JP2008263523A - 高周波スイッチ回路 - Google Patents
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Abstract
【課題】高周波スイッチ回路を介して伝達される高周波信号の二次高調波歪みを低減する。
【解決手段】高周波スイッチ回路において、受信側トランスファー回路(8)を構成するFET(11−20)を奇数段の直列構成とする。各FET段は、ソース電極とドレイン電極(S,D)の位置が交換されたMOSFETの並列体で構成するとともに、各MOSFET(11−20)のゲート幅を、一列のMOSFETで受信側トランスファー回路を構成する場合に比べて半減する。
【選択図】図4
【解決手段】高周波スイッチ回路において、受信側トランスファー回路(8)を構成するFET(11−20)を奇数段の直列構成とする。各FET段は、ソース電極とドレイン電極(S,D)の位置が交換されたMOSFETの並列体で構成するとともに、各MOSFET(11−20)のゲート幅を、一列のMOSFETで受信側トランスファー回路を構成する場合に比べて半減する。
【選択図】図4
Description
この発明は、高周波信号の伝達経路を動作モードに応じて切換える高周波スイッチ回路に関し、特に、SOI(シリコン・オン・インシュレータ:Silicon On Insulator)基板上に作製されたMOSFET(絶縁ゲート型電界効果トランジスタ)を用いた高周波スイッチ回路に関する。より特定的には、この発明は、携帯電話等の移動端末のアンテナ送受信切換用のスイッチ回路に適用される高周波スイッチ回路に関する。
携帯電話端末においては、送信機の出力は、30dBm以上の大電力である。したがって、アンテナに対する送受信を切換える高周波スイッチ回路においては、このような30dBm以上の大電力を扱う必要がある。高周波スイッチ回路においては、他のロジック回路と同じ製造プロセスで構成するために、スイッチングトランジスタとして、MOSFET(絶縁ゲート型電界効果トランジスタ)が用いられるようになってきている。この場合、高周波スイッチ回路における信号通過時の損失を抑制しかつ大電力を取扱うために、スイッチ回路を構成するMOSFETのゲート幅は、2mm程度必要とされる。このようなゲート幅が3mm程度のサイズのMOSFETは、一般に、ゲート幅が50μmの単位MOSFETをアレイ上に配置したマルチフィンガ構成を有している。このマルチフィンガ構成のトランジスタにおいては、単位MOSFETのドレイン電極およびソース電極が、ゲート電極を間に挟んで交互に配置され、単位MOSFETが並列に接続される。
高周波スイッチ回路のMOSFETに印加される電圧は、耐圧を維持するため、通常、電源電圧以内にすることが要求される。この電源電圧は、たとえば3.3V程度の低い電圧である。したがって、高周波スイッチ回路において20V程度の電圧振幅を取扱う場合には、複数個のMOSFETを直列接続する構成が利用される。直列体において各MOSFETで電圧を分圧することにより、各MOSFETに印加される電圧を低下させる。
このような高周波スイッチ回路の構成要素としてMOSFETを用いた構成が、たとえば特許文献1(特表2005−515657号公報)に示されている。この特許文献1においては、携帯電話端末等の無線通信システムにおいて比較的大電力を取扱うことを想定したSPDT(シングル・ポール・ダブル・スロー:Single Pole-Double Throw:単極双投)スイッチが示される。この特許文献1に示される構成においては、送受信側トランスファーFET(送受信機とアンテナとの間)、送受信側シャントFET(送受信機と基準電位ノード(接地ノード)の間)が、それぞれ、3段のスタックまたは直列接続されたMOSFETで構成される。このスイッチ回路において取扱う大電力の信号強度に応じて、これらのシャントFETおよびトランスファーFETにおいて、2から10段程度のMOSFETが直列に接続される。
また、高周波スイッチ回路における各MOSFETを、マルチフィンガ構造のトランジスタで形成した配置が、特許文献2(特開2006−174425号公報)に示されている。
いま、高周波スイッチ回路において、送信側および受信側を分離して考える。SPDT型高周波スイッチ回路の受信側トランスファー用FETにおいて、5個のMOSFETを直列に接続する場合を考える。各MOSFETに対して、上述のように50μm程度のゲート幅の単位MOSFETがアレイ状に配置され、ゲート幅2mm程度のMOSFETが実現される。
また、高周波スイッチ回路において、各MOSFETのゲートには、50kΩ程度の抵抗値を有するゲートバイアス抵抗が接続される。これは、高周波スイッチ回路における高周波信号を、ゲート電極側で実効的にフローティング状態として、漏洩を防止するためである。これらのトランスファー用FETにおいて各MOSFETのゲート電極には、バイアス抵抗を介して、送信および受信を切換えるオン/オフ制御信号が与えられる。上述の特許文献2においては、高周波スイッチ回路を小型化するために、最も大電力の信号を受けるMOSFETに対するバイアス抵抗が最大値に設定され、他のMOSFETに対するバイアス抵抗が小さくされる。バイアス抵抗の物理的サイズ(レイアウト面積)を低減してスイッチ回路を小型化することが図られる。
送受信切換の制御信号は、一般的なMOSFETを用いる場合、オン時には、電源電圧のたとえば3.3Vが印加され、オフ時には、−1Vから−3.3Vの負電圧が印加される。負電圧が利用されるのは、高周波信号は、あるバイアスを基準として、振動するため、確実に、オフ状態とすべきMOSFETを、オフ状態に維持するためである。
特表2005−515657号公報
特開2006−174425号公報
前述の特許文献1においては、高周波スイッチ回路においてMOSFETを複数個直列に接続することにより、高周波スイッチ回路の降伏電圧を増加させている。高周波スイッチ回路においてMOSFETは、マルチフィンガ構成を有している。このマルチフィンガ構成のMOSFETにおいては、MOSFETの中心から見ると、ソース電極およびドレイン電極のレイアウトが非対称であり、したがってMOSFETのドレイン容量およびソース容量が非対称となる。
また、SOI構造において、MOSFETの基板電位を固定する場合には、このソース電極およびドレイン電極の非対称性は、さらに大きくなる。MOSFETごとにボディ領域に対して基板電位を供給する必要があり、ボディ領域の電極取出し部のために、ソースおよびドレイン領域のレイアウトの非対称が一層大きくなる。
特に、送信機に適用されるLDMOS(Laterally Diffused MOS:横方向拡散MOS)をスイッチ回路に適用する場合、ドレイン電極において、耐圧特性を維持するために、横方向拡散が行なわれており、ソース領域およびドレイン領域の非対称性がより一層大きくなる。
これらのMOSFETを、受信側トランスファーFETに対して用いた場合、MOSFETが偶数個直列に接続される場合には、2個の直列MOSFETの単位が、繰返し配置される。したがって、2個の直列MOSFETを、1個のMOSFETに置き換えた場合、ドレイン領域およびソース領域の非対称性を無視することができる。しかしながら、奇数個のMOSFETが直列に接続される場合、2個の直列MOSFETの単位と1つのMOSFETとが存在する。1つのMOSトランジスタのソース領域およびドレイン領域の非対称により、トランスファーFETを構成するMOSFETの入出力インピーダンスが全て同一とならず、この余分のMOSFETにおいて伝送線路のインピーダンス不整合が生じ、送信信号に対する反射成分等が発生する。すなわち、この余分のMOSFETのソース領域およびドレイン領域の非対称性に起因する、送信信号の二次高調波歪みが、大きくなるという問題が生じる。
