JP2008277507A - 熱放射性プリント配線板及びその製造方法とこれを用いたモジュール - Google Patents

Abstract

【課題】従来のプリント配線板の場合、その上に実装した電子部品に発生した熱は、プリント配線板に貼り付けたシャーシや放熱用のフィンを介して、外部に放出していた。
【解決手段】プリント配線板の絶縁層に、熱伝導性と、放射率の高い放射絶縁層１２を用いることで、プリント配線板の上に実装した電子部品１６に発生した熱を、プリント配線板全体から、外部に放射（あるいは輻射）することで、プリント配線板やその上に実装した電子部品１６を冷却する。
【選択図】図１

Description

本発明は、放熱が要求されるパワー系や高機能な半導体等の各種電子部品を高密度化に実装する際に用いられる熱放射性プリント配線板及びその製造方法とこれを用いたモジュールに関するものである。

従来、電子部品実装用のプリント配線板としては、ガラスエポキシ樹脂からなるプリプレグと銅箔とからなる部材を、複数枚積層するものが知られている。更に携帯電話や車載用のモジュール（あるいはプリント配線板）には、発熱が課題となるものが多く、高放熱性を有するプリント配線板が求められる。

近年、熱伝導性を高めた結晶性エポキシ樹脂を用いて、熱伝導性を高めるものが各種提案されている。次に図１３を用いてその一例を説明する。すなわち図１３（Ａ）（Ｂ）は、メソゲン基を有する結晶性ポリマーを、磁場を用いて配向させ、熱伝導率を高くしようとするものである（例えば特許文献１参照）。図１３（Ａ）（Ｂ）は、共に結晶性エポキシ樹脂に磁場をかけながら硬化させ熱伝導性を高める様子を説明する断面図である。図１３（Ａ）（Ｂ）において、複数個の磁石１（例えば磁場発生手段としての永久磁石）の間には、点線２で示した磁力線が発生している。そしてこの点線２で示した磁力線の間に、金型３の中にセットした樹脂４（例えば硬化する前の液体状態の結晶性エポキシ樹脂）を置き、この磁場の中で樹脂４を熱硬化させる。図１３（Ａ）は樹脂４に対して垂直な方向に磁場をかける様子を、図１３（Ｂ）は平行な方向の磁場をかける様子を示す。

しかし元々磁化されにくい結晶性エポキシを配向させるためには、磁束密度５〜１０テラスの高磁場中で、温度１５０〜１７０℃に加熱した金型３の内部で、１０分〜１時間硬化させる等の特殊な処理が必要になる。またこうして形成した結晶性エポキシ樹脂は、熱伝導性や物理強度（例えば曲げ強度）に異方性を有している可能性がある。その結果、こうした結晶性エポキシ樹脂を用いて作製したプリプレグやプリント配線板は、方向依存性（あるいは異方性）を有してしまうという課題がある。

しかしこうした熱伝導性の高いプリント配線板に、放熱が必要な電子部品を高密度に多数実装した場合、これらの熱は、プリント配線板の熱伝導性を活かして外部に（例えば、シャーシやヒートシンク等）放熱する必要がある。

また特許文献２等では、ガラスエポキシ基材に形成した孔の中に、赤外線熱放射性の高い絶縁層を充填することが、提案されているが、プリント配線板全体での放熱まで行うことは難しい。
特開２００４−２２５０５４号公報 特開２００５−２２８８６０号公報

このように従来のプリント配線板の場合、その熱伝導した熱の放熱手段を付加しないと、プリント配線板全体に篭った熱を外部に放出することが難しかった。

そこで本発明は、半導体等の電子部品に発生した熱を、プリント配線板に伝え、ヒートシンク等の放熱手段を使わずとも、プリント配線板から外部に、直接放射させることによって、電子部品やプリント配線板の冷却を行うことを目的とする。

この目的を達成するために、本発明は、少なくとも複数層の銅配線と、前記銅配線を内部もしくは表面に形成した絶縁体と、前記複数層の銅配線を接続するビアとからなるプリント配線板であって、前記絶縁体は、２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲において熱伝導率が１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、波長５．０〜８．０μｍの放射率が０．６０以上０．９９以下である熱放射性プリント配線板とするものである。

本発明の熱放射性プリント配線板とその製造方法によれば、熱放射性プリント配線板の一部を構成する絶縁層として、熱伝導性と熱放射性の両方に優れる部材を選ぶことによって、その表面に実装した電子部品等に発生した熱を、熱放射性プリント配線板全体に広げると共に、熱放射性プリント配線板全体から外部へ熱輻射することができ、電子部品等の冷却を行うことができる。

そして本発明の熱放射性プリント配線板を用いることで、電子部品等を高密度実装することができ、液晶テレビやプラズマＴＶ、各種電子機器の小型化、高性能化が可能となる。

（実施の形態）
以下、本発明の実施の形態における熱放射性プリント配線板について説明する。図１は、実施の形態における熱放射性プリント配線板の斜視断面図である。図１において、１１ａ、１１ｂは配線パターンとなる銅配線であり、銅箔等を配線パターン形状に加工したものである。なお図１において、銅配線１１ａは表層の配線パターン、銅配線１１ｂは内層の配線パターンに相当する。１２は放射絶縁層である。１３はガラスクロスであり、放射絶縁層１２の一部をガラスクロス１３とすることで、シート状態としている。１４はビアであり、複数層に形成された銅配線１１の層間を電気的に接続している。１５は補助線であり、図１に示すプリント配線板の表面に形成した銅配線１１の一部を省略する様子を示す。なお図１において、ソルダーレジスト等は図示していない。

図１に示すように本発明の熱放射性プリント配線板は、少なくとも複数層の銅配線１１と、前記銅配線１１を内部もしくは表面に形成した絶縁体（例えば放射絶縁層１２）と、前記複数層の銅配線１１を接続するビア１４とからなるプリント配線板であって、前記絶縁体は、２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲において熱伝導率が１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、波長５．０〜８．０μｍの放射率が０．６０以上０．９９以下である熱放射性プリント配線板としたものである。

次に図２を用いて、図１の熱放射性プリント配線板の熱放射メカニズムについて説明する。図２（Ａ）（Ｂ）は、それぞれ本発明の熱放射性プリント配線板の放熱効果を説明する断面図及び熱放射特性の一例を示す図である。図２（Ａ）（Ｂ）において、１６はパワー半導体等の発熱性（あるいは放熱が必要な）の電子部品である。また１７ａ、１７ｂは矢印である。図２（Ａ）は、熱放射性プリント配線板の断面図である。図２（Ａ）において、熱放射性プリント配線板は、一部にガラスクロス１３を有する放射絶縁層１２から構成されている。またその表層や内層には銅配線１１やビア１４（図２（Ａ）においてビア１４は図示していない。）が形成されている。

