JP2008287148A - 画像表示装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】光源より発生する熱を十分に放熱することができ、各画素に入射する光量のばらつきを抑えた画像表示装置を提供すること。
【解決手段】光を射出する光源11Rを複数有する光源部12Rと、光源11Rから射出された光を回折させ複数の回折光を生成する回折光学素子20Rと、開口部が形成された画素を複数有する光変調装置と、光源11Rから射出された光を光変調装置の画素の開口部に集光させるマイクロレンズを複数有するマイクロレンズアレイ30Rとを備え、回折光学素子20Rにおいて生成された回折光により、光源部12Rに仮想光源像13a〜13dが形成されることを特徴とする。
【選択図】図2

Description

本発明は、画像表示装置に関する。
近年、複数の光源を用いて均一な光強度分布の照明を実現するための光学系として、レンズアレイを用いる方法が知られている(例えば、特許文献1参照。)。この特許文献1に記載の電気光学装置は、複数の点光源と、マイクロレンズアレイと、液晶パネルとを備えている。そして、各色の点光源から射出された光が、マイクロレンズアレイにより、液晶パネルの各色の画素に重ね合わせて集光される。これにより、画素に入射する光強度分布を均一にする。
この電気光学装置では、液晶パネルの各色の画素に集光する光が均一となるようにするためには、点光源はできるだけ多く設けることが好ましく、さらには、それぞれの点光源から射出される光量が均一であることが好ましい。
特開2002−357826号公報
上記従来の技術には以下のような課題が残されている。すなわち、限られたスペースの中で点光源の数を増やす場合、点光源のピッチを狭くする必要がある。この結果、隣接する点光源の間隔が十分に取れず放熱性が悪いという問題が生じる。
また、点光源の数を増やすと、光源から射出される光量のばらつきも大きくなってしまうため、各画素へ集光する光量にばらつきが出てしまう。
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであって、光源より発生する熱を十分に放熱することができ、各画素に入射する光量のばらつきを抑えた画像表示装置を提供することを目的とする。
上記目的を達成するために、本発明は、以下の手段を提供する。
本発明の画像表示装置は、光を射出する光源を複数有する光源部と、前記光源から射出された光を回折させ複数の回折光を生成する回折光学素子と、前記光源から射出された光を集光させるマイクロレンズを複数有するマイクロレンズアレイと、開口部が形成された画素を複数有する光変調装置とを備え、前記回折光学素子において生成された回折光により、前記光源部に仮想光源像が形成されることを特徴とする。
本発明に係る画像表示装置では、複数の光源から射出された光は、例えば、まず、回折光学素子において回折する。回折された複数の回折光はマイクロレンズアレイのマイクロレンズにより集光されて光変調装置の各画素の開口部から入射し、変調される。
このとき、回折光学素子において生成された回折光により、光源部に仮想光源像を形成する。したがって、光源を増やした場合と同様の光が回折光学素子から射出されるため、複数の方向から光が重ね合わされ画素に入射する。したがって、複数の光源の間隔を広くして、各画素に入射する光量のばらつきを抑えることができるため、光源から発生する熱を効率良く放熱し、輝度むらを抑えた画像を表示することができる。
なお、ここで言う仮想光源像とは、実際には存在しない光源であるが、この仮想光源像からあたかも光が射出されているかのように回折光学素子から光が射出される。
また、本発明の画像表示装置は、前記回折光学素子は、所定の回折箇所での回折光により生じた仮想光源像の位置と、前記所定の回折箇所以外の回折箇所での回折光により生じた仮想光源像の位置とが重なるように回折光を生成することが好ましい。
本発明に係る画像表示装置では、本発明では、回折光学素子を用いて仮想光源像同士を重ね合わせることにより、光量分布は平均化され、仮想光源像から射出される光量のばらつきを抑えることができる。これにより、光源を増やした場合と同様の均一な光が射出されるため、各画素に入射する光量のばらつきを効率良く抑えるとともに、光源の間隔が広くなるため、光源から発生する熱を効率良く放熱し、輝度むらをより確実に抑えた画像を表示することができる。
また、本発明の画像表示装置は、前記回折光学素子は、所定の光源から射出された光の回折光により生じた仮想光源像と、前記所定の光源とは別の光源とが重なるように回折光を生成することが好ましい。
本発明に係る画像表示装置では、回折光学素子を用いて仮想光源像と光源とを重ね合わせることにより、光量分布は平均化され、仮想光源像から射出される光量のばらつきを抑えることができる。