前述の特許文献1においては、MOSFETをシリコン・オン・サファイア上で多段接続してトランスファーFETを構成して、高周波スイッチ回路の降伏電圧および動作特性を改善することは示されているものの、トランスファー用のMOSFETのソース領域およびドレイン領域の非対称性に起因する高調波歪みの問題については何ら考慮していない。
また、特許文献1においては、チャージャポンプ回路を利用して負電圧を生成して、MOSFETのオン/オフを制御して送受信を切換えている。この場合、チャージャポンプ回路により、チップ占有面積が増大するという問題が生じる。また、制御信号の振幅が電源電圧と負電圧の間となり、消費電力が増大する。
また特許文献2においては、直列接続されるMOSFETのバイアス抵抗の抵抗値を、変化させる構成を示している。この場合、大振幅の信号を取扱うMOSFETから順次ゲートバイアス抵抗の抵抗値を小さくしている。この場合特許文献2は、金属配線のバイアス抵抗を、蛇行形状に配置して、各MOSFETそれぞれ個々に、バイアス抵抗を設けている。このため、チップ面積を低減する上でも限界がある。また、この特許文献2においては、MOSFETのソース領域およびドレイン領域の非対称性に起因する奇数段のMOSFETの直列接続時の高調波歪みの問題については何ら考慮していない。
それゆえ、この発明の目的は、二次高調波歪みを抑制できる高周波スイッチ回路を提供することである。
この発明に係る高周波スイッチ回路は、少なくとの1個の入出力端子と少なくとも1個の出力端子と、少なくとも1個の入力端子を有し、動作モードに応じて高周波信号の入出力を切換える高周波スイッチ回路である。入出力端子と出力端子との間に第1および第2の電界効果トランジスタで構成される単位素子を直列に奇数個K接続する。単位素子各々において、第1の電界効果トランジスタのソースおよびドレインを第2の電界効果トランジスタのドレインおよびソースにそれぞれ接続しかつ、これらの第1および第2の電界効果トランジスタのゲートを共通に接続する。
この発明に係る高周波スイッチ回路においては、ソースとドレインの位置が交換された第1および第2の電界効果トランジスタの対が並列に接続されて単位素子が構成される。この単位素子が、奇数個K直列に接続される。したがって、各単位素子の電界効果トランジスタにおいて、ソースおよびドレインが非対称な配置であっても、各単位素子において、非対称なレイアウトに起因する寄生容量等を等しくすることができる。これにより、容量等の不均一に起因する高調波歪みを抑制することができる。
[実施の形態1]
図1は、この発明に従う高周波スイッチ回路においてスイッチング素子として用いられるMOSFET(絶縁ゲート型電界効果トランジスタ)の平面レイアウトを概略的に示す図である。図1において、MOSFET MFTは、ソース不純物領域SRG、ドレイン不純物領域DRG、およびこれらのドレイン不純物領域DRGおよびソース不純物領域SRGの間に配置されるゲート電極GEを含む。
図1は、この発明に従う高周波スイッチ回路においてスイッチング素子として用いられるMOSFET(絶縁ゲート型電界効果トランジスタ)の平面レイアウトを概略的に示す図である。図1において、MOSFET MFTは、ソース不純物領域SRG、ドレイン不純物領域DRG、およびこれらのドレイン不純物領域DRGおよびソース不純物領域SRGの間に配置されるゲート電極GEを含む。
ソース不純物領域SRGおよびドレイン不純物領域DRGは、ゲート電極GEに関して交互に配置される。ゲート電極GEは、ゲート電極配線GEIを介してゲート端子GTMに電気的に接続される。ドレイン不純物領域DRGは、ドレイン電極配線DEIを介してドレイン端子DTMに電気的に接続される。ソース不純物領域SRGは、ソース電極配線SEIを介してソース端子STMに電気的に接続される。両端に配置されるゲート電極GEは接地ノードに電気的に接続される。これらの両側に配置されるゲート電極GEは、ダミー電極として利用される。
図1に示すMOSFETは、ソース電極取出配線SEIおよびドレイン電極配線DEIが、噛合するように配置されており、マルチフィンガ構成のトランジスタである。
この図1に示すMOSFET MFTは、4つの単位MOSFETが並列に接続された構成と等価である。ゲート幅が、D1を有する場合、ゲート電極が4本設けられており、このMOSFET MFTの合計のゲート幅は、4×D1となる。本実施の形態においては、従来スイッチ回路に用いられるマルチフィンガー構成のMOSFETのゲート幅の1/2倍に設定される。以下に詳細に説明するように、図1に示すMOSFETを並列に接続して、1つのトランスファー用MOSFETとして利用する。
この図1に示すMOSFET MFTのレイアウトにおいては、ドレイン不純物領域DRGは2個設けられ、ソース不純物領域SRGが、3個設けられる。したがって、ドレイン端子DTMに付随する寄生容量およびソース端子STMに付随する寄生容量および配線抵抗の分布が、非対称となる。
図2は、図1に示すMOSFET MFTの電気的等価回路を示す図である。図2において、MOSFET MFTは、ドレイン端子DTMとソース端子STMの間に並列に接続される4つの単位トランジスタ(MOSFET)UTR0−UTR3と、その両側に配置される2つのダミートランジスタDR0およびDR1を含む。
単位トランジスタUTR0−UTR3のゲートは、共通のゲート端子DTMに電気的に接続される。ダミートランジスタDR0およびDR1は、そのゲートが接地ノードに接続される。ドレイン領域は、トランジスタとして利用されないので、通常は接地ノードに接続される。
この図2に示す電気的等価回路から明らかなように、ドレイン端子DTMには、4つの単位トランジスタUTR0−UTR3のドレインDが結合され、ソース端子STMには、4つの単位トランジスタUTR0−UTR3のソースSに加えて、さらに、ダミートランジスタDR0およびDR1のソースが結合される。ここで、ドレインDは、図1に示すドレイン不純物領域DRGおよびドレイン電極配線DEIを示し、ソースSは、図1に示すソース不純物領域SRGおよびソース電極配線SEIを示す。
すなわち、ドレイン端子DTMには、4つのドレインDが並列に結合され、ソース端子STMには、6個のソースSが並列に結合される。MOSFETにおいては、ソースに対しては、ソース抵抗(ソース不純物領域および配線の抵抗)、接合容量およびソース−ゲート間容量が存在し、ドレインDには、ドレイン抵抗(ドレイン不純物領域および配線の抵抗)、ドレイン接合容量およびゲート−ドレイン容量が存在する。したがって、MOSFET MFTにおいては、ドレイン端子DTMに付随する寄生容量および寄生抵抗と、ソース端子STMに付随する寄生容量および寄生抵抗が非対称となる。
図3は、MOSFETとしてSOIかつLDMOS構造のトランジスタを利用する場合の、2つの単位トランジスタの概略断面構造を示す図である。図3において、P型基板SUB上に絶縁膜ISLが設けられるSOI基板で、絶縁膜ISL上にLDMOSが形成される。