図２（Ａ）における矢印１７ａは、熱放射性プリント配線板の上に（あるいは銅配線１１に）実装した電子部品１６の熱が、銅配線１１を介して熱放射性プリント配線板全体に広がる様子を示す。そして矢印１７ａのように熱放射性プリント配線板全体に広がった熱を、矢印１７ｂに示すように、熱放射性プリント配線板から、外部へ熱放射する。

図２（Ｂ）は、熱放射性プリント配線板に用いる放射絶縁層１２の放射特性の一例を示すものである。図２（Ｂ）において、Ｘ軸は波長（単位はμｍ、右に行くほど長波長となる）。Ｙ軸は放射率（単位は無い。上に行くほど放射率が高くなる。なお放射率の上限値は１である）。図２（Ｂ）において、補助線１５Ａは、放射絶縁層１２の放射特性の一例を示すものである。

一般的に黒体輻射は、ステファン−ボルツマン（Stephan-Boltzman's Law）等で示される。しかし、どれだけの熱量が外部に放射させるかは、基材の放射率に依存する。これは沸騰した水の入った金属製のやかんに手を近づけてもその熱を感じない（放射率が低い）のに比べ、手のひら（約３５℃）を体に近づけるとその熱を感じる（手のひらの放射率が０．９と高い）のと同じである。

この発明者らは、この原理を積極的にプリント配線板の放熱に利用することによって、プリント配線板（あるいはその上に実装した電子部品１６）に発生した熱を外部に放射することとした。更に言えば本実施の熱放射性プリント配線板は、比較的低い温度（例えば２７３Ｋ以上４００Ｋ以下）に限定した温度域における放射率を、高めることでその冷却効率を最大とする。発明者らの測定によると、ガラスクロス１３の熱放射性は、０．２〜０．５と低かった。そのためここに熱放射性を高めるため、セラミック部材（例えば、酸化チタンを選ぶと放射率０．９が可能）を添加する。また樹脂としては、後述するような結晶性エポキシ樹脂を用い、その放射率を高める。

なおこれらの放射率を測定する温度範囲は、２７３Ｋ以上４００Ｋ以下が望ましい。これは２７３Ｋ未満の場合、電子部品１６の放熱が課題になる可能性が少ない。また４００Ｋを超える場合、電子部品１６そのものや、これを使った電子機器自体の信頼性等に影響を与える可能性が有るためである。

ここで放射絶縁層１２の放射は、波長５．０以上８．０μｍ以下での放射率は０．６０以上０．９９以下が望ましい。波長５．０〜８．０μｍの領域とすることで、空気中の水蒸気が吸収しやすくなるため効果的に熱を空気中に拡散できる。コンピュータのＣＰＵ等の冷却に用いられるファンと組み合わせることで更に冷却効果を高めることができる。なお波長５．０〜８．０μｍの領域全てにおいて、放射率を０．６０以上とする必要は無い。これは空気中の水分等の効果が局部的（あるいは特定の波長域で）であるためである。そのため波長５．０〜８．０μｍの領域の半分以上（望ましくは８０％以上、更に望ましくは９０％以上）において、放射率が０．６０以上０．９９以下であれば良い。

また放射絶縁層１２の放射は、波長４．０μｍ以上１４．０μｍ以下で、放射率が０．７０以上０．９９以下とすることも効果的である。これは波長４．０〜１４．０μｍの領域は、４００Ｋ程度の黒体から最も放射される波長領域なので、効果的に熱を赤外線に変換して、外部に放射することができるためである。なお波長４．０〜１４．０μｍの領域全てにおいて、放射率を０．７０以上とする必要は無い。これは回路の動作状態等によって温度の影響を受ける可能性があるためである。そのためは波長４．０μｍ以上１４．０μｍ以下の領域の半分以上（望ましくは８０％以上、更に望ましくは９０％以上）において、放射率が０．７０以上０．９９以下であれば良い。なお放射絶縁層１２は、前述のように特定の温度範囲において、特定の放射率を有したものであるが、更に特定の熱伝導性を有したものとすることが望ましい。

これは熱伝導と放射率を併用することで、その放熱効果を高めることができる。

なお放射絶縁層１２の熱伝導率は、２７３Ｋ以上４００Ｋ以下の温度範囲において、１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下が望ましい。熱伝導率が１．０Ｗ／（ｍＫ）未満の場合、後述する図５等で説明するように電子部品１６に発生した熱からの熱放射が局所的な部分に限定されてしまう。熱伝導率を１．０Ｗ／（ｍＫ）以上（望ましくは１．１Ｗ／（ｍＫ）以上）とすることで、電子部品１６に発生した熱を、プリント配線板全体に広げることができ、プリント配線板全体から熱放射を行うことができ、その放熱効果を高めることができる。なお熱伝導率が２０．０Ｗ／（ｍＫ）を越そうとするには、無機フィラーとして特殊で高価なものを用いる必要があり、実用的でない場合がある。

次に、プリント配線板の熱放射性を高める効果について、図３を用いて説明する。図３（Ａ）〜（Ｄ）は、それぞれプリント配線板の断面図と温度測定の一例を示す図である。図３において、１８は銅箔、１９は熱伝導率が１．０Ｗ／(ｍＫ)未満の低放射絶縁体、２０は熱伝導率が、１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下である高放射絶縁体である。図３（Ａ）で示すサンプルＡは、従来のプリント配線板（表面に銅箔１８有り）の断面図であり、低放射絶縁体１９がガラスクロス１３に含浸され、その表面を銅箔１８で覆ったものである。図３（Ｂ）に示すサンプルＢは、低放射絶縁体１９を用いたサンプル（銅箔１８無し）の断面図であり、図３（Ａ）の銅箔１８が無いものに相当する。図３（Ｃ）で示すサンプルＣは、実施の形態における熱放射性プリント配線板に用いる放射絶縁層１２を用いたサンプル（銅箔１８無し）の断面図であり、高放射絶縁体２０をガラスクロス１３に含浸させたものである。