つまり、仮想光源像同士を重ね合わせる場合に比べて、複数の光源のピッチが短くなるため、仮想光源像と光源との重ね合わせ及び仮想光源像同士の重ね合わされる光線の数が増える。このようにして、光の重なる光線の数(光の重なり量)を増やすことにより、回折光学素子から射出される光の光量のばらつきをさらに減少させることができる。
また、本発明の画像表示装置は、前記複数の光源及び仮想光源像のピッチをP1、前記複数の画素のピッチをP2、前記マイクロレンズアレイのマイクロレンズのピッチをPL、前記光源部と前記マイクロレンズアレイとの光学的距離をL1、前記マイクロレンズアレイと前記光変調装置との光学的距離をL2としたとき、PL=n{P1・P2/(P1+P2)}(ただし、nは自然数)及びL2/L1=P2/P1の条件を満たすように構成されていることが好ましい。
本発明に係るプロジェクタでは、上記数式を満たすように光源部、光変調装置、マイクロレンズアレイを形成し、配置する。これにより、nの値を代えることで、各画素に入射する光線の数を調整することができる。したがって、例えば、nが1であるとき最もマイクロレンズのピッチPLが大きくなるので、最も複数の方向から画素に光が入射する。このようにして、被投射面に投射される光の強度の均一化を図ることができる。
また、本発明の画像表示装置は、前記マイクロレンズアレイの集光側の開口率をNA、前記光変調装置の開口部の開口径をa、前記マイクロレンズアレイに入射する光の波長をλとすると、a≧λ/NAとなるように前記nが設定されていることが好ましい。
本発明に係る画像表示装置では、マイクロレンズアレイにより集光される光のスポット径の大きさはλ/NAとなり、nの値を代えることで、マイクロレンズアレイの開口率NAが大きくなる。そこで、本発明では、a≧λ/NAとなるようにnが設定されているため、光変調装置の開口部の開口径が、回折限界のスポット径より大きい。すなわち、光変調装置の開口部の開口径は、マイクロレンズアレイにより集光された光のスポット径と同じ、あるいは、大きいため、マイクロレンズアレイにより集光された光を必ず光変調装置の開口部より入射させることが可能となる。
また、本発明の画像表示装置は、前記回折光学素子が前記光源と前記マイクロレンズアレイとの間の光路上に配置されていることが好ましい。
本発明に係る画像表示装置では、回折光学素子が光源とマイクロレンズアレイとの間の光路上に配置されているため、マイクロレンズアレイと光変調装置との光学的距離を短くすることができる。したがって、複数の光源間の距離間隔を広くすることができるため、光源により発生する熱を効率良く放熱することが可能となる。
また、本発明の画像表示装置は、前記回折光学素子が2次元の回折格子であることが好ましい。
本発明に係る画像表示装置では、回折光学素子が2次元の回折格子であるため、直交する2方向は独立に考えて良いので、重ね合わせに関する回折格子の種々のパラメータなど、独立に設計することができる。さらには、回折光学素子から射出される光の重なり量を増やすことができるため、光量のばらつきをさらに減少させることが可能となる。
また、本発明の画像表示装置は、前記光源部が、前記光源から射出された光の波長を所定の波長に変換する波長変換素子と、該波長変換素子から射出された光のうち前記所定の波長に変換された光を選択して前記回折光学素子へ導き、前記所定の波長に変換されなかった光を選択して前記光源の方へ戻す波長選択素子と、前記光源と前記波長変換素子との間に配置されるとともに、前記波長選択素子において選択された光のうち、前記光源の方へ向かう光路において、前記波長変換素子を通過することによって前記所定の波長に変換された光を分離して前記光源とは異なる位置へ導くとともに、前記所定の波長に変換されなかった光を前記光源の方へ導く分離部と、該分離部において分離されて前記光源とは異なる位置へ導かれた光を前記回折光学素子に向けて導く導光部とを備え、前記波長選択素子において選択されて前記回折光学素子に向かう第1光路を進行する光と、前記導光部から前記回折光学素子に向かう第2光路を進行する光とは、略平行であることが好ましい。
本発明に係る画像表示装置では、光源から射出された光は波長変換素子を通過する。波長変換素子から射出された光のうち、所定の波長の光に変換された光は、波長選択素子により選択され、回折光学素子に入射する。一方、波長変換素子から射出された光のうち、所定の波長に変換されなかった光は、波長選択素子において、光源の方へ戻され、再度、波長変換素子を通過する。そして、その一部は、所定の波長に変換される。本発明は、このように、波長選択素子において光源の方へ戻された光のうち、光源の方へ向かう光路において、波長変換素子を透過することによって、所定の波長に変換された光を、分離部において光源とは異なる位置へ導く。さらにその後、分離部において光源とは異なる位置へ導かれた光は、導光部により、回折光学素子に向けて導かれる。
すなわち、波長選択素子から光源に戻る光路において所定の波長に変換された光を有効に利用することが可能となる。さらに、回折光学素子を用いることにより、複数の光源の間隔が広くなるため、光源から発生する熱を効率良く放熱しているため、輝度むらを抑えた明るい画像を表示することが可能な画像表示装置を提供することができる。