2つのLDMOSトランジスタは、高濃度N型ドレイン不純物領域DRaと、このドレイン不純物領域DRaに隣接してP型ボディ領域PBYaおよびPBYb表面に形成される低濃度N型不純物領域DRIaおよびDRIbとを含む。これらの低濃度不純物領域DRIaおよびDRIbによりドレイン高電界を緩和する。ドレイン不純物領域DRaは、2つのトランジスタにより共有される。
P型ボディ領域PBYa表面にドレイン不純物領域と対向してN型ソース不純物領域SRaが形成され、このソース不純物領域SRaに隣接して、低濃度N型不純物領域SRIaが形成される。これらの不純物領域SRIaおよびDRIaの間のボディ領域表面上にゲート絶縁膜を介してゲート電極GTaが形成される。これらのゲート電極GTaと、不純物領域SRa、SRIa、DRa、DRIaとにより1つのLDMOSトランジスタが形成される。
また、P型ボディ領域PBYbに、高濃度N型ソース不純物領域SRbがドレイン不純物領域DRaに対向して形成される。このソース不純物領域SRbに隣接して、低濃度N型不純物領域SRIbが形成される。また、不純物領域DRIaおよびSRIbの間のボディ領域表面にゲート絶縁膜を介してゲート電極GTbが形成される。
低濃度ソース不純物領域SRIaおよびSRIbは、低濃度ドレイン不純物領域DRIaおよびDRIbよりも、その長さは短い。この図3に見られるように、ソース不純物領域とドレイン不純物領域とは、明らかに異なる形状を有している。しかし、このような形状は通常のCMOS製造プロセスから最小限の工程変更で作成される。
このLDMOSは、送信機にしばしば用いられる。したがって、送信機と同一製造プロセスで高周波スイッチ回路を構成することができる。
図4は、この発明の実施の形態1に従う高周波スイッチ回路の構成を示す図である。図4に示す高周波スイッチ回路は、一例として、SPDT型スイッチ回路である。図4においては、回路接続構成を明確に示すために、受信側および送信側を区別して記載する。
この高周波スイッチ回路は、送信端子(入力端子)1とアンテナ端子(入出力端子)3の間に接続される送信側トランスファー回路7と、受信端子(出力端子)2とアンテナ端子3との間に接続される受信側トランスファー回路8を含む。送信端子1には、図示しない送信機が接続され、受信端子2には、図示しない受信機が接続される。
送信側トランスファー回路7は、送信端子1とアンテナ端子3の間に接続されるトランスファー用MOSFET6aを含む。トランスファー用MOSFET6aは、ゲートが、制御端子4にバイアス抵抗6bを介して接続される。
受信型トランスファー回路8は、並列に配置される2つのトランジスタ群TRAおよびTRBを含む。トランジスタ群TRAは、アンテナ端子3と受信端子2との間に直列に接続されるMOSFET11−15を含む。これらのMOSFET11−15においては、ドレインDおよびソースSが交互に配置され、隣接MOSFETにおいては、ソースSまたはドレインDが共有される。アンテナ端子3には、MOSFET11のドレインDが接続され、受信端子2には、MOSFET15のソースSが接続される。
トランジスタ群TRBは、アンテナ端子3と受信端子2の間に直列に接続されるMOSFET16−20を含む。これらのMOSFET16−20は、ソースSおよびドレインDが、トランジスタ群TRAのMOSFET11−15のソースSおよびドレインDの配置順序と逆にされる(位置が交換される)。したがって、トランジスタ群TRBにおいて、MOSFET16−20は、ソースSおよびドレインDがそれぞれ隣接MOSFET間で共有されるものの、アンテナ端子3には、MOSFET16のソースSが接続され、MOSFET20のドレインDが、受信端子2に結合される。
このトランジスタ群TRAおよびTRBにおいては、同じ個数のMOSFETが配置される。トランジスタ群TRAおよびTRBにおいて対応して配置されるMOSFETのドレインDとソースSを相互に接続する。したがって、トランジスタ群TRAのドレインDがトランジスタ群TRBのソースSに電気的に接続され、また、トランジスタ群TRAのソースSが、トランジスタ群TRBのドレインDに接続される。
これらのMOSFET11−20は、送信端子1に接続される送信機を構成するトランジスタと同様のMOSFETで構成される。ただし、送信機にLDMOSを用いる場合には、LDMOSで構成してもよい。このトランジスタ群TRAおよびTRBのゲート幅は、トランジスタ群TRAおよびTRBにおいて対向して配置されるトランジスタ対の合計ゲート幅が、従来の受信側トランスファーFETのゲート幅と等しくなるように設定される。
MOSFET11−15およびMOSFET16−20のそれぞれのゲートが相互に接続され、これらのMOSFET対のゲートには、それぞれ、バイアス抵抗21a−21eが接続される。すなわち、MOSFET11および16のゲートがバイアス抵抗21aを介して制御信号入力端子5に電気的に接続され、MOSFET12および17のゲートが、バイアス抵抗21bを介して制御信号入力端子5に接続される。MOSFET13および18のゲートが、バイアス抵抗21cを介して制御信号入力端子5に接続される。MOSFET14および19のゲートが、バイアス抵抗21dを介して制御信号入力端子5に接続される。また、MOSFET15および20のゲートが、バイアス抵抗21eを介して制御信号入力端子5に接続される。これらのバイアス抵抗21a−21eの抵抗値は、本実施の形態1においては、等しくされる。
高周波スイッチ回路は、さらに、送信端子1と接地ノード(基準電位ノード)との間に接続される送信側シャント回路9と、受信端子2と接地ノードの間に結合される受信側シャント回路10を含む。送信側シャント回路9は、送信端子1と接地ノードの間に直列に接続されるMOSFET9aa−9aeと、これらのMOSFET9aa−9aeのゲートにそれぞれ接続されるバイアス抵抗9ba−9beを含む。バイアス抵抗9ba−9beは、共通に制御信号入力端子5に接続される。
受信側シャント回路10は、受信端子2と接地ノードの間に接続されるMOSFET10aを含む。このMOSFET10aのゲートは、バイアス抵抗10bを介して制御信号入力端子4に電気的に接続される。
これらのバイアス抵抗6b、9ba−9be、10bおよび21a−21eは、各々、たとえば50kΩの同じ抵抗値を有し、高周波信号の漏洩を抑制する。端子1−3に対しては、高周波信号が伝達され、端子4および5に対しては、直流信号が与えられる。
この高周波スイッチ回路において、送信時には、制御信号入力端子4にたとえば電源電圧レベルの3.3Vが印加され、制御信号入力端子5には、−1Vから−3.3Vの電圧が印加される。これにより、送信側トランスファー回路7が導通状態となり、送信端子1とアンテナ端子3とを短絡する。一方、受信側トランスファー回路8が非導通状態となり、アンテナ端子3と受信端子2とを分離する。このときまた、受信側シャント回路10が導通し、受信端子2を接地ノードに短絡する。送信側シャント回路9は、非導通状態である。送信時に送信端子1に与えられた信号が、送信トランスファー回路7を介してアンテナ端子3に伝達されて送信される。受信側トランスファー回路8は非導通状態であり、送信端子1からの送信信号が受信端子2へ伝達されるのを防止する。仮に、受信端子2に送信信号の高周波成分が漏洩しても、受信側シャント回路10により接地ノードへ放電され、受信端子2へ送信信号が伝達されるのが、防止される。