図３（Ｄ）は、図３（Ａ）〜（Ｃ）に示したサンプル（サンプルＡ〜Ｃ）を長時間一定温度に加熱した後（例えば１００℃）に加熱した後、空中に保持した状態で自然冷却（雰囲気温度は室温）させた場合の温度変化の様子を測定した一例である。図３（Ｄ）において、Ｘ軸は放置時間（単位は任意）、Ｙはサンプルの温度（単位は℃）である。

図３（Ｄ）において、サンプルＡとサンプルＢを比較すると、サンプルＡの方が、放置時間に対する温度変化が少ない。これは、サンプルＡは図３（Ａ）に示すようにその表面が銅箔１８で覆われており、銅箔１８の熱放射率が極めて低い（前述したように、沸騰中の水が入ったやかんに手のひらを近づけても、熱く感じにくいことと同じ現象と考えられる）ためである。

また図３（Ｄ）において、サンプルＢとサンプルＣ（共に銅箔１８無し）を比較すると、サンプルＣの方が、サンプルＢより早く温度が低下している。これはサンプルＣに用いた高放射絶縁体２０の熱放射率が、サンプルＢに用いた低放射絶縁体１９よりも高いためである。このように、プリント配線板に用いる絶縁層として、放射率の高いもの（例えば、高放射絶縁体２０や、これを用いて作製した放射絶縁層１２）を用いることで、その冷却特性を高める。

次に、プリント配線板に用いる絶縁層として、放射率と共に熱伝導率も高いものを用いる効果について、図４を用いて説明する。図４（Ａ）（Ｂ）は、共に実施の形態におけるプリント配線板の放熱効果を説明する断面図である。図４（Ａ）（Ｂ）において、電子部品１６は、例えばＬＥＤやパワー半導体等の発熱を伴う（あるいは放熱が必要な）電子部品１６に相当する。

まず図４（Ａ）（Ｂ）に示すように、放射絶縁層１２の一部にガラスクロス１３を有する絶縁基板（あるいは両面プリント配線板）の両面に、銅配線１１ａ〜１１ｄを形成した。そして図４（Ｂ）のサンプルでは、銅配線１１ａ、１１ｂの間に、放射絶縁層１２を貫通するように、ビア１４を形成した。そして、銅配線１１ａの上に、発熱を伴う電子部品１６を実装し、更に銅配線１１ａ〜１１ｄの上に熱伝対をセットし、各々の位置での温度を測定した。なお、銅配線１１ａ（Ａ点と呼ぶ）のサンプルの中央部であり、電子部品１６を実装した位置である。銅配線１１ｂ（Ｂ点と呼ぶ）は、銅配線１１ａの、裏面に相当する。そして図４（Ａ）のサンプルでは、銅配線１１ａ（Ａ点）と銅配線１１ｂ（Ｂ点）の間には、放射絶縁層１２の一部にガラスクロス１３とからなる絶縁層が形成されている。また図４（Ｂ）のサンプルでは、銅配線１１ａ（Ａ点）と、銅配線１１ｂ（Ｂ点）との間には、ビア１４を形成している。

なお銅配線１１ｃ（Ｃ点）は、銅配線１１ａ（Ａ点）と同じ面に設置しており、銅配線１１ａ（Ａ点）からの距離は３５ｍｍとした。また銅配線１１ｄ（Ｄ点）は、銅配線１１ｂ（Ｂ点）と同じ面に設置しており、銅配線１１ｂ（Ｂ点）からの距離は３５ｍｍとした。

図４（Ａ）（Ｂ）において、電子部品１６に電流を流し、発熱させ、その放熱効果を調べた結果を、（表１）に、測定結果として示す。（表１）の測定結果において、横枠は実測温度（単位は℃）、温度差（単位は℃）であり、銅配線１１ａ〜１１ｄに相当するＡ点からＤ点での結果を示す。（表１）の縦枠は、従来品（ＴＨ無し、０．４Ｗ／（ｍＫ））、従来品（ＴＨ有り、０．４Ｗ／（ｍＫ））、発明品Ａ（ＴＨ無し、１．１Ｗ／（ｍＫ））、発明品Ｂ（ＴＨ無し、４．０Ｗ／（ｍＫ））である。ここで、従来品としては、市販のＦＲ４のプリプレグ（熱伝導率は、０．４Ｗ／（ｍＫ））を用いたものであり、ＴＨ無し（ＴＨはスルーホールでサーマルビアを形成したという意味）とは、図４（Ａ）の構造を示す。また市販品（ＴＨ有り）とは、図４（Ｂ）に示す構造サンプルであり、Ａ点とＢ点の間をスルーホールで接続し、サーマルビアを形成したものである。また従来品のスルーホール部分の熱伝導率を測定したところ、８１Ｗ／（ｍＫ）の値が得られた。

（表１）の測定結果において、発明品Ａ、Ｂとは、後述する図６〜図９等で説明するサンプルに相当する。なお発明品Ａは１．１Ｗ／（ｍＫ）、発明品Ｂは４．０Ｗ／（ｍＫ）の熱伝導率が実測された。また図４（Ａ）（Ｂ）のサンプルの放熱効果の測定雰囲気はＲＴ（室温）であり、サンプルは通電後１６分した後の定常状態での測定結果である。なお発明品Ａとは、後述する実施例１で作製した試料の一つであり、発明品Ｂとはこれに無機フィラーを添加したものである。

（表１）に示した測定結果において、Ａ点の温度は、［従来品（ＴＨ無し）]≧［従来品（ＴＨ有り）］＞［発明品Ａ（ＴＨ無し）］＞［発明品Ｂ（ＴＨ無し）］となっている。

ここで［従来品（ＴＨ無し）］≧［従来品（ＴＨ有り）］となっている理由は、ＴＨによる放熱効果と考えられる。これは従来品（ＴＨ有り）において、［Ａ点の温度（８１．０度）］≒［Ｂ点の温度（８０．８℃）］であることからも判る。また［従来品（ＴＨ有り）］＞［発明品Ａ］、［発明品Ｂ］となる理由は、発明品Ａ、Ｂの高熱伝導率によるものと考えられる。

更に（表１）に示した測定結果の温度差（℃）の項目［特に（Ａ点−Ｂ点）の温度差］を比較すると、［従来品（ＴＨ無し）］＞［従来品（ＴＨ有り）］＞＞［発明品Ａ］＞［発明品Ｂ］であることが判る。そして発明品Ａ、Ｂにおける放熱効果とは、一種のヒートスプレッド効果（熱を広範囲に広げる）であることが判る。そしてこのヒートスプレッド効果と、熱放射性を併用する効果について、図５を用いて説明する。