以下、図面を参照して、本発明に係るプロジェクタの実施形態について説明する。なお、以下の図面においては、各部材を認識可能な大きさとするために、各部材の縮尺を適宜変更している。
[第1実施形態]
本実施形態に係るプロジェクタ(画像表示装置)1は、図1に示すように、照明装置10と、液晶ライトバルブ(光変調装置)40と、投射レンズ(投射装置)50とを備えている。
照明装置10は、赤色光照明装置10Rと、緑色光照明装置10Gと、青色光照明装置10Bとを備えている。
赤色光照明装置10Rは、赤色光を射出する複数の赤色光源(光源)11Rを有する赤色光源部12Rと、赤色光源部12Rから射出された赤色光を回折させる回折光学素子20Rと、回折光学素子20Rにより回折された赤色光を集光させるマイクロレンズアレイ30Rとを備えている。
緑色光照明装置10Gも同様に、緑色光源(光源)11Gを有する緑色光源部12Gと、回折光学素子20Gと、マイクロレンズ30Gとを備えている。さらに、青色光照明装置10Bも同様に、青色光源(光源)11Bを有する青色光源部12Bと、回折光学素子20Bと、マイクロレンズ30Bとを備えている。
なお、赤色,緑色,青色光照明装置10R,10G,10Bは構成が同一であるため、以下では赤色光照明装置10Rを例に挙げて説明する。
赤色光源部12Rは、図2(a)に示すように、複数の赤色光源11Ra(11R),11Rb(11R),11Rc(11R)…が2次元的に同ピッチ(P1=1.8mm)で配置されている。また、赤色光源11Rは、半導体の面発光レーザアレイを使用しているため、略点光源のアレイとなっており、InGaAsの活性層及び外部共振器構造を有する。
回折光学素子20Rは、図3に示すように、一方向に延在した溝20aが周期的に形成された単純回折格子である。また、回折光学素子20Rは、図2(a)に示すように、赤色光源11Raの射出端面12aに対して垂直方向に射出された光LAにより、マイクロレンズアレイ30R側に向かって、0次光L0と、+1次回折光La1,−1次回折光Lb1と、+2次回折光La2,−2次回折光Lb2とを生成する素子である。この±1次回折光La1,Lb1及び±2次回折光La2,Lb2の光強度はすべて略同じである。なお、本実施形態では、回折光学素子20Rとして、1次元の単純回折格子を用い、±1次回折光及び±2次回折光のみを使用して説明する。また、回折光学素子20Rは石英基板をエッチングして作製したものであり、溝の深さ、回折効率は任意である。
回折光学素子20Rにより生成される0次光L0は、回折されないで回折光学素子20Rを透過した光であり、±1次回折光La1,Lb1、+2次回折光La2,Lb2は、回折光学素子20Rの射出端面20bと所定の回折角をなして射出される。
+1次回折光La1は、赤色光源部12R側に延長された射出端面12a上に仮想光源像(虚像)13aを形成する。仮想光源像13aとは、実際には光源は存在しないが、この位置から光が射出された場合と同じ光の光路を進行することが可能な光源を意味している。
また、仮想光源像13aの位置は、光源11Rbと光源11Rcとの間となっている。すなわち、回折光学素子20Rにおいて回折される+1次回折光La1は、あたかも仮想光源像13aから射出された光と同様の光路を進行する。また、+2次回折光La2は、赤色光源部12R側に延長された射出端面12a上に仮想光源像(虚像)13bを形成する。この仮想光源像13bの位置は、仮想光源像13aよりさらに光源11Rc側である。
また、仮想光源像13aは、赤色光源11Rbから、それに隣接して配置された赤色光源11Rcまでの距離P1の1/3である距離Q2だけ、赤色光源11Rbから赤色光源11Rc側に形成される。また、仮想光源像13bは、距離Q2だけ、赤色光源11Rcから赤色光源11Rb側に形成される。
同様に、−1次回折光Lb1、−2次回折光Lb2は、+1次回折光La1、+2次回折光La2により形成された仮想光源像13a,13bと光LAを軸にして対称な射出端面12a上の位置に、仮想光源像13c,13dが形成される。
また、射出端面12aに対して垂直方向に射出される光LA以外の光LB,LCにより生成される±1次回折光,±2次回折光に対しても、同様に仮想光源像13a〜13dが形成される。
また、図2(b)に示すように、赤色光源11Rcから射出される光より生成される+1次回折光La1,−1次回折光Lb1と、+2次回折光La2,−2次回折光Lb2も、赤色光源11Rbの場合と同様に仮想光源像14a〜14dを形成する。すなわち、赤色光源部12Rの右側から順に仮想光源像14b,14a,14c,14dが形成される。
これにより、赤色光源11Rcから射出され回折光学素子20Rによって形成された仮想光源像13aと、赤色光源11Rcから射出され回折光学素子20Rによって形成された仮想光源像14dとが重なる。また、仮想光源像13bと、仮想光源像14cとが重なる。