受信時においては、送信時と逆に、制御信号入力端子4に、−1Vから−3.3Vの電圧が印加され、制御信号入力端子5に電源電圧(3.3V)レベルの電圧が印加される。この状態においては、送信側トランスファー回路7が非導通状態となり、受信側トランスファー回路8が導通状態となる。応じて、アンテナ端子3に与えられた信号が受信側端子2に伝達される。このとき、受信側シャント回路10は非導通状態であり、また、送信側シャント回路9は導通状態である。したがって、このアンテナ端子3に与えられた信号が、送信端子1に漏洩するのは回避される。
受信側トランスファー回路8において、それぞれ複数のMOSFETの直列体で構成されるトランジスタ群TRAおよびTRBを配置する。これにより、アンテナ端子3と受信端子2の間に印加される電圧を分圧して、各MOSFET11−20に伝達することができ、MOSFET11−20各々の耐圧を保証する。また、送信側シャント回路9においても、同様、MOSFET9aa−9aeが直列に接続されており、信号送信時に印加される電圧を分圧して、これらのMOSFET9aa−9aeの耐圧を保証する。
この図4に示す高周波スイッチ回路の場合、受信側トランスファー回路8において、トランジスタ列TRAおよびTRBが設けられる。MOSFET11−20は、それぞれゲート幅が従来の値の1/2倍に設定されているものの、等価的に、従来のスイッチ回路の1つのMOSFETが2つのMOSFETに分割されており、チップ面積が増大することが考えられる。しかしながら、送信側トランジスタ回路7、送信側シャント回路9および受信側シャント回路10にそれぞれにおいて、MOSFETは従来と同様の構成を維持しており、チップ面積の増大は十分に抑制することができる。
図5は、図4に示す受信側トランスファー回路8および受信側シャント回路10の平面レイアウトを概略的に示す図である。図5において、トランジスタ群TRAに含まれるMOSFET11−15およびトランジスタ群TRBに含まれるMOSFET16−20は、同じ平面レイアウトを有するため、図5においては、MOSFET11の構成要素に対して参照番号を付す。
MOSFET11は、ソース領域SRGおよびドレイン領域DRGがゲート電極22(GE)に関して交互に配置される。ソース領域SRGは、ソース電極配線24(SEI)を介して相互に接続される。ドレイン領域DRGは、ドレイン電極配線23(DEI)を介して相互に結合される。
図5において水平方向に隣接して配置されるMOSFETの対が、1つの単位素子(MOSFET)として用いられる。この単位素子において、一方のMOSFETのドレイン領域DRGが、他方のMOSFETのソース領域SRGに接続され、該一方のMOSFETのソース領域SRGが、他方のMOSFETのドレイン領域に接続される。
すなわち、MOSFET11とドレイン電極配線23は、内部配線25aを介して、MOSFET16のソース電極配線24に結合される。この内部電極配線25aは、アンテナ端子3に接続される。内部配線25bにより、MOSFET11および12のソース電極配線が、MOSFET16および17のドレイン電極配線に電気的に結合される。内部配線25cにより、MOSFET12および13のドレイン領域が、MOSFET17および18のソース領域に電気的に結合される。内部配線25dにより、MOSFET13および14のソース領域が、MOSFET18および19のドレイン領域に電気的に結合される。内部配線25eにより、MOSFET14および15のドレイン領域が、MOSFET19および20のソース領域に電気的に結合される。内部配線25fにより、MOSFET15のソース領域が、MOSFET20のドレイン領域に結合され、かつ受信端子2に結合される。
トランジスタ群TRAにおいては、ソース領域およびドレイン領域が交互に内部配線25a−25fにより接続される。一方、トランジスタ群TRBにおいては、内部配線25a−25fにより、MOSFET16−20のドレイン領域およびソース領域が順次電気的に接続される。したがって、トランジスタ群TRAにおいては、アンテナ端子3から受信端子2に向かって、ドレインD、ソースS、ドレインD、ソースS、およびドレインDが順次配置され、MOSFET15のソースSが、内部配線25fにより受信端子2に結合される。トランジスタ群TRBにおいては、アンテナ端子3から受信端子2に向かって、ソースS、ドレインD、ソースS、ドレインD、およびソースSが順次配置される。MOSFET20のドレインDが内部配線25fを介して受信端子2に結合される。MOSFET11−20は、ゲートが、それぞれ、対応のバイアス抵抗21a−21eを介して制御信号入力端子5に共通に結合される。
受信側シャント回路10においてMOSFET10aは、これらのMOSFET11−20と同様の平面レイアウトを有する。
図6は、この単位素子を構成する1対のMOSFETの電気的等価回路を示す図である。図6において、2つのMOSFET27aおよび27bが並列に接続され、かつゲートが相互に接続される。このMOSFET27aおよび27bは、たとえばMOSFET11および16である。MOSFET27aのソースSおよびドレインDが、それぞれ、MOSFET27bのドレインDおよびソースSに電気的に接続される。MOSFET27aおよび27bのゲート幅をW1とする。
MOSFET27aおよび27bの各々は、ゲート−ソース間容量Cgs、ゲート−ドレイン間容量Cgd、ソース接合容量Cjsおよびドレイン接合容量Cjdを有する。ここでは、非対称成分として容量を代表的に示す。他の抵抗成分についても、同様、非対称となる。
この図6に示す単位素子の構成の場合、図7にその等価回路を示すように、ゲート−ドレイン間容量Cgdとゲート−ソース間容量Cgsが、それぞれゲートとノードNDAおよびNDB各々の間に接続される。この合成MOSFET(単位素子)27cは、ゲート幅2・Wを有し、ノードNDAおよびNDBについて、その容量分布は、対称的となる(抵抗成分についても同様対称的となる)。したがって、単位素子27cを奇数個直列に接続しても、ソースおよびドレインについて対称に配置された容量等の寄生成分の分布を得ることができ、受信側トランスファー回路における高周波漏洩による送信信号の二次高調波歪みを抑制することができる。
なお、MOSFET27aおよび27bのソースSおよびドレインDが相互接続される。MOSFETにおいては、動作時、低電位のノードがソースである(NチャネルMOSFETの場合)。したがって、ソースSおよびドレインDを相互接続しても、動作上問題は生じない(たとえLDMOS構成の場合であっても)。
したがって、この図7に示す単位素子を奇数個直列に接続して、受信側トランスファー回路8を構成することにより、以下の効果が得られる。すなわち、送信時において受信側トランスファー回路8が非導通状態においては、MOSFET11−20のソースSおよびドレインDの容量成分等が対称となる。これにより、送信時において、送信信号の二次の高調波成分を抑制することができる。