図５（Ａ）（Ｂ）は、それぞれプリント配線板からの熱放射を説明する断面図とその測定結果の一例について説明する図である。

図５（Ａ）は、プリント配線板の断面図であり、例えば放射絶縁層１２として、熱伝導率の高い高放射絶縁体２０を用いた場合の効果を示している。図５（Ａ）において、パワー半導体等の電子部品１６に発生した熱は、矢印１７ａに示すように銅配線１１を介して放射絶縁層１２全体に広がる。そして、矢印１７ｂに示すように、熱放射（あるいは熱輻射）として、基板全体から外部に放射される。ここで放射絶縁層１２に、熱伝導性の高い素材を選ぶことで、発熱部（例えば電子部品１６）の近辺だけでなく、プリント配線板全体（例えば電子部品１６から離れた部分でも）からも、熱放射を行うことができる。

図５（Ｂ）は、放射強度の測定の一例を示す図であり、Ｘ軸は発熱部（例えば電子部品１６からの距離）を示す（単位は任意）、Ｙ軸は放射強度（単位は任意）を示す。図５（Ｂ）において、サンプルＤは、熱伝導率が０．４Ｗ／（ｍＫ）の低放射絶縁体１９を用いたプリント配線板、サンプルＥは熱伝導率４．０Ｗ／（ｍＫ）の放射絶縁層１２を用いたプリント配線板である。図５（Ｂ）から、サンプルＤに比べ、サンプルＥの方が、発熱部から遠く離れた位置での放射強度が高いことが判る。これはサンプルＥでは、放射絶縁層１２に熱伝導率の高い材料を用いることで、プリント配線板の発熱部（例えば電子部品１６）から遠く離れた位置まで、その熱が伝わり、そして遠く離れた位置でも（図５（Ａ）の矢印１７ｂの高さが少しずつ低くなるように図示しているように）、その放射強度が低下しながらも、その熱を外部に放射（あるいは輻射）する。また図５（Ａ）の矢印１７ｂに示すように、その電子部品１６の実装していない面（いわゆる裏面）側からも、同様に放射することができ、放熱効果を高める。

以上のように、放射絶縁層１２として熱伝導率の高い材料を選ぶことで、プリント配線板の全面から（あるいは発熱部から離れた部分から）、熱放射を行うことができ、その冷却効果を高める。

次に、本実施の形態における熱放射プリント配線板の製造方法の一例について図６〜図８を用いて説明する。図６は、本発明の熱放射プリント配線板に使うプリプレグの製造方法を模式的に説明する断面図である。図６において、２１は成形装置、２２はプリプレグである。高放射絶縁体２０は、例えば、結晶性エポキシ樹脂と、硬化剤と、必要に応じて添加した無機フィラー、有機溶剤等からなるものである。そして図６に示すように、市販のガラスクロス１３を、成形装置２１にセットし、矢印１７ａに示す方向に送り、高放射絶縁体２０を含浸させる。なお必要に応じて成形装置２１に取り付けたロール等を、矢印１７ｂに回しながら、ガラスクロス１３に含浸させる高放射絶縁体２０の含浸量を調整する。そして、乾燥機等（図示していない）を用いて、溶剤等を除去する。こうして高放射絶縁体２０を含浸させたプリプレグ２２を、連続的に作製する。なおプリプレグ２２の製造方法はこれに限定されるものではない。

次にプリプレグ２２を用いて、プリント配線板を作製する工程の一部について、図７（Ａ）（Ｂ）を用いて説明する。図７（Ａ）（Ｂ）はプリプレグ２２に銅箔を固定（あるいは一体化）する方法の一例を説明する断面図である。

まず図７（Ａ）に示すように、高放射絶縁体２０と、これを含浸させたガラスクロス１３からなるプリプレグ２２の一面以上に銅箔１８をセットする。そして、プレス等からなる成形装置２１を、矢印１７に示すように動かし、プリプレグ２２の一面以上に銅箔１８を貼り付ける。なお図７（Ａ）（Ｂ）において、成形装置２１にセットする金型等は図示していない。そして成形装置２１を矢印１７に示すようにして、これら部材を所定温度、圧力し、一体化する。その後、図７（Ｂ）に示すように成形装置２１を矢印１７の方向に引き離す。

このようにプリプレグ２２の一面以上に銅箔１８を貼り付けた状態で、硬化し放射絶縁層１２とする。その後、銅箔１８を所定パターンにエッチングし、必要枚数を積層することで、プリント配線板を作製する。また必要に応じて、メッキや導電性ペーストでビア１４を作製する。ビア１４はスルーホール構造であってもよい。なおプリプレグ２２を用いたプリント配線板（例えば、多層プリント配線板）の製造方法については、一般的に知られたものを利用することができる。

次に図８を用いて、２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲において熱伝導率が１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、波長５．０〜８．０μｍの放射率が０．６０以上０．９９以下である放射絶縁層１２と銅箔１８もしくは銅配線１１とからなる積層体にドリルで孔加工を行う工程と、前記積層体表面に銅配線１１を形成する工程と、を含む熱放射性プリント配線板の製造方法について説明する。図８（Ａ）〜（Ｃ）は、共に熱放射性プリント配線板の製造方法の一例を説明する断面図である。図８（Ａ）〜（Ｃ）において、２３は孔、２４はスルーホールめっきである。まず図８（Ａ）に示すように、表面に銅配線１１を形成した放射絶縁層１２の両面にプリプレグ２２をセットし、更にその上下を銅箔１８で挟むようにして、プレス装置（図示していない）にセットする。そしてプレス装置で、これらを加圧加熱し、一体化する。その後、所定位置にドリル等を用いて孔２３を形成し、図８（Ｂ）の状態とする。その後、孔２３等にスルーホールめっき２４を行い、熱放射性プリント配線板として完成させる。

なお、放射絶縁層１２は、２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲においての熱伝導率は１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、波長４．０〜１４．０μｍの放射率が０．７０以上０．９９以下のものを用いても良い。

次にプリプレグ２２の状態で、孔２３を形成する製造方法について図９〜図１１を用いて説明する。

例えば、プリプレグ２２にレーザーでビア１４に相当する孔２３を形成する工程と、前記孔２３に導電性ペースト２６を充填する工程と、前記プリプレグ２２と銅箔１８を一体化する工程と、前記プリプレグ２２を硬化して２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲において熱伝導率が１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、波長５．０〜８．０μｍの放射率が０．６０以上０．９９以下の放射絶縁層１２とする工程と、前記銅箔１８をパターニングし、銅配線１１を形成する工程と、を含むことでも、熱放射性プリント配線板を製造することができる。