また、仮想光源像14a、14bは、隣接して配置され赤色光源11Rcから射出された光LB及び光LCの回折光学素子20Rによって形成された仮想光源像と重なる。このように、回折光学素子20Rは、所定の回折箇所(例えば、光源11Rbから射出された光LAが入射した回折光学素子20Rの位置)での回折光により生じた仮想光源像(例えば、13a)の位置と、所定の回折箇所以外の回折箇所(例えば、光源11Rbから射出された光LCが入射した回折光学素子20Rの位置)での回折光により生じた仮想光源像(例えば、13a)の位置とが重なるように回折光を生成する。
このように、仮想光源像同士が重なることにより、回折光学素子20Rから射出される各赤色光源11Rの出力光量のばらつきが小さくなる。
具体的には、図4に示すように、赤色光源部12Rと回折光学素子20Rとの光学的距離(光路長)L3を40mmとし、回折光学素子20Rのピッチ(図示略)を42μmとすれば、回折光による赤色光源11R及び仮想光源像13a〜13d,14a〜14dの距離Q2は0.6mmとなる。すなわち、上述したように、仮想光源像13aは、赤色光源11Rbから11Rcまでの距離P1の1/3である距離Q2の位置に形成されるため、仮想光源像同士13a〜13d,14a〜14dが重なり合う。
マイクロレンズアレイ30Rは、図4に示すように、マイクロフレネルレンズ(マイクロレンズ:回折レンズ)30aを複数備えている。このマイクロレンズアレイ30Rは、ガラスモールドにより作製されている。また、マイクロレンズアレイ30Rは、回折光学素子20Rにおいて回折された回折光を液晶ライトバルブ40Rに向かって集光させるレンズである。また、マイクロレンズアレイ30Rのマイクロフレネルレンズ30aのピッチPLは188.2mmであり、赤色光源部12Rとマイクロレンズアレイ30Rとの光学的距離(光路長)L1は50mmである。
さらに、マイクロフレネルレンズ30aは、低収差で高効率、高NA(開口数)性能を持つため、本実施形態に好適に用いることが可能となる。
さらに、図1に示すように、マイクロレンズアレイ30R,30G,30Bから射出された光の照度分布を均一化させるため、マイクロレンズアレイ30R,30G,30Bと液晶ライトバルブ40との間には、均一化光学系35R,35G,35Bが設けられており、これにより照度分布が均一化された光によって、液晶ライトバルブ40R,40G,40Bを照明している。例えば、均一化光学系35R,35G、35Bは、例えば、ホログラム36a及びフィールドレンズ36bによって構成される。
液晶ライトバルブ40は、高温ポリシリコンTFTを用いた透過型の液晶パネルである。また、液晶ライトバルブ40は、赤色用液晶ライトバルブ40Rと、緑色用液晶ライトバルブ40Gと、青色用液晶ライトバルブ40Bとからなる。なお、液晶ライトバルブ40R,40G,40Bは構成が同一であるため、赤色用の液晶ライトバルブ40Rを例に挙げて説明する。図4は、赤色光源部12Rから射出された光の光路図を分かり易く説明するために、赤色光源部12Rと、回折光学素子20Rと、マイクロレンズアレイ30R、液晶ライトバルブ40Rと、投射レンズ50とを直線的に配置して示している。また、図4の赤色光源部12Rの赤色光源11R間には仮想光源像13が形成されている。
液晶ライトバルブ40Rは、図4に示すように、複数の画素41Rを有しており、各画素41Rにはブラックマトリックス(BM)のそれぞれ開口部40aが形成されている。この開口部40aからマイクロレンズアレイ30Rにより集光された光が入射する。また、マイクロレンズアレイ30Rは、液晶ライトバルブ40Rの開口部40aの入射端面40bで焦点を結ぶように形成し、配置されている。
また、画素41RのピッチP2は12μmであり、開口部40aの大きさ(開口径)aは9μmである。さらに、マイクロレンズアレイ30Rと液晶ライトバルブ40Rとの光学的距離(光路長)L2は1.0mmである。
各液晶ライトバルブ40R,40G,40Bによって変調された3つの色光は、図1に示すように、クロスダイクロイックプリズム(色合成手段)45に入射する。このプリズムは4つの直角プリズムを貼り合わせて形成され、その内面に赤色光を反射する誘電体多層膜と青色光を反射する誘電体多層膜とが十字状に配置されている。これらの誘電体多層膜によって3つの色光が合成され、カラー画像を表す光が形成される。そして、合成された光は投写光学系である投射レンズ50によりスクリーン60上に投写され、拡大された画像が表示される。
本実施形態では、PL=n{P1・P2/(P1+P2)}(ただし、nは自然数)…式1、L2/L1=P2/P1…式2及びa≧λ/NA…式3の条件を満たすように構成されている。ここで、n=16、マイクロフレネルレンズ30aのNAは0.0937、使用波長λは630nmである。これにより、λ/NA=6.7≦a(9μm)となり、式3を満たす。すなわち、開口部40aの大きさaはマイクロフレネルレンズ30aの回折限界より小さくならないようになっているため、マイクロフレネルレンズ30aから射出された光を確実に液晶ライトバルブ40Rの開口部40aから入射させることが可能となる。