この本発明の実施の形態1において、1.75GHz,32dBmの大電力信号を送信する送信機が入力端子1に接続される場合、シミュレーションモデルにより、以下の結果が求められている。すなわち、受信側トランスファー回路8のMOSFETとして、単位ゲート幅2・W1のMOSFETを、奇数個直列に接続する構成の場合、一次と二次の高調波成分(3.5GHz)の比は、73.5dBcである。一方、実施の形態1に従う高周波スイッチ回路の構成においては、この一次と二次の高調波成分の比は、80.8dBcである。したがって、7dB程度高調波歪みを抑制することができる。
なお、この図5に示すレイアウトにおいては、MOSFETは、ほぼソース領域およびドレイン領域が対称に配置されており、ソース領域およびドレイン領域の数が異なる。しかしながら、このMOSFETとして、LDMOS構造のトランジスタを受信側トランスファー回路へ適用する場合においても、本実施の形態1と同様、ソース電極とドレイン電極とを入れ換えて並列にトランジスタを接続する単位素子を、奇数個直列に接続する。このMOSFETとして、特に、LDMOSトランジスタを利用する場合、以下の効果が得られる。送信機は、LDMOS構成のトランジスタで構成されることもある。したがって、送信機とスイッチ回路とを同一の半導体プロセスで作製することができ、高周波スイッチ回路の製造工程を簡略化することができる。
なお、SP3T(Single Pole Triple Throw:単極3投)、SP4T(Single Pole Quad Throw:単極4投)等の受信側が2系統以上ある場合は、各受信側トランスファー回路においてこのソースおよびドレインの位置が交換されたMOSFET対を単位素子として直列接続する。
図8に示すように、送信側が、2系統以上設けられる場合には、受信側トランスファー回路に加えて、送信側トランスファー回路に対しても、この発明の実施の形態1に従う受信側トランスファー回路と同様の構成を適用する。
なお、図8において、SP4T型高周波スイッチ回路の構成の一例を示している。送信端子1Aおよび1Bとアンテナ端子3の間に、第1送信側トランスファー回路7Aおよび第2送信側トランスファー回路7Bが、それぞれ、接続される。アンテナ端子3と受信端子2Aおよび2Bとの間に、それぞれ、第1受信側トランスファー回路8Aおよび第2受信側トランスファー回路8Bが接続される。この図8に示す高周波スイッチ回路の構成において、各トランスファー回路7Aおよび7B、8Aおよび8Bに、図6に示すソースSおよびドレインDが位置交換された2つのMOSFETの並列体で構成される単位素子を適用する。また、MOSFETとしては、図3に示すように、SOI構造のMOSFET、LDMOS構成のトランジスタおよびSOIかつLDMOS構成のトランジスタのいずれが用いられてもよい。また、図1に示すレイアウトのトランジスタが用いられても良い。
なお、各トランスファー回路のMOSFETの段数は、適用用途に応じて、適宜定められる。また、1つのMOSFETに含まれる単位トランジスタの数は、MOSFETに要求されるゲート幅に応じて適宜定められる。
以上のように、この発明の実施の形態1に従えば、ソースおよびドレインの位置が交換されたMOSFETの並列体を単位素子とし、この単位素子を奇数個直列に接続している。これにより、容量成分などを完全な対称形とすることができ、送信信号をアンテナに伝達する場合の二次の高調波歪を抑制することができる。
なお、上述のMOSFETの構成および高周波スイッチ回路の構成の変形については、以下の実施の形態2および3においても、同様に適用される。
[実施の形態2]
図9は、この発明の実施の形態2に従う高周波スイッチ回路の要部の構成を示す図である。この図9に示す高周波スイッチ回路の構成は、受信側トランスファー回路30におけるバイアス抵抗の配置が、実施の形態1のバイアス抵抗の配置と異なる。すなわち、受信側トランスファー回路30において、制御信号入力端子5とMOSFET11および16の共通ゲートとの間に、バイアス抵抗素子31e−31aが直列に接続される。これらのバイアス抵抗素子31e−31aの接続ノードに、ゲート配線35e−35bが設けられる。バイアス抵抗素子31aの他端は、ゲート配線35aに接続される。これらのゲート配線35a−35eは、それぞれ単位素子を構成するMOSFETに対応して設けられ、対応の単位素子を構成するMOSFETのゲート電極22に共通に接続される。すなわち、ゲート配線35aは、MOSFET11および16のゲート電極22に共通に接続される。ゲート配線35bが、MOSFET12および17のゲート電極に共通に結合される。ゲート配線35cが、MOSFET13および18のゲート電極に共通に接続される。ゲート配線35dが、MOSFET14および19のゲート電極に共通に接続される。ゲート配線35eが、MOSFET15および20のゲート電極に共通に接続される。
図9は、この発明の実施の形態2に従う高周波スイッチ回路の要部の構成を示す図である。この図9に示す高周波スイッチ回路の構成は、受信側トランスファー回路30におけるバイアス抵抗の配置が、実施の形態1のバイアス抵抗の配置と異なる。すなわち、受信側トランスファー回路30において、制御信号入力端子5とMOSFET11および16の共通ゲートとの間に、バイアス抵抗素子31e−31aが直列に接続される。これらのバイアス抵抗素子31e−31aの接続ノードに、ゲート配線35e−35bが設けられる。バイアス抵抗素子31aの他端は、ゲート配線35aに接続される。これらのゲート配線35a−35eは、それぞれ単位素子を構成するMOSFETに対応して設けられ、対応の単位素子を構成するMOSFETのゲート電極22に共通に接続される。すなわち、ゲート配線35aは、MOSFET11および16のゲート電極22に共通に接続される。ゲート配線35bが、MOSFET12および17のゲート電極に共通に結合される。ゲート配線35cが、MOSFET13および18のゲート電極に共通に接続される。ゲート配線35dが、MOSFET14および19のゲート電極に共通に接続される。ゲート配線35eが、MOSFET15および20のゲート電極に共通に接続される。
この図9に示す高周波スイッチ回路の他の構成は、先の図5に示す実施の形態1に従う高周波スイッチ回路の構成と同じであり、対応する部分には同一参照番号を付し、その詳細説明は省略する。
バイアス抵抗素子31a−31eの抵抗値は、先の実施の形態1の場合に比べて1/5倍(1/K倍)の値に設定される。すなわち、図5に示す受信側トランスファー回路のバイアス抵抗素子21a−21eの抵抗値は50kΩの場合、この図9に示すバイアス抵抗素子31a−31eの抵抗値は、その1/5倍の10kΩに設定される。
図10は、図9に示す高周波スイッチ回路の受信トランスファー回路30および受信側シャント回路10の平面レイアウトを概略的に示す図である。この図10に示す受信側トランスファー回路30の配置(レイアウト)は、図5に示す受信側トランスファー回路8の配置と、バイアス抵抗素子の配置が異なるだけである。すなわち、バイアス抵抗素子31a−31eが、単位素子に対応してラダー型に接続される。各バイアス抵抗素子31a−31eが、ゲート配線35a−35eにより対応の単位素子のMOSFETのゲート電極22に接続される。図10に示す単位素子の配置および接続は、図5に示す配置と同じであり、対応する部分には同一参照番号を付し、その詳細説明は省略する。
図11は、図9および図10に示す受信側トランスファー回路30の電気的等価回路を示す図である。図10において、アンテナ端子3と受信端子2の間に、単位素子UC1−UC5が直列に接続される。これらの単位素子UC1−UC5は、それぞれ、ソースおよびドレインの位置が交換された2つのMOSFETで構成され、図10においては、括弧内に対応のMOSFETの参照番号を示す。