更に詳しく説明する。図９〜図１１は、熱放射性プリント配線板の製造方法の一例を説明する断面図である。

図９（Ａ）〜（Ｃ）は、共にプリプレグ２２に形成した孔２３に導電性ペースト２６を充填する様子を説明する断面図である。図９（Ａ）〜（Ｃ）において、２５はフィルム、２６は導電性ペーストである。

図９（Ａ）は、プリプレグ２２の両面にフィルム２５を貼り付けた様子を説明する断面図である。そして、ここにレーザーを用いて孔２３を形成し、図９（Ｂ）の状態とする。その後、導電性ペースト２６を孔２３の中に充填し、図９（Ｃ）の状態とする。その後、図９（Ｄ）に示すように、フィルム２５を剥離する。

図１０（Ａ）〜（Ｃ）は、共にプリプレグ２２と銅箔１８を一体化した状態で、放射絶縁層１２を形成する様子を説明する断面図である。

図１０（Ａ）に示すように、プリプレグ２２の両面に銅箔１８をセットする。その後、矢印１７に示すように、これらをプレス装置（図示していない）で加熱加圧し、一体化し、放射絶縁層１２とする。その後、図１０（Ｃ）に示すように、銅箔１８をエッチングし、銅配線１１とする。

図１１（Ａ）〜（Ｃ）は、共に積層工程を説明する断面図である。図１１（Ａ）に示すように、表面に銅配線１１を形成した放射絶縁層１２の両面に、プリプレグ２２や銅箔１８をセットする。そして矢印１７に示すようにこれらをプレス装置（図示していない）で、加熱加圧し一体化する。こうして図１１（Ｂ）に示す状態とする。その後、必要部にレーザー等で孔２３を形成し、更に銅箔１８をエッチングし、銅配線１１を形成し、スルーホールめっき２４を行うことで、図１１（Ｃ）に示すような熱放射性プリント配線板を製造する。

なおこれらの工程は、その生産性の最適化のために、工程順番を前後に入れ替えることも可能である。

次に高放射絶縁体２０（これをガラスクロス１３に含浸し放射絶縁層１２を形成する）に用いる部材について説明する。放射絶縁層１２に用いる高放射絶縁体２０としては、結晶性エポキシ樹脂が望ましい。そしてその加工性を高めるために、ＰＰＥ（ポリフェニレンエーテル、polyphenylene ether）、ＰＰＳ（ポリフェニレンスルフィド）、ＰＥＳ（ポリエーテルスルホン）等のフェニル基を主鎖に含んだ熱可塑樹脂（望ましくはＴｇ＞１００℃のエンジニアリングプラスチップ材料、なおＴｇはガラス転移温度を意味する）を添加しても良い。これは主鎖にフェニル基を含んだ高Ｔｇ材料を添加することで、結晶性エポキシの結晶化を積極的に促進させるためである。

なおこれら高放射絶縁体２０に添加する熱可塑樹脂は、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルホン及び／または、その変性体とすることができる。なお熱可塑樹脂の重合度は１００以上が望ましい。重合度が１００以下と、分子量が小さい場合、所定の強度が得られない場合がある。そしてポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルホン及び／または、その変性体の少なくとも一つを主成分とする熱可塑樹脂と、結晶性エポキシ樹脂と、硬化剤と、無機フィラーとすることで、その加工性を高め、放射絶縁層１２の熱伝導性や熱放射性を高める効果が得られる。またこれらは放射性にも優れている。

また結晶化エポキシ樹脂に添加する硬化剤の添加量は、エポキシ当量から計算し、適量添加することができる。

また無機フィラーを添加することで、放射絶縁層１２の放射率や熱伝導率を高めることができる。無機フィラーとしては、アルミナ、窒化アルミ、窒化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、シリカ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、炭素から選ばれた少なくとも１種類からなる無機フィラーを用いることが望ましい。熱伝導性と熱放射性の高い無機フィラーを用いることで、熱伝導絶縁材の熱伝導性を更に高めることができる。また硬化促進剤や、表面処理剤、着色剤、難燃剤等を混入してもよい。

なお結晶性エポキシの結晶化を促進させる樹脂としては、ＰＰＥ樹脂等の主鎖にフェニル基を多数個（例えばｎ≧１００）規則正しく有したものを選ぶことが望ましい。そして規則正しく並んだフェニル基に注目し、そして後述する図８等で説明するようにフェニル基を少数（例えば２〜２０個）有している結晶性エポキシ樹脂と、このＰＰＥ樹脂のフェニル基との間で、互いのフェニル基同士を配向させ、結晶化させることで熱伝導率を高める。一般的にＴｇを向上させる方法として、網目構造をとりやすい硬化剤を配合する場合があるが、発明者らの実験では、かえって結晶化が阻害され、高い熱伝導率が得られなかった。

一方、発明者らの実験ではＰＰＥ樹脂のフェニル基（あるいは結晶化に寄与すると思われるメソゲン基部分）と、結晶性エポキシ樹脂のフェニル基（あるいはメソゲン基部分）が、互いに共通エレメントであることを積極的に利用し、これらを配向（あるいは結晶化）させる。これにより、結晶性エポキシ樹脂自体の結晶化度も向上させることができる。

なおＰＰＥ樹脂としては、変性ＰＰＥ樹脂を選んでも良い。変性ポリフェニレンエーテル（ｍ−ＰＰＥ）としては、エーテル基（ＣＯＣ）を持った芳香族ポリエーテル樹脂ＰＰＥを主体に、スチレン系樹脂（例えばポリスチレン）とのポリマーアロイ等で変性したものを用いることができる。こうした変性を行い、変性ＰＰＥ樹脂とすることで、その強度を上げると共に、結晶性エポキシ樹脂との間で架橋点を有しＴｇを高めることができる。

次に、ＰＰＥ樹脂の主鎖を形成するフェニル基部分と、一種の配向現象を起こさせることで、結晶化を促進させる結晶性エポキシ樹脂について説明する。

（化１）（化２）は、共に結晶性エポキシ樹脂の一例を示す構造式である。（化１）において、結晶性エポキシ樹脂の構造式におけるＸは、Ｓ（硫黄）もしくはＯ（酸素）、Ｃ（炭素）、なし（短結合）である。またＲ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はＣＨ_３、Ｈ、ｔ−Ｂｕ等である。またＲ１〜Ｒ４は同じであっても良い。