本実施形態に係るプロジェクタ1では、回折光学素子20Rを用いることにより、光源11R,11G,11B間に仮想光源像13a〜13d,14a〜14dを形成することができる。また、仮想光源像13a〜13d,14a〜14d同士を重ね合わせることにより、光量分布は平均化され、仮想光源像13a〜13d,14a〜14dから射出される光量のばらつきを抑えることができる。
また、図5に示すように、上述した仮想光源像13a〜13d,14a〜14dの位置Tに実際の光源11R,11G,11Bを設ける構成では、光源11Rの間隔が狭く放熱性が悪い。そこで、本実施形態では、回折光学素子20R,20G,20Bにより、各光源部12R,12G,12Bの光源11R,11G,11Bを増やした場合と同様にマイクロレンズアレイ30R,30G,30Bに複数の方向から光が入射するため、複数の光が重ね合わされ液晶ライトバルブ40R,40G,40Bの各画素41Rに入射することになる。したがって、各画素41Rに入射する光量のばらつきを抑えるとともに、光源11R,11G,11Bの間隔が広くなるため、光源11R,11G,11Bから発生する熱を効率良く放熱することができる。
つまり、本実施形態のプロジェクタ1は、光源11R,11G,11Bより発生する熱を十分に放熱することができ、光源11R,11G,11Bから射出される光量のばらつきを抑えた照明装置10を備えているため、鮮明な画像をスクリーン60に投射することができる。
また、回折光学素子20R,20G,20Bが光源11R,11G,11Bとマイクロレンズアレイ30R,30G,30Bとの間の光路上に配置されているため、マイクロレンズアレイ30R,30G,30Bと液晶ライトバルブ40との間の狭い空間に回折光学素子20Rを配置する必要がない。すなわち、マイクロレンズアレイ30R,30G,30Bと液晶ライトバルブ40との光学的距離(L2)を短くすることができるため、式2より、複数の赤色光源11R,11G,11Bのピッチ(P1)の長さを広くすることができる。したがって、光源11R,11G,11Bにより発生する熱を効率良く放熱することが可能となる。
なお、回折光学素子20Rは、図3に示すように、単純回折格子を用いたが、2次元回折格子を使用しても良い。2次元回折格子としては、単純回折格子の溝が交差するように、2枚の単純回折格子を直交して重ね合わせても良い。また、図6に示すように、市松模様に凹部66を有する回折光学素子65を用いても良い。このように、2次元の回折光学素子を用いる場合、直交する2方向は独立に考えて良いので、重ね合わせのパラメータなど、独立に設計することができる。さらには、回折光学素子20R,20G,20Bから射出される光の重なり量を増やすことができるため、光量のばらつきをさらに減少させることが可能となる。
また、本実施形態では、回折光学素子20Rにおいて生成される±1次回折光及び±2次回折光を使用したが、±3次回折光以上の回折光も用いても、±1次回折光のみを用いても同様である。
また、本実施形態のプロジェクタ1としては、式1、式2、式3を必ずしも満たしていなくても良い。
また、回折光学素子20Rを光源11R,11G,11Bとマイクロレンズアレイ30R,30G,30Bとの間の光路上に配置したが、マイクロレンズアレイ30R,30G,30Bと液晶ライトバルブ40R,40G,40Bとの間の光路上に配置しても良い。
さらに、光源11R,11G,11Bを点光源アレイとしたが、ある程度面積の狭いパターン光源であっても良い。
また、仮想光源像13a〜13d,14a〜14d同士は必ずしも重なり合う必要はない。
[第2実施形態]
次に、本発明に係る第2実施形態について、図7を参照して説明する。なお、以下に説明する各実施形態の図面において、上述した第1実施形態に係るプロジェクタ1と構成を共通とする箇所には同一符号を付けて、説明を省略することにする。
本実施形態に係るプロジェクタ70では、赤色,緑色,青色光照明装置10R,10G,10Bの構成において第1実施形態と異なり、その他の構成においては第1実施形態と同様である。また、全体構成においては、図1に示す第1実施形態プロジェクタ1と同様である。
赤色,緑色,青色光照明装置10R,10G,10Bは構成が同一であるため、赤色光照明装置10Rを例に挙げて説明する。
回折光学素子71は、図7(a)に示すように、第1実施形態と同様に0次光L0と、+1次回折光La1,−1次回折光Lb1と、+2次回折光La2,−2次回折光Lb2とを生成する素子である。
+1次回折光La1は、赤色光源部12R側に延長された射出端面12a上に仮想光源像(虚像)72aを形成する。また、仮想光源像72aの位置は、光源11Rbと光源11Rcとの間となっている。また、仮想光源像72aは、赤色光源11Rbに隣接して配置された赤色光源11Rcまでの距離P1の1/2である距離Q2の位置に形成されている。
