JP2008244132A - 半導体装置の製造方法および半導体装置 - Google Patents
半導体装置の製造方法および半導体装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008244132A JP2008244132A JP2007082432A JP2007082432A JP2008244132A JP 2008244132 A JP2008244132 A JP 2008244132A JP 2007082432 A JP2007082432 A JP 2007082432A JP 2007082432 A JP2007082432 A JP 2007082432A JP 2008244132 A JP2008244132 A JP 2008244132A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- semiconductor
- semiconductor wafer
- substrate
- back surface
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Ceased
Links
Abstract
特に半導体ウェハ100を薄くした場合、例えば100μm以下と薄くしていくと、ウェハ100の反りが発生し、前記ウェハにフィルム101が貼り難く、個片化できない問題が発生する。
【解決手段】
半導体ウェハWのダイシングラインに相当する部分に分離溝8を形成したら、サポート基板9を貼り合わせる。この状態で半導体ウェハWの裏面を削り、分離溝8を露出させ、その後に角部をエッチングにより丸める。
【選択図】 図5
Description
図9では、半導体ウェハ100の裏面に保護用のフィルム101を貼り合わせ、図10の如く、半導体ウェハ100とフィルム101の一体物をダイシング装置で個別分離している。
半導体基板の表面に能動素子の周囲を囲むように、前記半導体基板の厚みよりも浅い分離溝を形成し、
前記半導体基板表面を接着剤を介してサポート基板を貼りあわせ、
前記半導体基板の裏面を取り除いて基板を薄くし、前記分離溝の側壁が露出したら前記半導体基板の裏面と前記側壁で成る角部をエッチングによりなだらかにし、
前記裏面にある分離溝を通じて前記接着剤の溶剤を通過させて、前記サポート基板から前記半導体基板を分離する事で解決するものである。
2:半導体基板
6:パッド
7:パジベーション膜
8:分離溝
9:サポート基板
10:半導体チップ
20:吸引手段
21:円盤部
22:パイプ
23:表面
24:分離溝の開口部
100:半導体ウェハ
101:フィルム
W:半導体ウェハ
A:接着剤
G:グラインド手段
T:ターンテーブル
Claims (9)
- 半導体基板の表面に少なくとも一つの能動素子を形成し、前記能動素子と電気的に接続される電極を設け、
前記少なくとも一つの能動素子の周囲を囲むように、前記半導体基板の厚みよりも浅い分離溝を形成し、
前記半導体基板表面を接着剤を介してサポート基板を貼りあわせ、
前記半導体基板の裏面を取り除いて基板を薄くし、前記分離溝の側壁が露出したら前記半導体基板の裏面と前記側壁で成る角部をエッチングによりなだらかにし、
前記裏面にある分離溝を通じて前記接着剤の溶剤を通過させて、前記サポート基板から前記半導体基板を分離する事を特徴とした半導体装置の製造方法。 - 前記能動素子でIC回路が構成されている請求項1に記載の半導体装置の製造方法。
- 少なくとも1つの半導体素子をユニットとして、半導体ウェハの表面に前記ユニットをマトリックス状に形成し、
前記ユニットを囲み、前記半導体ウェハの周囲まで延在するように、前記半導体ウェハの表面から、前記半導体ウェハの厚みよりも浅い分離溝を形成し、
前記半導体ウェハの表面に接着剤を介してサポート基板を貼りあわせ、
前記半導体ウェハの裏面を取り除いて厚みを薄くし、前記分離溝の側壁が露出したら前記半導体ウェハの裏面と前記側壁で成る角部をエッチングによりなだらかにし、
前記半導体ウェハの裏面に、前記半導体ウェハ全体を吸引保持する吸引手段を設け、前記半導体ウェハの周囲に位置する前記分離溝を通じて、前記接着剤の溶剤を通過させて、前記サポート基板から前記ユニットを分離する事を特徴とした半導体装置の製造方法。 - 前記吸引手段は、前記半導体ウェハとの当接面に複数の吸引手段が設けられ、前記半導体ウェハを保持しながら、前記溶剤を前記分離溝に通過させる機構を有する請求項3に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記吸引手段は、前記半導体ウェハとの当接面に複数の吸引手段および前記溶剤の吐出手段が設けられ、前記半導体ウェハを保持しながら、前記溶剤を前記分離溝に吐出通過させると同時に前記溶剤を吸引する機構を有する請求項3に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記接着剤は、前記サポート基板にスピンコーターで形成される請求項1〜請求項5のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記接着剤は、前記サポート基板に前もって形成されている請求項1〜請求項5のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
- 前記半導体基板表面を接着剤を介してサポート基板を貼りあわせ、
前記半導体基板の裏面を取り除いて基板を薄くし、
前記少なくとも一つの能動素子の周囲を囲むように、前記半導体基板の裏面から表面まで達する分離溝を形成し、
前記半導体基板の裏面と前記分離溝の側壁で成る角部をエッチングによりなだらかにし、
前記裏面にある分離溝を通じて前記接着剤の溶剤を通過させて、前記サポート基板から前記半導体基板を分離する事を特徴とした半導体装置の製造方法。 - 表面に少なくとも一つ能動素子を形成し、矩形の形状を取り、裏面と側面がエッチング処理されており、前記裏面と前記側面の境から成る辺のコーナー部分は角が取れてなだらかである半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007082432A JP2008244132A (ja) | 2007-03-27 | 2007-03-27 | 半導体装置の製造方法および半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007082432A JP2008244132A (ja) | 2007-03-27 | 2007-03-27 | 半導体装置の製造方法および半導体装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008244132A true JP2008244132A (ja) | 2008-10-09 |
Family
ID=39915109
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007082432A Ceased JP2008244132A (ja) | 2007-03-27 | 2007-03-27 | 半導体装置の製造方法および半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008244132A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011243902A (ja) * | 2010-05-21 | 2011-12-01 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
JP2013201460A (ja) * | 2009-02-06 | 2013-10-03 | Qualcomm Inc | スクライブライン貫通シリコンビア |
JP2014159052A (ja) * | 2013-02-19 | 2014-09-04 | Rohm Co Ltd | チップ部品およびその製造方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07147262A (ja) * | 1993-11-24 | 1995-06-06 | Murata Mfg Co Ltd | 半導体デバイスの製造方法 |
JP2002184845A (ja) * | 2000-12-15 | 2002-06-28 | Kyocera Corp | ウエハー支持基板 |
JP2005191550A (ja) * | 2003-12-01 | 2005-07-14 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 基板の貼り付け方法 |
