JP2008258212A - 基板洗浄装置及び基板洗浄方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】回転テーブル11上に立設された支持ピン10上に基板5が載置される。基板を中心とする位置に、固定側クランプピン9と、回転テーブル11に水平の揺動軸13あを中心として揺動可能に設置されたリンクブロック12aと、リンクブロック12aの上部に設けられた可動側クランプピン8aとが設置されている。そして、固定側クランプピン9及び可動側クランプピン8aには、テーパ部15が形成されており、可動側クランプピン8aを固定側クランプピン9に向けて移動することにより、テーパ部15に沿って基板5が持ち上げられ、支持ピン10から離隔した状態で、基板5の表裏両面が洗浄される。
【選択図】図1
Description
2 下側洗浄ノズル
3 モータ
4a、4b、4c クランプ解除用エアーシリンダ
5 基板
6 上側熱風発生器
7 下側熱風発生器
8a、8b、8c 可動側クランプピン
9 固定側クランプピン
10 支持ピン
11 回転テーブル
12a、12b、12c リンクブロック
13a、13b、13c 揺動軸
14a、14b、14c 圧縮バネ
15 テーパ部
Claims (15)
- 基板を支持するテーブルと、前記基板の縁辺の少なくとも2箇所にテーパ部を当てて前記基板を上方に持ち上げる基板持上手段と、前記基板が持ち上げられた状態で前記基板を洗浄する基板洗浄手段と、を有することを特徴とする基板洗浄装置。
- 前記テーブルが回転テーブルであることを特徴とする請求項1に記載の基板洗浄装置。
- 前記基板持上手段は、前記基板を、3方向から挟み込むクランプピンを有することを特徴とする請求項1又は2に記載の基板洗浄装置。
- 前記基板持上手段は、前記基板を、4方向から挟み込むクランプピンを有することを特徴とする請求項1又は2に記載の基板洗浄装置。
- 前記基板持上手段は、前記基板を、2方向から挟み込むクランプピンが各方向について2個設けられており、基板の縁辺の2箇所で接触していることを特徴とする請求項1又は2に記載の基板洗浄装置。
- 前記基板を上から押さえ、基板の下方から洗浄物を噴出させるものであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか1項に記載の基板洗浄装置。
- 前記洗浄物は、洗浄液、洗浄気体、又は洗浄用粒体であることを特徴とする請求項6に記載の基板洗浄装置。
- 回転テーブルと、この回転テーブル上に立設され基板を載置する複数個の支持ピンと、前記回転テーブル上に立設された1又は2以上の固定側クランプピンと、前記回転テーブルに水平の揺動軸を中心として揺動可能に設置された1又は2以上のリンクブロックと、この各リンクブロックの上部に設けられた可動側クランプピンと、前記固定側クランプピン及び可動側クランプピンにおける前記回転テーブルの回転中心側の面に設けられ下方が回転中心側になるように傾斜したテーパ部と、を有し、前記可動側クランプピンが前記固定側クランプピンに向けて移動するように前記リンクブロックが揺動することにより、前記回転テーブルの回転軸を中心として対向する固定側クランプピンと可動側クランプピンの前記テーパ部により前記基板の縁辺を挟んで前記基板を上方に持ち上げることを特徴とするスピン洗浄装置。
- 前記リンクブロックの下端部には、前記回転テーブルの回転中心側に向けて張り出す張り出し部が設けられており、この張り出し部と回転テーブルとの間に圧縮バネが配置されていて、前記リンクブロックの上部を常時回転テーブルの回転中心側に向けて付勢していることを特徴とする請求項8に記載のスピン洗浄装置。
- 前記リンクブロックの前記揺動軸よりも下方の部分を、回転テーブルの回転中心側に向けて押圧することができるエアシリンダが設けられており、このエアシリンダが前記リンクブロックを押圧することにより、前記リンクブロックをその上部が開くように傾斜させ、これにより、前記可動側クランプピンによる基板の係合が外れるようになっていることを特徴とする請求項8又は9に記載のスピン洗浄装置。
- 前記固定側クランプピン及び可動側クランプピンに挟持された基板の上方に前記基板の表面に向けて洗浄液を噴射する上側洗浄ノズルが配置され、前記基板の斜め下方に前記基板の裏面に向けて洗浄液を噴射する下側洗浄ノズルが配置されていることを特徴とする請求項8乃至10のいずれか1項に記載のスピン洗浄装置。
- 前記固定側クランプピン及び可動側クランプピンに挟持された基板の斜め上方に前記基板の表面に向けて気体を噴射する上側乾燥装置が配置され、前記基板の斜め下方に前記基板の裏面に向けて気体を噴射する下側乾燥装置が配置されていることを特徴とする請求項8乃至11のいずれか1項に記載のスピン洗浄装置。
- 前記固定側クランプピン及び可動側クランプピンは夫々2個であり、回転テーブルの回転中心を挟んで対向する位置に、固定側クランプと可動側クランプとが対向するように配置されていることを特徴とする請求項8乃至12のいずれか1項に記載のスピン洗浄装置。
- テーブル上に支持された基板の縁辺の少なくとも2箇所にテーパ部を当てて前記基板を上方に持ち上げることにより、前記基板が持ち上げられた状態で前記基板を洗浄することを特徴とする基板洗浄方法。
- 回転テーブル上に立設された支持ピン上に基板を載置し、前記回転テーブル上に設置された複数対の固定側クランプピン及び可動側クランプピンの各対向面に設けられ上方が外方に傾斜したテーパ部により、前記基板の縁辺を係止し、前記可動側クランプピンを対向する前記固定側クランプピンに向けて移動させることにより、前記基板の縁辺を前記テーパ部に摺動させて前記基板を上方に移動させ、前記基板を前記支持ピンから上方に離隔させた状態で、前記基板を前記固定側クランプピン及び可動側クランプピンにより挟持して前記回転テーブルを回転させることにより、前記基板の表裏両面を洗浄することを特徴とするスピン洗浄方法。