+2次回折光La2は、赤色光源部12R側に延長された射出端面12a上に仮想光源像(虚像)72bを形成する。この仮想光源像72bの位置は、光源11Rcの位置である。すなわち、仮想光源像72bと光源11Rcとは重なり合っている。
同様に、−1次回折光Lb1、−2次回折光Lb2は、+1次回折光La1、+2次回折光La2により形成された仮想光源像72a,72bと光LAを軸にして対称な射出端面12a上の位置に、仮想光源像72c,72dが形成される。そして、仮想光源像72dと光源11Raとは重なり合っている。
また、射出端面12aに対して垂直方向に射出される光以外の光LB,LCにより生成される±1次回折光,±2次回折光に対しても、同様に仮想光源像72a〜72dが形成される。
また、図7(b)に示すように、赤色光源11Rcから射出される光より生成される+1次回折光La1,−1次回折光Lb1と、+2次回折光La2,−2次回折光Lb2も、赤色光源11Rbと同様に仮想光源像73a〜73dを形成する。すなわち、赤色光源部12Rの右側から順に仮想光源像73b,73a,73c,73dが形成される。
すなわち、赤色光源11Rbと仮想光源像73dとが重なり、赤色光源11Rdと仮想光源像73bとが重なる。また、仮想光源像72aと仮想光源像73cとが重なる。すなわち、回折光学素子71は、所定の光源(例えば、11Rb)から射出された光の回折光により生じた仮想光源像(例えば、72b)と、所定の光源とは別の光源(11Rc)とが重なるように回折光を生成する。このように、仮想光源像72a〜72d,73a〜74dが赤色光源11Ra,11Rb,11Rc…及び他の仮想光源像に重なることにより、回折光学素子20Rから射出される各赤色光源11Ra,11Rb,11Rcの出力光量のばらつきが小さくなる。つまり、第1実施形態に比べて、仮想光源像での重なる光線の数(光の重なり量)が増えるため、光量のばらつきをさらに減少させることができる。
本実施形態に係るプロジェクタ70では、第1実施形態に比べて、光の重なり量が増えるため、回折光学素子20Rから射出される光の光量のばらつきをさらに減少させることができる。
また、本実施形態では、回折光学素子20Rにより、光源11Rを増やした場合と同様にマイクロレンズアレイ30Rに複数の方向から光が入射するため、複数の光が重ね合わされ液晶ライトバルブ40Rの各画素41Rに入射することになる。したがって、各画素41Rに入射する光量のばらつきをより抑えるとともに、従来に比べて光源11Rの間隔が広くなるため、光源11Rから発生する熱を効率良く放熱することができる。
なお、仮想光源像72a〜72d、73a〜73dの距離Q2と、赤色光源11Ra,11Rb,11Rc…のピッチP1との比は同じにしても良いし、仮想光源像72a〜72d、73a〜73dの距離Q2を大きくしても良い。つまり、1,2,3…、1/2,1/3…の無数の値の中から用途に応じて選択することができる。すなわち、仮想光源像同士が重なることなく、仮想光源像は各光源部12R,12G,12Bの光源11R,11G,11Bにのみ重なる構成であっても良い。
[第3実施形態]
次に、本発明に係る第3実施形態について、図8及び図9を参照して説明する。
本実施形態に係るプロジェクタ80では、赤色,緑色,青色光照明装置10R,10G,10Bの光源部81R,81G,81Bの構成において第1実施形態と異なり、その他の構成においては第1実施形態と同様である。全体構成においては、図1に示す第1実施形態プロジェクタ1と同様である。
光源部81R,81G,81Bは、図8に示すように、保持部材85上に載置された光源82と、波長変換素子83と、波長選択素子(外部共振器ミラー)84とを備えている。なお、光源部81R,81G,81Bは、同一であるため、赤色光源部81Rを例に挙げて説明する。
光源82は、面発光レーザの1次元アレイであり、波長1260nmの赤外光を射出する。また、光源82から光が射出される側には、三角柱状のプリズム86が配置されている。このプリズム86の傾斜面86aは、反射コーティングが施されており、入射した光を反射させる反射部(導光部)となっている。また、反射部86aには、光源82から射出された光が45度の角度で入射するように配置されている。そして、この反射部86aにおいて反射した光は波長変換素子83に入射されるようになっている。また、プリズム86には、赤色光(630nm)を反射させる分離部86bが設けられている。すなわち、反射部86aは、分離部86bにおいて分離されて光源82とは異なる位置へ導かれた光を回折光学素子20Rに向けて導くものである。
また、分離部86bは、光源82から射出されプリズム86の反射部86aにおいて反射した光の中心軸に対して45度傾斜しており、入射した赤色光を反射部86aに向かって分離させ反射させるミラーである。また、分離部86bは、赤色光に変換されなかった光を透過させる。これにより、変換されなかった光は反射部86aにおいて反射して光源82に戻るようになっている。