バイアス抵抗素子35a−35eがラダー型に接続される。すなわち、単位素子UC1−UC5のゲートの間に、バイアス抵抗素子31a−31dが配置され、かつ、これらのバイアス抵抗素子が直列に接続される。これらのバイアス抵抗素子31a−31eの接続ノードが、それぞれ、ゲート配線35b−35eを介して単位素子UC2−UC5のゲートに接続される。バイアス抵抗素子31aは、単位素子UC1のゲートにゲート配線35aを介して接続される。バイアス抵抗素子31eの残りの端部は、制御信号入力端子5に接続される。
この図11に示すように、制御信号入力端子5に与えられた制御信号が、これらのバイアス抵抗素子31e−31aを介して各単位素子UC5−UC1のゲートへ与えられる。制御信号入力端子5の制御信号は直流信号であり、これらの単位素子UC1−UC5のゲートへは同じ大きさのバイアス電圧が印加される。
アンテナ端子3に最も近い単位素子UC1(MOSFET11,16)のバイアス抵抗は、バイアス抵抗素子31a−31eの合成抵抗であり、最も大きい。単位素子UC2からUC5に向かって順次バイアス抵抗(バイアス抵抗素子の合成抵抗)が小さくなる。信号送信時、この単位素子UC1に対して、最も振幅の大きな信号が与えられる。受信側トランスファー回路30においては、単位素子UC1−UC5がオフ状態(非導通状態)のとき、これらの単位素子UC1−UC5の接続ノードには、その寄生容量により容量分割された電圧が与えられる。単位素子UC1−UC5の寄生容量は、すべて対称的であり、同じである。したがって、これらの単位素子UC2−UC5へは、アンテナ端子3に与えられる電圧の4/5、3/5、2/5および1/5倍の電圧が印加される。すなわち、これらの単位素子UC1−UC5に対し、順次振幅の小さな電圧が供給される。したがって、単位素子UC2−UC5に印加される電圧の低下に応じて、アンテナ端子3への信号伝播経路に影響を及ぼす場合が小さくなり、応じて、各ゲートバイアス抵抗の抵抗値を小さくすることができる。したがって、バイアス抵抗素子31a−31eも、その抵抗値をすべて同じとし、信号電圧低下に応じてバイアス抵抗値を減じ、4/5、3/5、2/5、および1/5倍に設定する。この場合、受信トランスファー回路の単位素子が、5段接続されるためであり、このバイアス抵抗素子31a−31eの抵抗値は、単位素子の段数に応じて適宜定められる。アンテナ端子3に最も近い単位素子UC1(MOSFET11,16)のバイアス抵抗が、図4および5に示す実施の形態1の場合と同じ値であればよい。したがって、バイアス抵抗が、実施の形態1において50kΩの場合、バイアス抵抗素子31a−31e各々の抵抗値は、10kΩに設定される。
この実施の形態2においては、バイアス抵抗素子31a−31eは、実施の形態1の配置に比べて、その抵抗値を小さくすることができる。これにより、バイアス抵抗素子の抵抗値を低減することができ、応じて、バイアス抵抗素子の配置面積を低減することができる。また、バイアス抵抗素子31a−31eはラダー型に接続されている。したがって、単位素子UC1に対するゲートバイアス抵抗の途中からタップにより抵抗を取出して各単位素子にバイアス電圧を供給することができ、バイアス抵抗素子を単位素子で共有することができ、個々にMOSFETに対してバイアス電圧を伝達する経路を設ける構成に比べて、さらに、バイアス抵抗素子の配置面積を低減することができる。これにより、高周波スイッチ回路の小型化を実現することができる。
この場合、また、先の1.75GGz、32dBmの大電力信号が送信機を介してアンテナ端子3に伝送される条件でのシミュレーションにより、二次の高調波歪みが、80.8dBcからさらに3dB低減する結果が認められた。これは以下の理由によると考えられる。バイアス抵抗素子31a−31eがラダー型に接続されており、バイアス抵抗素子31aのバイアス抵抗値は、10kΩと小さいため、単位素子UC1のゲート電極から高周波信号が漏洩することで単位素子UC2のゲート電極にその漏洩した高周波信号と単位素子UC31bからの漏洩した高周波信号とで互いに相殺して高調波歪を低減させる。
したがって、この高周波スイッチ回路の小型化に加えて、さらに、高周波スイッチ回路の性能を向上させることができるという効果が得られる。
なお、この実施の形態2においても、実施の形態1と同様、この高周波スイッチ回路のトランスファー回路のMOSFETの段数は適用用途に応じて適宜定められる。また、この高周波スイッチ回路の構成も、実施の形態1と同様、種々のスイッチ構成に対しても適用することができる。送信信号の漏洩を抑制することが要求される受信側トランスファー回路のバイアス抵抗素子をラダー型に接続する構成が、いずれのスイッチ回路の構成においても適用される。
また、用いられるMOSFETの構成は先の実施の形態1と同様、図1から3に示す構成のいずれが用いられても良い。
以上のように、この発明の実施の形態2に従えば、高周波スイッチ回路の受信トランスファー回路のバイアス抵抗素子をラダー型に接続しており、実施の形態1の効果に加えて、高周波スイッチ回路のチップ面積を低減でき、また、高調波歪みをさらに低減することができる。
[実施の形態3]
図12は、この発明の実施の形態3に従う高周波スイッチ回路の電気的等価回路を示す図である。この図12に示す高周波スイッチ回路は、以下の点で、図9に示す高周波スイッチ回路とその構成が異なる。すなわち、送信側トランスファー回路7とアンテナ端子3の間に直流(DC)カット用のキャパシタ35aが接続され、受信側トランスファー回路30とアンテナ端子3の間に直流カット用キャパシタ35bが接続される。送信側シャント回路40と接地ノードの間に直流カット用キャパシタ42aが挿入される。また、受信側シャント回路10と接地ノードの間に、直流カット用キャパシタ42bが接続される。
図12は、この発明の実施の形態3に従う高周波スイッチ回路の電気的等価回路を示す図である。この図12に示す高周波スイッチ回路は、以下の点で、図9に示す高周波スイッチ回路とその構成が異なる。すなわち、送信側トランスファー回路7とアンテナ端子3の間に直流(DC)カット用のキャパシタ35aが接続され、受信側トランスファー回路30とアンテナ端子3の間に直流カット用キャパシタ35bが接続される。送信側シャント回路40と接地ノードの間に直流カット用キャパシタ42aが挿入される。また、受信側シャント回路10と接地ノードの間に、直流カット用キャパシタ42bが接続される。
また、送信端子(入力端子)1に対し、さらに、バイアス抵抗素子46aが接続される。バイアス抵抗素子46aは、制御信号入力端子44aに与えられる制御信号CCを、伝達して、送信トランスファー用MOSFET6aのソース/ドレインにバイアス電圧を与える。同様、受信端子2と制御信号入力端子44bの間にバイアス抵抗素子46bが設けられる。このバイアス抵抗素子46bは、制御信号入力端子44bに印加される直流制御信号CDにしたがって、受信側トランスファー回路30の各MOSFET11−20のソース/ドレインに直流バイアスを与える。制御信号入力端子4および5には、それぞれ、直流制御信号CAおよびCBが与えられる。