（化２）は、結晶性エポキシ樹脂の硬化に用いる硬化剤の構造を示す。（化２）の構造式においてＸは、Ｓ（硫黄）、Ｏ（酸素）もしくは短結合である。（化１）の主剤と、（化２）の硬化剤を混合し、重合させたものも結晶質エポキシ樹脂と呼んでもよい。

なお主剤と硬化剤の割合は、エポキシ当量から計算する。また硬化剤として（化２）以外の硬化剤を使っても良い。なお結晶性エポキシ樹脂としては、（化３）〜（化８）に示したものも使うことができる。

（化３）〜（化８）は、ＰＰＥ樹脂と結晶化しやすい結晶性エポキシ樹脂の一例を示すものである。このような結晶性エポキシ樹脂は、融点が５０〜１２１℃程度で、更に溶解粘度も低い（例えば、１５０℃における粘度は６〜２０ｍＰａ・ｓ）ため、ＰＰＥ樹脂や無機フィラーを混合、分散させやすい効果が得られる。なおこれら結晶性エポキシ樹脂の重合度は２０以下（更に１０以下、望ましくは５以下）が適当である。重合度が２０より大きい場合、分子が大きくなりすぎてＰＰＥ樹脂に配向した状態で結晶化しにくくなるためである。

一方、発明者らの実験によると、結晶性エポキシ樹脂および硬化剤と、ＰＰＥのような熱可塑樹脂と、無機フィラーとからなる熱伝導性材料の場合について、結晶性エポキシ樹脂の重合度を色々振って実験したところ、結晶性エポキシ樹脂の重合度をあげるほど、熱伝導率が低下する傾向が得られた。そこで、社内の分析部門の協力も得ながら、色々な手法で結晶性エポキシ樹脂の結晶化について調べたところ、結晶性エポキシ樹脂の重合度をあげるほど、熱可塑樹脂との混合状態では結晶性エポキシ樹脂の結晶化が阻害されることが判った。つまり結晶性エポキシ樹脂の重合度をあげるほど、できあがった熱伝導性材料内における結晶性エポキシ樹脂の結晶化が阻害される（特にＰＰＥに隣接した状態での結晶性エポキシ樹脂の結晶化が阻害される）ことが判った。そして結晶性エポキシ樹脂の結晶化が阻害される、つまり熱伝導性材料の内部で、結晶化構造が取りにくい、あるいは結晶化構造に寄与しないフリーの長鎖部分が増加することが判った。このような結晶性エポキシ樹脂の結晶化構造に寄与しないフリーの長鎖部分が増加することによって、熱伝導率が低下することが判った。またこのようなフリーの長鎖部分が増加する結果、できあがった熱伝導性材料のＴｇ（ガラス転移温度）が影響を受けることが判った（結晶化していない樹脂部分のＴｇの割合が大きくなってしまった）。このように結晶性エポキシ樹脂の重合度が高すぎる場合、熱伝導性材料自体の熱伝導率が低下する、Ｔｇが低下するという課題が発生することが判った。そして発明者らの実験では、結晶性エポキシ樹脂の重合度は、２０以下（更には１０以下、更に望ましくは５以下）で良い結果が得られた。

次にＰＰＥ樹脂と、結晶性エポキシ樹脂の比率について説明する。全樹脂に対して、ＰＰＥ樹脂は３〜２０ｗｔ％（結晶化エポキシ樹脂＋硬化剤が８５〜９７ｗｔ％）の範囲内が望ましい。ＰＰＥ樹脂の割合が３ｗｔ％未満の場合、できあがった放射絶縁層１２が脆くなる可能性がある。またＰＰＥ樹脂の割合が２０ｗｔ％を超えると、結晶化エポキシ樹脂の割合が低下するため、できあがった放射絶縁層１２の熱伝導率が影響を受ける可能性がある。

なお無機フィラーと全樹脂（ここで全樹脂とは、ＰＰＥ樹脂と結晶性エポキシ樹脂＋（＋はプラス）硬化剤の合計の意味であり、樹脂バインダーに相当する）の比率において、無機フィラーは５０〜９５Ｖｏｌ％（樹脂バインダーは５０〜５Ｖｏｌ％）の範囲内が望ましい。無機フィラーの割合が５０Ｖｏｌ％未満の場合、高放射絶縁体２０が硬化してなる放射絶縁層１２の熱伝導率が低下する場合がある。また無機フィラーの割合が９５Ｖｏｌ％より大きくなると、ＰＰＥ樹脂等の熱伝導樹脂材の成形性に影響を与える場合がある。なおここでｗｔ％は重量％、Ｖｏｌ％は体積％を意味する。

また無機フィラーの平均粒径は、０．０１μｍ以上５０μｍ以下の範囲が望ましい。平均粒径が小さいほど比表面積が増えるため、放熱面積が増え、放射効率が高まるが、平均粒径が０．０１μｍ以下になると、比表面積が大きくなり、ＰＰＥ樹脂等の熱伝導樹脂材の混練が難しくなり、放射絶縁層１２の成形性にも影響を与える場合がある。また５０μｍを超えると、放射絶縁層１２の薄層化が難しくなり、放熱基板としての放熱性に影響を与え、製品の小型化に影響を与える可能性がある。なお無機フィラーの充填率を増加するために、異なる粒度分布を有する複数種の無機フィラーを選び、これらを混合して使用しても良い。

なお銅配線１１の厚みが０．００２〜０．１１０ｍｍの範囲が必要な場合は銅箔１８を、０．１０〜１．００ｍｍの範囲が必要な場合はリードフレームを、互いに使い分けることができる。なおリードフレームの部材としては銅を主体としたもの（例えばタフピッチ銅や無酸素銅等と呼ばれているもの）を用いることが望ましい。銅を主体とすることで、高放熱性と低抵抗性を両立することができる。また銅配線１１の一部分以上を放射絶縁層１２に埋めることで、放熱基板における銅配線１１に起因する段差（厚み段差）を低減できる。

