JP2008243979A - 酸化物薄膜形成方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】酸化物薄膜の結晶性を維持しつつ、酸化物薄膜中に気体元素を効率良くドーピングすることができる酸化物薄膜形成方法を提供する。
【解決手段】
ドーピングを行わない酸化物薄膜形成工程(第1の酸化物薄膜形成工程)における酸素供給量を基準とし、この基準酸素供給量よりも、気体元素のドーピングを行う酸化物薄膜形成工程(第2の酸化物薄膜形成工程)における酸素供給量を小さくしているので、成長温度を結晶性が良くなる温度にまで上げている場合でも、気体元素のドーピングが容易に行われる。
【選択図】 図1
【解決手段】
ドーピングを行わない酸化物薄膜形成工程(第1の酸化物薄膜形成工程)における酸素供給量を基準とし、この基準酸素供給量よりも、気体元素のドーピングを行う酸化物薄膜形成工程(第2の酸化物薄膜形成工程)における酸素供給量を小さくしているので、成長温度を結晶性が良くなる温度にまで上げている場合でも、気体元素のドーピングが容易に行われる。
【選択図】 図1
Description
本発明は、酸化物薄膜に対し気体元素のドーピングを容易にした酸化物薄膜形成方法に関する。
単体元素が気体であるような元素を含む化合物として、例えば、窒化物や酸化物等がある。窒化物は、青色LEDの産業的な成功により、大きな市場と多様な研究テーマを生み出した。一方、酸化物はYBCOに代表される超伝導酸化物、ITOに代表される透明導電物質、(LaSr)MnO3に代表される巨大磁気抵抗物質など、従来の半導体や金属、有機物質では不可能なほどの多様な物性を持っており、ホットな研究分野の一つである。
一般に、半導体では、母体となる物質に制御された量の不純物を意図的に添加するというドーピングが行われており、このドーピングにより半導体の様々な機能が引き出される。酸化物でもドーピングは行われているが、酸化物では金属をドーピング材料に選ぶと、いくらでも元素数の多い酸化物が可能なことからもわかるように複合酸化物を作りやすい。その上、酸素に対する金属の価数は複数あることがしばしば見られ、ドーピング制御の上では望ましくない。そこで酸素側を置換するドーピングが考えられるが、金属元素以外を選ぶとなると殆どが気体元素であり、気体元素をドーピング材料として選ぶことになる。
酸化物の一種であるZnOを例にとると、ZnOはその多機能性、発光ポテンシャルの大きさなどが注目されていながら、なかなか半導体デバイス材料として成長しなかった。その最大の難点は、アクセプタードーピングが困難で、p型ZnOを得ることができなかったためである。
しかし、近年、非特許文献1や2に見られるように、技術の進歩により、p型ZnOを得ることができるようになり、発光も確認されるようになり、非常に研究が盛んである。
A.Tsukazaki et al., JJAP 44 (2005) L643 A.Tsukazaki et al Nature Material 4 (2005) 42 K. Nakahara et al., Journal of Crystal Growth 237-239 (2002) 503
A.Tsukazaki et al., JJAP 44 (2005) L643 A.Tsukazaki et al Nature Material 4 (2005) 42 K. Nakahara et al., Journal of Crystal Growth 237-239 (2002) 503
ところで、非特許文献1、2に示されるように、従来技術では、ZnOにドーピングを行う際には、ZnOの酸素側を置換するために、主として気体元素の一種である窒素が使われている。しかし、形成されるZnO薄膜の結晶性を良くするためには、成長温度を高くする必要があるが、良好な結晶性を維持できる成長温度では窒素がほとんどドーピングされないという性質がある(例えば、非特許文献3参照)。これは、酸素の化学活性が高いため、亜鉛が窒素とはなかなか化合しないために発生する。したがって、酸化物薄膜の結晶性を維持しつつ、酸化物薄膜における酸素側を気体元素で置換するようなドーピングを行うことは非常に難しい問題であった。
本発明は、上述した課題を解決するために創案されたものであり、酸化物薄膜の結晶性を維持しつつ、酸化物薄膜中に気体元素を効率良くドーピングすることができる酸化物薄膜形成方法を提供することを目的としている。