この送信側シャント回路40は、受信トランスファー回路30のMOSFETの段数よりも1以上多いMOSトランジスタ51−56が直列に接続される。すなわち、受信側トランスファー回路5のトランジスタ群TRAおよびTRBにおいて、K段のMOSFETが配置される場合、送信側シャント回路40においては、(K+1)個以上のMOSFETが直列に接続される。図12においては、送信側シャント回路40において6段のMOSFET51−56が直列に接続される場合を一例として示す。
送信シャント回路40のMOSFET51−56各々のしきい値電圧Vth1は、他のMOSFET(たとえばトランスファー回路7および30のMOSFET6aおよび11−20)のしきい値電圧Vth2よりも、その絶対値が大きくされる。
この図12に示す高周波スイッチ回路の他の構成は、図9に示す高周波スイッチ回路の構成と同じであり、対応する部分には同一参照番号を付し、その詳細説明は省略する。
この図12に示す高周波スイッチ回路においては、制御信号入力端子4および5に与えられる直流電圧は、オン動作時に電源電圧たとえば3.3Vに設定し、オフ動作時には、−3.3Vから−1.0Vではなく、0Vの値の電圧を供給する。
この図12に示す高周波スイッチ回路の他の構成は、図9に示す高周波スイッチ回路の構成と同じであり、対応する部分には同一参照符号を付し、その詳細説明は、省略する。
図13は、図12に示す高周波スイッチ回路における制御信号CA−CDの動作モードに応じた電圧レベルを一覧にして示す図である。図13において、送信モード時においては、制御信号CA、CB、CCおよびCDは、それぞれ、3.3V、0V、0Vおよび1.2Vに設定される。受信モード時においては、これらの制御信号CA、CB、CCおよびCDは、それぞれ、0V、3.3V、1.2Vおよび0Vに設定される。すなわち、制御信号CAおよびCBは、0Vと3.3Vの間で切換えられ、制御信号CCおよびCDが、1.2Vと0Vの間で切換えられる。
図14は、この発明の実施の形態3における高周波スイッチ回路における送信モードおよび受信モードの制御信号の印加態様を示す図である。図14において、送信モード時の制御信号CA−CDの電圧を示し、受信モード時の制御信号CA−CDの電圧レベルを括弧内に示す。
送信モード時においては、制御信号入力端子4は3.3Vに設定され、送信側トランスファー回路7が導通し、送信端子1とアンテナ端子3とが短絡される。このとき、制御信号入力端子44aは、0Vの電圧レベルである。高周波送信信号が、直流カット用キャパシタ35aを介してアンテナ端子3に伝達される。
この送信ノードにおいては、また、制御信号入力端子5は、0Vであり、受信側トランスファー回路30のMOSFET11−20のゲート電圧が0Vに設定される。このとき、制御信号入力端子44bが1.2Vである。したがって、受信側トランスファー回路30において、MOSFET11−20は、そのソース/ドレイン電圧は、ゲート電圧よりも高い電圧レベルにバイアスされ、等価的に、制御信号入力端子5に負電圧が印加された状態が実現される。これにより、確実に、受信側トランスファー回路30は、負電圧レベルの制御信号印加時と同様、オフ状態に維持され、アンテナ端子3と受信端子2とを分離する。DCカット用キャパシタ35bにより直流的には、受信トランスファー回路30とアンテナ端子3とは分離される。
また、送信側シャント回路40においては、MOSFET51−56のゲートは、0Vであり、また送信端子1の電圧レベルは0Vである。しかしながら、この送信側シャント回路40においては、MOSFETの数は、受信側トランスファー回路30のMOSFET段の数よりも多くされ、また、そのしきい値電圧の絶対値も高くされている。MOSFET51−56の経路がオン状態となるのは、送信端子1の電圧が12×Vth1以上となったときである。実施の形態1および2においては、送信シャント回路9において5段のMOSFETが配置され、ゲートバイアス電圧Vgに対して、5×(Vth2+1.2)以上の電圧レベルとなるとその経路が導通する。したがって、図12に示される構成の場合には、次式が満たされる限り、実施の形態1および2と同様、送信側シャント回路40のMOSFET51−56の経路は、確実にオフ状態に設定される:
Vth1>Vth2>0,
(2×6)×Vth1≧(2×5)×(Vth2+1.2).
受信側シャント回路10においては、制御信号入力端子4から3.3Vが供給されており、確実に、受信端子2を接地ノードにDCカットオフ用キャパシタ42bを介して交流的に接地する。
Vth1>Vth2>0,
(2×6)×Vth1≧(2×5)×(Vth2+1.2).
受信側シャント回路10においては、制御信号入力端子4から3.3Vが供給されており、確実に、受信端子2を接地ノードにDCカットオフ用キャパシタ42bを介して交流的に接地する。
受信モード時においては、制御信号入力端子4が0V、制御信号入力端子5が、3.3Vに設定される。このとき、制御信号入力端子44aには、1.2Vが印加されるため、送信側トランスファー回路7を構成するMOSFETのゲート−ソース間電圧は深い逆バイアス状態となり、確実に、この送信側トランスファー用MOSFETは、負電圧がゲートに印加されたときと同様のオフ状態に維持される。
送信側シャント回路40においては、制御信号入力端子5から3.3Vが、MOSFET51−56のゲートに供給される。したがって、これらのMOSFET51−56が導通し、送信端子1が接地ノードに交流的にDCカット用キャパシタ42aを介して接地される。送信端子1が1.2Vに直流バイアスされていても、DCカット用キャパシタ35aおよび42aにより直流バイアス電圧は、カットオフされている。アンテナ端子3からの受信信号の漏洩成分は、確実に送信側シャント回路40に接地ノードへ放出され、送信端子1へのアンテナ端子3からの高周波成分の漏洩は回避される。
受信側トランスファー回路30においては、MOSFET11−20は、3.3Vの電源電圧レベルのゲートバイアス電圧により、すべてオン状態となり、アンテナ端子3からの入力信号が、受信端子2へ伝達される。このとき、受信端子2は、バイアス抵抗素子46bを介して0V(接地電圧)にバイアスされている。したがって、バイアス抵抗素子46bにより、確実に、制御信号入力端子44bと受信端子4は交流的に分離される。
受信側シャント回路10においては、0Vの制御信号CAがシャント用のMOSFET(10a)のゲートに印加される。したがって、受信側シャント回路10においては、MOSFETが、オフ状態に維持される。また、受信時においては、アンテナ端子3からの受信信号は、送信端子1にあたれられる送信機からの送信信号に比べて、省電力の信号であり、その振幅も小さい。したがって、制御信号CAが0Vであっても、受信側シャント回路10は、送信側トランスファー回路7と同様のオフ状態に維持される。受信端子2と接地ノードとを交流的および直流的に分離する。
以上の動作により、制御信号CA−CDの電圧として、3.3Vと1.2Vを利用して、送信モードおよび受信モードの間でのモード切換を行なうことができる。
また、負電圧と電源電圧よりも高い昇圧電圧とを利用する必要がなく、同一基板に集積されるCMOS回路(制御回路等)と同一の製造プロセスで、高周波スイッチ回路のMOSFETを、信頼性を損なうことなく製造することができる。
図15は、この発明の実施の形態3に従う高周波スイッチ回路を含む通信装置の要部の構成を概略的に示す図である。図15において、高周波スイッチ回路50に対して、送信端子1を介して送信機52が接続され、受信端子2を介して受信機54が接続される。この高周波スイッチ回路50は、図14に示す構成を有する。