ここでプリプレグ２２を用いてプリント配線板を作製する場合、プリント配線板として要求される一定の物理的強度（例えば、曲げに対する強度）が必要となる。これらの強度等の評価であるが、ガラスクロス１３に樹脂を含浸させた状態で特性を評価すると、ガラスクロス１３の影響が大きく、ポリフェニレンエーテル（ＰＰＥ樹脂）、ポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ樹脂）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）の少なくとも一つを主成分とする熱可塑樹脂と、結晶性エポキシ樹脂と、硬化剤と、からなる放射絶縁層１２である樹脂部分の単体での特性（割れにくさ、欠けにくさ、耐力等）の評価が難しい場合がある。そこで実験１として高放射絶縁体２０を構成する樹脂成分について、実験１として評価した。

なおガラスクロス１３として、ガラス以外の樹脂繊維素材（アラミド等）を用いたものを、ガラスクロス１３として使うことで、軽量化できる。またアラミド等の織布あるいは不織布をガラスクロス１３とすることで、ガラス製のガラスクロス１３に比べて放射率を高めることに有用である。

実施例１
結晶性エポキシ樹脂としてジャパンエポキシレジン製「ＹＬ６１２１Ｈ」，東都化学製「ＹＳＬＶ−８０ＸＹ」、硬化剤として、４−４ジアミノビフェニルエーテル、４−４，ジハイドロキシビフェニル、熱可塑性樹脂としてＰＰＥ粉末を用意した。

上記の結晶性エポキシ樹脂を加熱融解し、硬化剤とＰＰＥ（１〜３０ｗｔ％）を混合し攪拌した。比較・測定用試料としてＰＰＥを混合していない試料もあわせて作製している。また、４−４，ジハイドロキシビフェニルを用いた試料は硬化促進剤としてイミダゾールを０．５ｗｔ％添加している。

この混合物を、厚さ５００μｍにシート成形した。成形後、測定に応じた形状に積層後１８０℃×２Ｈｏｕｒの条件で硬化させ、各種測定を行った。

熱伝導率測定：ブルカーエイエックスエス社製キセノンレーザーフラッシュ
試料サイズ：φ１／２インチ、ｔ１ｍｍ
ＴＭＡ圧縮加重測定：セイコー製
試料サイズ：４ｍｍ×４ｍｍ×t３ｍｍ
破断強度試験：図１２参照
図１２は、曲げ強度の評価方法の一例を示す模式図である。図１２において、２７は治具、２８はサンプルである。図１２において、治具２７の間にサンプル２８をセットし、矢印１７で示す方向に治具２７を用いて、サンプル２８を曲げる。発明者らの実験では、従来品では１〜２ｍｍ曲げた時点で、サンプル２８が折れた（割れた）。一方、本発明のサンプル２８では、４〜５ｍｍ曲げても折れなかった。なお試料サイズ（サンプル２８の形状）は、４０ｍｍ×４ｍｍ×t２ｍｍである。

ＹＬ６１２１と４−４ジアミノビフェニルの測定結果を（表２）に示す。

ＰＰＥを配合することにより２０％以下の試料で熱伝導率の向上（＝結晶化率の向上）がみられた。また、破断強度試験において試料１、２は（表２）に示す値で、破断したが、試料３〜７は大きくたわむだけで、今回用いた測定器の範囲では破断しなかった。または破断強度に方向性は観察されなかった。これはポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルホンの少なくとも一つを主成分とする熱可塑樹脂を用い、この熱可塑樹脂を元に結晶性エポキシ樹脂を結晶化させる場合、特に異方性は生じないためと考えられた。

なお（表２）においては、樹脂単体の熱伝導率を測定したものであるが、ここにアルミナ、窒化アルミ、窒化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、シリカ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、炭素、酸化錫から選ばれた少なくとも１種類以上からなる無機フィラーを添加することで、２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲において、熱伝導率は１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、波長５．０〜８．０μｍの放射率が０．６０以上０．９９以下である放射絶縁層１２を作製することができる。

またこれら無機フィラー等を調整することで、高放射絶縁体２０を、２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲においての熱伝導率は１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、波長４．０〜１４．０μｍの放射率が０．７０以上０．９９以下とすることもできる。

以上のようにして、少なくとも複数層の銅配線１１と、前記銅配線１１を内部もしくは表面に形成した絶縁体と、前記複数層の銅配線１１を接続するビア１４とからなるプリント配線板であって、２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲において前記絶縁体を放射絶縁層１２（あるいは高放射絶縁体２０）とし、その熱伝導率は０．３Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、波長５．０〜８．０μｍの放射率が０．６０以上０．９９以下である熱放射性プリント配線板とすることで、携帯電話、プラズマテレビ、あるいは電装品、あるいは産業用等の放熱が要求される機器の小型化、高性能化が可能となる。

また少なくとも複数層の銅配線１１と、前記銅配線１１を内部もしくは表面に形成した絶縁体と、前記複数層の銅配線１１を接続するビア１４とからなるプリント配線板であって、２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲において前記前記絶縁体を放射絶縁層１２あるいは広報車絶縁体２０とし、その熱伝導率は１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、波長４．０〜１４．０μｍの放射率が０．７０以上０．９９以下である熱放射性プリント配線板とすることで、携帯電話、プラズマテレビ、あるいは電装品、あるいは産業用等の放熱が要求される機器の小型化、高性能化が可能となる。

更に、これら熱放射性プリント配線板を用いて、プラズマテレビ等の製品に使われるモジュールの放熱性を高めることができる。例えば、少なくとも複数層の銅配線１１と、前記銅配線１１を内部もしくは表面に形成した絶縁体と、前記複数層の銅配線１１を接続するビア１４とからなるプリント配線板と、その上に実装した電子部品１６とからなるモジュールであって、前記絶縁体は、２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲において熱伝導率は１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、波長５．０〜８．０μｍの放射率が０．６０以上０．９９以下の放射絶縁層１２であるモジュールとすることで、モジュールの放熱性を高めることができる。

なお、絶縁体は、２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲においての熱伝導率は１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、波長４．０〜１４．０μｍの放射率が０．７０以上０．９９以下の放射絶縁層１２であるモジュールとすることで、用途に応じてモジュールの放熱性を高めることができる。

以上のように、本発明にかかる熱放射性プリント配線板及びその製造方法とこれを用いたモジュールを用いることによって、携帯電話、プラズマテレビ、あるいは電装品、あるいは産業用等の放熱が要求される機器の小型化、高性能化が可能となる。