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Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107579026A (zh) * | 2017-08-31 | 2018-01-12 | 长江存储科技有限责任公司 | 一种用于湿法刻蚀的干燥喷嘴、湿法刻蚀设备 |
CN110025803A (zh) * | 2019-05-16 | 2019-07-19 | 胡长娥 | 一种消毒供应室的自动消毒设备 |
CN111069135A (zh) * | 2019-12-24 | 2020-04-28 | 托伦斯半导体设备启东有限公司 | 一种小型零件冲洗工装 |
CN111889437A (zh) * | 2020-08-27 | 2020-11-06 | 江苏无恙半导体科技有限公司 | 一种晶圆清洗机 |
CN112718670A (zh) * | 2021-01-28 | 2021-04-30 | 潍坊医学院附属医院 | 一种急诊科医疗器械清洗装置 |
CN115106390A (zh) * | 2022-08-31 | 2022-09-27 | 河南速轮精密制造有限责任公司 | 一种火车轮圆钢毛胚除鳞用喷水装置 |
CN115846332A (zh) * | 2022-11-30 | 2023-03-28 | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 | 有效减少硅片二次污染的处理装置及方法 |
CN116274097A (zh) * | 2023-05-17 | 2023-06-23 | 山东浪潮新基建科技有限公司 | 一种海上光伏发电用保持架清洗装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04225256A (ja) * | 1990-12-26 | 1992-08-14 | Toshiba Corp | ウェーハ把持装置 |
JPH0831788A (ja) * | 1994-07-19 | 1996-02-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の洗浄処理方法並びに洗浄処理装置 |
JPH10209254A (ja) * | 1997-01-24 | 1998-08-07 | Tokyo Electron Ltd | 回転処理装置 |
JP2002110618A (ja) * | 2000-09-27 | 2002-04-12 | Shibaura Mechatronics Corp | スピン処理装置 |
JP2004235234A (ja) * | 2003-01-28 | 2004-08-19 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
-
2007
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Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH04225256A (ja) * | 1990-12-26 | 1992-08-14 | Toshiba Corp | ウェーハ把持装置 |
JPH0831788A (ja) * | 1994-07-19 | 1996-02-02 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板の洗浄処理方法並びに洗浄処理装置 |
JPH10209254A (ja) * | 1997-01-24 | 1998-08-07 | Tokyo Electron Ltd | 回転処理装置 |
JP2002110618A (ja) * | 2000-09-27 | 2002-04-12 | Shibaura Mechatronics Corp | スピン処理装置 |
JP2004235234A (ja) * | 2003-01-28 | 2004-08-19 | Dainippon Screen Mfg Co Ltd | 基板処理装置および基板処理方法 |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN107579026A (zh) * | 2017-08-31 | 2018-01-12 | 长江存储科技有限责任公司 | 一种用于湿法刻蚀的干燥喷嘴、湿法刻蚀设备 |
CN110025803A (zh) * | 2019-05-16 | 2019-07-19 | 胡长娥 | 一种消毒供应室的自动消毒设备 |
CN111069135A (zh) * | 2019-12-24 | 2020-04-28 | 托伦斯半导体设备启东有限公司 | 一种小型零件冲洗工装 |
CN111889437A (zh) * | 2020-08-27 | 2020-11-06 | 江苏无恙半导体科技有限公司 | 一种晶圆清洗机 |
CN112718670A (zh) * | 2021-01-28 | 2021-04-30 | 潍坊医学院附属医院 | 一种急诊科医疗器械清洗装置 |
CN112718670B (zh) * | 2021-01-28 | 2022-07-05 | 潍坊医学院附属医院 | 一种急诊科医疗器械清洗装置 |
CN115106390A (zh) * | 2022-08-31 | 2022-09-27 | 河南速轮精密制造有限责任公司 | 一种火车轮圆钢毛胚除鳞用喷水装置 |
CN115846332A (zh) * | 2022-11-30 | 2023-03-28 | 杭州中欣晶圆半导体股份有限公司 | 有效减少硅片二次污染的处理装置及方法 |
CN116274097A (zh) * | 2023-05-17 | 2023-06-23 | 山东浪潮新基建科技有限公司 | 一种海上光伏发电用保持架清洗装置 |
CN116274097B (zh) * | 2023-05-17 | 2023-08-11 | 山东浪潮新基建科技有限公司 | 一种海上光伏发电用保持架清洗装置 |
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