JP2006179752A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Seiko Epson Corp | 半導体装置の製造方法、半導体装置、積層半導体装置、回路基板、及び電子機器 |
WO2006090650A1 (ja) * | 2005-02-23 | 2006-08-31 | Jsr Corporation | ウェハ加工方法 |
JP2006303077A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体チップの製造方法 |
JP2007049041A (ja) * | 2005-08-11 | 2007-02-22 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの分割方法 |
JP2007067167A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | サポートプレート、サポートプレートの剥離装置及び剥離方法 |
-
2007
- 2007-03-27 JP JP2007082432A patent/JP2008244132A/ja not_active Ceased
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07147262A (ja) * | 1993-11-24 | 1995-06-06 | Murata Mfg Co Ltd | 半導体デバイスの製造方法 |
JP2002184845A (ja) * | 2000-12-15 | 2002-06-28 | Kyocera Corp | ウエハー支持基板 |
JP2005191550A (ja) * | 2003-12-01 | 2005-07-14 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 基板の貼り付け方法 |
JP2006179752A (ja) * | 2004-12-24 | 2006-07-06 | Seiko Epson Corp | 半導体装置の製造方法、半導体装置、積層半導体装置、回路基板、及び電子機器 |
WO2006090650A1 (ja) * | 2005-02-23 | 2006-08-31 | Jsr Corporation | ウェハ加工方法 |
JP2006303077A (ja) * | 2005-04-19 | 2006-11-02 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 半導体チップの製造方法 |
JP2007049041A (ja) * | 2005-08-11 | 2007-02-22 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの分割方法 |
JP2007067167A (ja) * | 2005-08-31 | 2007-03-15 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | サポートプレート、サポートプレートの剥離装置及び剥離方法 |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013201460A (ja) * | 2009-02-06 | 2013-10-03 | Qualcomm Inc | スクライブライン貫通シリコンビア |
JP2011243902A (ja) * | 2010-05-21 | 2011-12-01 | Disco Abrasive Syst Ltd | ウエーハの加工方法 |
JP2014159052A (ja) * | 2013-02-19 | 2014-09-04 | Rohm Co Ltd | チップ部品およびその製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9741619B2 (en) | Methods for singulating semiconductor wafer | |
KR102251260B1 (ko) | 웨이퍼 가공 방법 | |
JP5074719B2 (ja) | ウエハを薄くする方法及びサポートプレート | |
KR100759687B1 (ko) | 기판의 박판화 방법 및 회로소자의 제조방법 | |
JP4042749B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2004228392A (ja) | 半導体装置の製造方法および半導体モジュールの製造方法 | |
JP2006253402A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
KR20110106915A (ko) | 쓰루-실리콘 비아들을 노출 및 접촉시키는 고-수율 방법 | |
JP2009032929A (ja) | 半導体装置及びその製造方法 | |
US11688639B2 (en) | Semiconductor device and method | |
JP2003031524A (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP4742252B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2006261299A (ja) | 半導体装置の製造方法および半導体装置 | |
JP3459234B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP2004146487A (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP5101157B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2007116141A (ja) | Wlpのパッケージ分離方法 | |
JP2008244132A (ja) | 半導体装置の製造方法および半導体装置 | |
US10163673B2 (en) | Dual adhesive bonding with perforated wafer | |
JPH03101128A (ja) | 半導体チップの製造方法 | |
JP2005191485A (ja) | 半導体装置 | |
JP2004119573A (ja) | 半導体装置の製造方法およびフィルム貼付装置 | |
JP4107896B2 (ja) | 半導体装置およびその製造方法 | |
JP4724729B2 (ja) | 半導体装置の製造方法 | |
JP2008041780A (ja) | サポートプレート、ウエハを剥離する方法、及びウエハを薄くする方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Effective date: 20100225 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Effective date: 20110608 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120306 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20120605 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Effective date: 20121211 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20130215 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20130311 |
|
A521 | Written amendment |
Effective date: 20130405 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Effective date: 20131015 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A045 | Written measure of dismissal of application |
Effective date: 20140225 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A045 |