることを特徴とする請求項1又は2に記載の方法。
- 複数のマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイをフォトリソグラフィーによって製造するために使用される、フォトマスクにおけるパターンデータを生成する方法をコンピュータに実行させるためのコンピュータプログラムであって、前記方法は、
前記フォトリソグラフィーに使用する露光の露光波長から、パターン形成領域の表面上での前記露光の拡がり半径を計算するステップと、
前記拡がり半径に最も近いドットサイズとなるような分割数を用いて、所定のアルゴリズムにより第1のドットパターン配置を生成する第1の生成ステップであって、前記ドットサイズは、前記露光波長では解像しないドットサイズである、ステップと、
前記生成した第1のドットパターン配置について、第1の透過光量分布を計算する第1の計算ステップと、
前記計算した第1の透過光量分布と所望の透過光量分布との差が所定の閾値の範囲内であるかどうかを判定する第1の判定ステップと、
前記第1の判定ステップで前記所定の閾値の範囲内ではないと判定された場合、分割数を1増やし、当該増やした分割数を用いて第2のドットパターン配置を生成する第2の生成ステップと、
前記生成した第2のドットパターン配置についての第2の透過光量分布を計算する第2の計算ステップと、
前記計算した第2の透過光量分布と前記所望の透過光量分布との差が前記所定の閾値の範囲内であるかどうかを判定する第2の判定ステップと、
前記第2の判定ステップで前記所定の閾値の範囲内ではないと判定された場合、分割数をさらに1増やして、前記第2の生成ステップ、前記第2の計算ステップ及び前記第2の判定ステップを行うステップであって、前記第2の生成ステップ、前記第2の計算ステップ及び前記第2の判定ステップは、前記第2の判定ステップで前記所定の閾値の範囲内であると判定されるまで繰り返される、ステップと、
を含むことを特徴とするコンピュータプログラム。 - 前記方法は、
前記第2の判定ステップで前記所定の閾値の範囲内であると判定された場合、当該判定されたときの分割数で生成したドットパターンを用いてパターンデータを生成するステップと、
前記第1の判定ステップで前記所定の閾値の範囲内であると判定された場合、分割数を1減らし、当該減らした分割数を用いて第3のドットパターン配置を生成する第3の生成ステップと、
前記生成した第3のドットパターン配置についての第3の透過光量分布を計算する第3の計算ステップと、
前記計算した第3の透過光量分布と前記所望の透過光量分布との差が前記所定の閾値の範囲内であるかどうかを判定する第3の判定ステップと、
前記第3の判定ステップで前記所定の閾値の範囲内であると判定された場合、前記第3の生成ステップ、前記第3の計算ステップ及び前記第3の判定ステップを行うステップであって、前記第3の生成ステップ、前記第3の計算ステップ及び前記第3の判定ステップは、前記第3の判定ステップで前記所定の閾値の範囲内ではないと判定されるまで繰り返される、ステップと、
前記第3の判定ステップで前記所定の閾値の範囲内ではないと判定された場合、当該判定されたときの分割数を1増やした数の分割数で生成したドットパターンを用いてパターンデータを生成するステップと、
をさらに含むことを特徴とする請求項4に記載のコンピュータプログラム。 - 前記所定のアルゴリズムは、ディザ法又は誤差分散法であることを特徴とする請求項4又は5に記載のコンピュータプログラム。
- 複数のマイクロレンズが配列されたマイクロレンズアレイをフォトリソグラフィーによって製造するために使用されるフォトマスクの製造方法であって、
請求項1乃至3のいずれかに記載の方法に従ってパターンデータを生成するステップと、
当該生成したパターンデータを用いてフォトマスクを製造するステップと、
を含むことを特徴とするフォトマスクの製造方法。 - マイクロレンズの製造方法であって、
基板に受光部を設けるステップと、
当該受光部が設けられた基板上に第1の平坦化膜を形成するステップと、
前記第1の平坦化膜上にレジスト層を形成するステップと、
前記レジスト層上に第2の平坦化膜を形成するステップと、
前記第2の平坦化膜上に感光性レンズ材料層を形成するステップと、
請求項1乃至3のいずれかに記載の方法に従って生成されたパターンデータを用いてフォトマスクを製造するステップと、
前記フォトマスクを用いて感光性レンズ材料層に対して露光し、現像することにより、マイクロレンズを製造するステップと、
を含むことを特徴とするマイクロレンズの製造方法。
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