実施の形態における熱放射性プリント配線板の斜視断面図 （Ａ）（Ｂ）は、それぞれ本発明の熱放射性プリント配線板の放熱効果を説明する断面図及び熱放射特性の一例を示す図 （Ａ）〜（Ｃ）と（Ｄ）は、それぞれプリント配線板の断面図と、温度測定の一例を示す図 （Ａ）（Ｂ）は、それぞれ実施の形態におけるプリント配線板の放熱効果を説明する断面図 （Ａ）（Ｂ）は、それぞれ高放射プリント配線板からの熱放射を説明する断面図とその測定の一例について説明する図 本発明の熱放射プリント配線板に使うプリプレグの製造方法を模式的に説明する断面図 （Ａ）（Ｂ）は、共にプリプレグに銅箔を固定（あるいは一体化）する方法の一例を説明する断面図 （Ａ）〜（Ｃ）は、共に熱放射性プリント配線板の製造方法の一例を説明する断面図 （Ａ）〜（Ｄ）は、共にプリプレグに形成した孔に導電性ペーストを充填する様子を説明する断面図 （Ａ）〜（Ｃ）は、共にプリプレグと銅箔を一体化した状態で、放射絶縁層を形成する様子を説明する断面図 （Ａ）〜（Ｃ）は、共に積層工程を説明する断面図 曲げ強度の評価方法の一例を示す模式図 （Ａ）（Ｂ）は、共に結晶性エポキシ樹脂に磁場をかけながら硬化させ熱伝導性を高める様子を説明する断面図

符号の説明

１１ 銅配線
１２ 放射絶縁層
１３ ガラスクロス
１４ ビア
１５ 補助線
１６ 電子部品
１７ 矢印
１８ 銅箔
１９ 低放射絶縁体
２０ 高放射絶縁体
２１ 成形装置
２２ プリプレグ
２３ 孔
２４ スルーホールめっき
２５ フィルム
２６ 導電性ペースト
２７ 治具
２８ サンプル

Claims (14)

1. 少なくとも複数層の銅配線と、前記銅配線を内部もしくは表面に形成した絶縁体と、前記複数層の銅配線を接続するビアとからなるプリント配線板であって、
   前記絶縁体は、２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲において熱伝導率が１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、
   波長５．０〜８．０μｍの放射率が０．６０以上０．９９以下である熱放射性プリント配線板。
2. 少なくとも複数層の銅配線と、前記銅配線を内部もしくは表面に形成した絶縁体と、前記複数層の銅配線を接続するビアとからなるプリント配線板であって、
   前記絶縁体は、２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲においての熱伝導率は１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、
   波長４．０〜１４．０μｍの放射率が０．７０以上０．９９以下である熱放射性プリント配線板。
3. 前記絶縁体が結晶性エポキシ樹脂と無機フィラーを有する請求項１もしくは２のいずれか一方に記載の熱放射性プリント配線板。
4. 前記絶縁体は、ガラスクロスと、
   このガラスクロスに含浸した樹脂体とからなり、
   前記樹脂体は、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリエーテルスルホン及び／または、その変性体の少なくとも一つを主成分とする熱可塑樹脂と、
   結晶性エポキシ樹脂と、硬化剤と、無機フィラーとからなる請求項１もしくは２のいずれか一方に記載の熱放射性プリント配線板。
5. 結晶性エポキシ樹脂が以下の（化１）である請求項３もしくは４記載のいずれか一方に記載の熱放射性プリント配線板。
   

   
6. 結晶性エポキシ樹脂の重合度は２０以下である請求項３もしくは４のいずれか一方に記載の熱放射性プリント配線板。
7. 熱可塑樹脂の重合度は１００以上である請求項４に記載の熱放射性プリント配線板。
8. 無機フィラーは、アルミナ、窒化アルミ、窒化ホウ素、炭化ケイ素、窒化ケイ素、シリカ、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、炭素、酸化錫から選ばれた少なくとも１種類以上からなる無機フィラーである請求項３記載の熱放射性プリント配線板。
9. 少なくとも、
   ２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲において熱伝導率が１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、波長５．０〜８．０μｍの放射率が０．６０以上０．９９以下である放射絶縁層と銅箔もしくは銅配線とからなる積層体にドリル加工を行う工程と、
   前記積層体表面に銅配線を形成する工程と、
   を含む熱放射性プリント配線板の製造方法。
10. 少なくとも、
    ２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲においての熱伝導率は１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、波長４．０〜１４．０μｍの放射率が０．７０以上０．９９以下である放射絶縁層と銅箔もしくは銅配線とからなる積層体にドリル加工を行う工程と、
    前記積層体表面に銅配線を形成する工程と、
    を含む熱放射性プリント配線板の製造方法。
11. プリプレグにレーザーでビア孔を形成する工程と
    前記ビア孔に導電性ペーストを充填する工程と
    前記プリプレグと銅箔を一体化する工程と、
    前記プリプレグを硬化して２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲において熱伝導率が１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、波長５．０〜８．０μｍの放射率が０．６０以上０．９９以下の放射絶縁層とする工程と、
    前記銅箔をパターニングし、銅配線を形成する工程と、を含む熱放射性プリント配線板の製造方法。
12. プリプレグにレーザーでビア孔を形成する工程と
    前記ビア孔に導電性ペーストを充填する工程と
    前記プリプレグと銅箔を一体化する工程と、
    前記プリプレグを硬化して２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲においての熱伝導率は１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、
    波長４．０〜１４．０μｍの放射率が０．７０以上０．９９以下の放射絶縁層とする工程と、
    前記銅箔をパターニングし、銅配線を形成する工程と、を含む熱放射性プリント配線板の製造方法。
13. 少なくとも複数層の銅配線と、前記銅配線を内部もしくは表面に形成した絶縁体と、前記複数層の銅配線を接続するビアとからなるプリント配線板と、その上に実装した電子部品とからなるモジュールであって、
    前記絶縁体は、２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲において熱伝導率は１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、
    波長５．０〜８．０μｍの放射率が０．６０以上０．９９以下の放射絶縁層であるモジュール。
14. 少なくとも複数層の銅配線と、前記銅配線を内部もしくは表面に形成した絶縁体と、前記複数層の銅配線を接続するビアとからなるプリント配線板と、その上に実装した電子部品とからなるモジュールであって、
    前記絶縁体は、２７３Ｋ〜４００Ｋの温度範囲においての熱伝導率は１．０Ｗ／（ｍＫ）以上２０．０Ｗ／（ｍＫ）以下、
    波長４．０〜１４．０μｍの放射率が０．７０以上０．９９以下の放射絶縁層であるモジュール。

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