送信機52および受信機54の動作制御とともに高周波スイッチ回路50の信号伝播経路を切換えるために、送受信制御回路60が設けられる。この送受信制御回路60は、図13に示す制御信号CAおよびCBを生成するモード切換回路62と、図13に示す制御信号CCおよびCDを生成するバイアス切換回路64を含む。モード切換回路62は、電源電圧3.3Vと接地電圧を動作電源電圧として受けて動作し、通信モードに応じて、制御信号入力端子4および5に与えられる制御信号(CAおよびCB)の電圧レベルを切換える。バイアス切換回路64は、電源電圧1.2Vと接地電圧を動作電源電圧として受けて動作し、モード切換回路62の動作と同期して、制御信号入力端子44aおよび44bに与えられる制御信号CCおよびCDの電圧レベルを切換える。これにより、モード切換回路62による送受信切換に同期してバイアス切換回路64が、制御信号入力端子44aおよび44bに与えるバイアス電圧の電圧レベルを、1.2Vおよび接地電圧0Vの間で切換える。
たとえば、130nm設計ルールの標準的なCMOS技術で各MOSFETを製造する。この構成においては、通常、送受信用の電源電圧と動作制御用の電源電圧として、3.3V電源と1.2V電源の2つの電源が、予め準備される。したがって、新たに電源電圧発生回路を設けることなく、動作電源電圧3.3Vおよび1.2Vを用いて、モード制御信号(CA,CB)およびバイアス制御信号(CC,CD)を生成することができる。
以上のように、この発明の実施の形態3に従えば、送信側シャント回路のMOSFETの段数を受信側トランスファー回路の単位素子の段数よりも1段以上多くするとともに、そのしきい値電圧の絶対値を高くしている。これにより、送受信制御を、通常の電源電圧を用いて行なうことができ、負電源または昇圧電源を用いる必要がなく、高周波スイッチ回路のMOSFETの信頼性を考慮する必要がない。また、負電圧、または昇圧電圧の生成が不要となり、消費電力を低減することができる。また、実施の形態1および2と同様の効果を得ることができる。
なお、図15に示す通信装置の構成において、送受信制御回路60において、バイアス切換え回路64をなくして、負電圧または昇圧電圧発生回路を配置してモード切換え回路62にこれらの負電圧/昇圧電圧を動作電圧として印加する構成を利用することにより、実施の形態1および2の高周波スイッチ回路を含む通信装置を実現することができる。
この発明に係る高周波スイッチ回路は、高周波信号を送受信する回路に適用することにより、送信信号の二次高調波歪みを低減することができるとともに、消費電力および回路サイズを低減することのできる送受信回路を実現することができる。特に、携帯電話等の通信機能を有する携帯端末に適用することにより、送信信号品質が優れかつ低消費電力でかつ小型の通信装置を実現することができる。
SRG ソース領域、DRG ドレイン領域、GE ゲート電極、DEI ドレイン電極配線、SEI ソース電極配線、SUB P型基板、ISL 絶縁膜、1 送信端子、2 受信端子、3 アンテナ端子、4,5 制御信号入力端子、6a 送信用トランスファーMOSFET、7 送信用トランスファー回路、8 受信用トランスファー回路、10 受信側シャント回路、9 送信側シャント回路、11−20 MOSFET、21a−21e バイアス抵抗素子、25a−25f 内部配線、22 ゲート電極、23 ドレイン電極配線、24 ソース電極配線、1A 第1送信側トランスファー回路、1B 第2送信側トランスファー回路、8A 第1受信側トランスファー回路、8B 第2受信側トランスファー回路、30 受信側トランスファー回路、31a−31e バイアス抵抗素子、35a−35e ゲート電極配線、40 送信側シャント回路、35a,35b,42a,42b 直流カット用キャパシタ、51−56 MOSFET、44a,44b 制御信号入力端子、46a,46b バイアス抵抗素子。
Claims (6)
- 高周波信号を入力する入力端子と、高周波信号を出力する出力端子と、高周波信号を入出力する入出力端子とを有し、前記高周波信号の入出力を動作モードに応じて切換える高周波スイッチ回路であって、
前記入出力端子と前記出力端子との間に配置され、導通時、前記入出力端子から前記出力端子へ信号を伝達するトランスファー回路を備え、
前記トランスファー回路は、奇数個Kの直列に接続される単位素子を備え、各前記単位素子は、各々がソース、ドレインおよびゲートを有する第1および第2の電界効果トランジスタを備え、前記第1の電界効果トランジスタのソースおよびドレインが、前記第2の電界効果トランジスタのドレインおよびソースにそれぞれ接続され、前記第1および第2の電界効果トランジスタのゲートが共通に接続される、高周波スイッチ回路。 - 各前記単位素子の前記第1および第2の電界効果トランジスタは、横方向拡散絶縁ゲート型電界効果トランジスタである、請求項1記載の高周波スイッチ回路。
- 前記トランスファー回路は、さらに、
各前記単位素子の第1および第2の電界効果トランジスタのゲートに対応して配置されるK個のバイアス抵抗素子を備え、各前記バイアス抵抗素子は、第1および第2の端部を有し、前記K個のバイアス抵抗素子は、第1端部および第2端部が交互に配置されるように直列に接続され、かつ各前記単位素子の第1および第2のトランジスタのゲートには、対応のバイアス抵抗素子の第1の端部が接続されかつ前記1個の出力端子に最も近い単位素子の第1および第2の電界効果トランジスタに対して設けられるバイアス抵抗素子は、第2の端部が前記トランスファー回路の導通/非導通を制御する制御信号を入力する第1の制御信号入力端子に接続される、請求項1または2に記載の高周波スイッチ回路。 - 前記入出力端子と前記入力端子との間に配置され、導通時、前記入力端子から前記入出力端子へ信号を伝達する第2のトランスファー回路をさらに備え、
前記第2のトランスファー回路は、複数の直列に接続される第3の電界効果トランジスタで構成され、前記第3の電界効果トランジスタのゲートに対応して配置されるバイアス抵抗は50kΩであり、
前記K個のバイアス抵抗素子の抵抗値は、50/K kΩに設定される、請求項3記載の高周波スイッチ回路。 - 前記1個の入力端子と基準電位ノードとの間に直列に接続される前記Kよりも数の大きなM個の電界効果トランジスタを含むトランジスタ群をさらに備え、前記トランジスタ群の電界効果トランジスタのしきい値電圧の絶対値は、各前記単位素子の第1および第2の電界効果トランジスタのしきい値電圧の絶対値よりも大きい、請求項1から4のいずれかに記載の高周波スイッチ回路。
- 前記トランスファー回路と前記トランジスタ群の導通を制御する第1の制御信号を入力する第1の制御信号入力端子と、
前記入力端子に結合される第1の入力バイアス抵抗素子と、
前記出力端子に接続される出力バイアス抵抗素子とをさらに備え、
前記第1および第2の制御信号は同相で動作モードに応じてその電圧レベルが設定され、前記第2および第3の制御信号は前記動作モードに応じて逆相の電圧レベルに設定され、前記第2および第3の制御信号の振幅は、前記第1の制御信号の振幅よりも小さい、請求項5記載の高周波スイッチ回路。
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