波長変換素子83は、支持台83a上に載置されている。また、波長変換素子(第2高調波発生素子、SHG:Second Harmonic Generation)83は、図8に示すように、入射光をほぼ半分の波長に変換する非線形光学素子である。光源82から射出され、波長選択素子84に向かう光は、波長変換素子83を通過することによって、ほぼ半分の波長の光に変換される。波長変換素子83による波長変換効率は非線形の特性を有しており、例えば、波長変換素子83に入射するレーザ光の強度が強いほど、変換効率が向上する。つまり、光源82から射出されたレーザ光のすべてが、所定波長のレーザ光に変換されるわけではない。なお、光源82から波長選択素子84に向かう光路を往路OWとする。
波長選択素子(光学素子)84は、支持台84a上に載置されている。波長選択素子84は、図8に示すように、波長変換素子83から射出された往路OWを進行する所定の選択波長のレーザ光を選択して光源82に向かって反射させることによって光源82の共振器ミラーとして機能するとともに、変換されたレーザ光(図8に示す破線)W1を透過させるものである。このレーザ光W1を前方出射光とする。また、波長選択素子84としては、例えば、周期格子を有するホログラムのような光学素子を用いることができる。
一方、波長選択素子84を透過できなかった光は、波長選択素子84によって反射され再び波長変換素子83を通過し光源82の方へ戻る。このように、波長選択素子84から光源82の方へ向かう光路を復路HWとする。そして、波長選択素子84から光源82に戻る過程で、波長変換素子83によって赤色光(630nm)に変換させる光も存在する。プリズム86の分離部86bは、復路HWで赤色光に変換された光がそのまま光源82に戻らないようにするものである。また、分離部86bにおいて反射された光W2(図8に示す一点鎖線)は、プリズム86の反射部86aで反射され、回折光学素子20Rに向かって射出される。このレーザ光W2を後方出射光とする。また、レーザ光W1の光路(第1光路)とレーザ光W2の光路(第2光路)とは、略平行である。
これらにより、図9に示すように、回折光学素子20Rから赤色光源部81Rを見ると、光源82が2次元に配列された光源アレイとなる。また、光源82間には回折光学素子20Rにより生成される仮想光源像82aが光源82の配列方向に垂直な方向に形成される。
前方出射光W1と後方出射光W2との間隔、つまり、光源82の縦ピッチP1v=1.8mm、横ピッチP1h=0.6mm、液晶ライトバルブ40の画素41Rの縦ピッチ、横ピッチは12μmである。また、第1実施形態と同様に、光源82とマイクロレンズアレイ30Rとの光学的距離(光路長)L1は50mmであり、マイクロレンズアレイ30Rと液晶ライトバルブ40Rとの光学的距離(光路長)L2は1.0mmであり、n=16、マイクロフレネルレンズ30aのNAは0.0937、使用波長λは630nmである。
これにより、本実施形態でも、λ/NA=6.7≦a(9μm)となり、式3を満たすように構成されている。
光源82と回折光学素子20Rとの光学的距離(光路長)は40mmである。また、回折光学素子20Rとしては、図6に示すような、市松模様に凹部を有する素子を用い、縦、横ピッチを42μmとすれば、回折光により形成される複数の仮想光源像の距離Q2は0.6mmとなる。つまり、縦方向は光源82の1/3のピッチの光源アレイが得られ、横方向は光源82と同一ピッチとなって、光源82と回折光により形成される仮想光源像82aとが重なり合う。
なお、光源82及び仮想光源像82aから射出される光の焦点位置は、波長変換素子83の内部にあり、前方出射光W1と後方出射光W2との焦点位置は多少変わるが、平行光に近い低NA光であるため、実質上は問題はない。
本実施形態に係るプロジェクタ80では、光源82の方へ向かう復路HWにおいて、所定の波長に変換された光を分離部86b及び反射部86aを用いて回折光学素子20Rに入射させることにより、光源82から射出され復路HWにおいて変換された光を有効に利用することが可能となる。さらに、回折光学素子20Rを用いることにより、複数の光源82の間隔が広くなるため、光源82から発生する熱を効率良く放熱しているため、輝度むらを抑えた明るい画像を表示することが可能なプロジェクタ1を提供することができる。
なお、本実施形態では、反射部86a及び分離部86bを有するプリズム86を用いたこれに限るものではなく、反射部と、分離部とを別々の部材として設けても良い。
なお、本発明の技術範囲は上記実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において種々の変更を加えることが可能である。
例えば、色光合成手段として、クロスダイクロイックプリズムを用いたが、これに限るものではない。色光合成手段としては、例えば、ダイクロイックミラーをクロス配置とし色光を合成するもの、ダイクロイックミラーを平行に配置し色光を合成するものを用いることができる。
また、上記各実施形態では、画像表示装置として投射レンズを用いたプロジェクタを例に挙げて説明したが、直視型の画像表示装置であっても良い。
また、赤色光用の回折光学素子20R、緑色光用の回折光学素子20G、青色光用の回折光学素子20Bごとにピッチなどが異なる回折格子を使用しても良い。
本発明の第1実施形態に係るプロジェクタの全体図である。 図1の照明装置の光源から射出された光の光路を示す図である。 図1の照明装置の回折光学素子を示す要部断面図である。 図1の光変調装置に入射する光の光路を示す図である。 従来の照明装置を示す図である。 図3の回折光学素子の変形例を示す要部断面図である。 本発明の第2実施形態に係る照明装置の光源から射出された光の光路を示す図である。 本発明の第3実施形態に係る光源部の光源から射出された光の光路を示す図である。 図8の光源部から射出された光のスポットを示す図である。
符号の説明
1,70,80…プロジェクタ、11R,11G,11B,82…光源、12R,12G,12B,81R,81G,81B…光源部、13a〜13d,14a〜14d,72a〜72d,73a〜73d,82a…仮想光源像、20R,20G,20B,65,71…回折光学素子、30R,30G,20B…マイクロレンズアレイ、40…液晶ライトバルブ(光変調装置)、41R…画素、83…波長変換素子、84…波長選択素子、86a…反射部、86b…分離部

Claims (8)

  1. 光を射出する光源を複数有する光源部と、
    前記光源から射出された光を回折させ複数の回折光を生成する回折光学素子と、
    開口部が形成された画素を複数有する光変調装置と、
    前記光源から射出された光を前記光変調装置の画素の開口部に集光させるマイクロレンズを複数有するマイクロレンズアレイとを備え、
    前記回折光学素子において生成された回折光により、前記光源部に仮想光源像が形成されることを特徴とする画像表示装置。
  2. 前記回折光学素子は、所定の回折箇所での回折光により生じた仮想光源像の位置と、前記所定の回折箇所以外の回折箇所での回折光により生じた仮想光源像の位置とが重なるように回折光を生成することを特徴とする請求項1に記載の画像表示装置。
  3. 前記回折光学素子は、所定の光源から射出された光の回折光により生じた仮想光源像と、前記所定の光源とは別の光源とが重なるように回折光を生成することを特徴とする請求項1に記載の画像表示装置。
  4. 前記複数の光源及び仮想光源像のピッチをP1、前記複数の画素のピッチをP2、前記マイクロレンズアレイのマイクロレンズのピッチをPL、前記光源部と前記マイクロレンズアレイとの光学的距離をL1、前記マイクロレンズアレイと前記光変調装置との光学的距離をL2としたとき、PL=n{P1・P2/(P1+P2)}(ただし、nは自然数)及びL2/L1=P2/P1の条件を満たすように構成されていることを特徴とする請求項1から請求項3のいずれか1項に記載の画像表示装置。
  5. 前記マイクロレンズアレイの集光側の開口率をNA、前記光変調装置の開口部の開口径をa、前記マイクロレンズアレイに入射する光の波長をλとすると、
    a≧λ/NAとなるように前記nが設定されていることを特徴とする請求項4に記載の画像表示装置。
  6. 前記回折光学素子が前記光源と前記マイクロレンズアレイとの間の光路上に配置されていることを特徴とする請求項1から請求項5のいずれか1項に記載の画像表示装置。
  7. 前記回折光学素子が2次元の回折格子であることを特徴とする請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の画像表示装置。
  8. 前記光源部が、
    前記光源から射出された光の波長を所定の波長に変換する波長変換素子と、
    該波長変換素子から射出された光のうち前記所定の波長に変換された光を選択して前記回折光学素子へ導き、前記所定の波長に変換されなかった光を選択して前記光源の方へ戻す波長選択素子と、
    前記光源と前記波長変換素子との間に配置されるとともに、前記波長選択素子において選択された光のうち、前記光源の方へ向かう光路において、前記波長変換素子を通過することによって前記所定の波長に変換された光を分離して前記光源とは異なる位置へ導くとともに、前記所定の波長に変換されなかった光を前記光源の方へ導く分離部と、
    該分離部において分離されて前記光源とは異なる位置へ導かれた光を前記回折光学素子に向けて導く導光部とを備え、
    前記波長選択素子において選択されて前記回折光学素子に向かう第1光路を進行する光と、前記導光部から前記回折光学素子に向かう第2光路を進行する光とは、略平行であることを特徴とする請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の画像表示装置。
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