上記目的を達成するために、請求項1記載の発明は、酸化物薄膜に該酸化物薄膜の構成元素とは異なる気体元素をドーピングする酸化物薄膜形成方法であって、ドーピングを行わない第1の酸化物薄膜形成工程における酸素供給量を基準とした場合、前記第1の酸化物薄膜形成工程における酸素供給量よりもドーピングを行う第2の酸化物薄膜形成工程における酸素供給量が小さいことを特徴とする酸化物薄膜形成方法である。
また、請求項2記載の発明は、前記第2の酸化物薄膜形成工程の薄膜成長速度は、前記第1の酸化物薄膜形成工程の薄膜成長速度よりも遅いことを特徴とする請求項1記載の酸化物薄膜形成方法である。
また、請求項3記載の発明は、前記気体元素の供給は、該気体元素単体又は気体元素を含む気体化合物であることを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか1項に記載の酸化物薄膜形成方法である。
また、請求項4記載の発明は、前記気体元素は窒素であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の酸化物薄膜形成方法である。
また、請求項5記載の発明は、前記酸化物薄膜形成工程における酸素の供給は、プラズマ化された酸素又は酸素化合物により行われることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の酸化物薄膜形成方法である。
また、請求項6記載の発明は、前記プラズマ化には高周波電源を用いていることを特徴とする請求項5記載の酸化物薄膜形成方法である。
また、請求項7記載の発明は、前記第2の酸化物薄膜工程時における前記高周波電源の出力は、前記第1の酸化物薄膜形成工程時よりも低く設定されることを特徴とする請求項6記載の酸化物薄膜形成方法である。
本発明の酸化物薄膜形成方法は、ドーピングを行わない酸化物薄膜形成工程(第1の酸化物薄膜形成工程)における酸素供給量を基準とし、この基準酸素供給量よりも、気体元素のドーピングを行う酸化物薄膜形成工程(第2の酸化物薄膜形成工程)における酸素供給量を小さくしているので、成長温度を結晶性が良くなる温度にまで上げている場合でも、気体元素のドーピングが容易に行われる。
以下、図面を参照して本発明の一実施形態を説明する。図4は本発明の酸化物薄膜形成方法を用いる薄膜形成装置としてのMBE装置(分子線エピタキシー装置)の全体構造を、図5は、図4のMBE装置に用いられるラジカル発生器の構造を示す。
23は成長室であり、33〜36はクヌーセンセル又はK−セルと言われる分子線セルで、半導体薄膜を形成する場合の気体元素以外の元素を供給するものであり、例えば、Al用分子線セル、Ga用分子線セル、In用分子線セル、Si用分子線セル、Zn用分子線セル等として使用される。各分子線セルは、例えば、PBN(窒化硼素)製の坩堝37と、ヒータ38と、シャッター39を各々備えている。
一方、20a、20bはラジカル発生器であり、15は酸化物薄膜成長用基板、22は基板ホルダー、21は加熱ヒータ、24は液体窒素シュラウド、25はRHEED(高速反射電子回折)電子銃、26はRHEEDスクリーンである。
ラジカル発生器20a、20bは、図5に示すように、中空の放電管10の外側周囲を高周波コイル4で巻き回されており、高周波コイル2の端子は、高周波電源9に接続されている。放電管10は、放電室1、蓋2、ガス導入用底板3で構成されている。また、支持台8が設けられており、支持台8には回転可能な支柱6が配置され、支柱6にはシャッター5が接続されている。
ガス導入用底板3は下側のガス供給管7と接続されており、ガス供給管7に供給された気体を放電室1に導く。放電室1は中空構造となっており、導入された気体は高周波コイル4によって高周波電圧(電界)が印加され、プラズマ状態が形成される。蓋2には放出孔(図示せず)が設けられており、放電室1で発生したプラズマをこの放出孔から放出させる。
シャッター5は、支柱6が回転することにより、蓋2に開けられた放出孔の上部を遮ったり、または開放したりするように構成されており、プラズマ原子の供給が必要ない場合には、シャッター5は蓋2に開けられた放出孔の上を遮る位置に配置されている。一方、薄膜形成やp型不純物のドーピング等の際には、支柱6が回転してシャッター5を移動させ、蓋2に開けられた放出孔の上部を開放し、放電管10から放出されるプラズマ原子(図の励起ガス)を図4の成長室23に導く。また、放電管10及び高周波コイル2を囲繞するように設けられた外筒13と、ビューポート14等が設けられている。
上記、図4、5のような装置において、成長用基板15にZnO基板を使用し、このZnO基板上に、まず、ドーピングを行わない(以下、アンドープという)ZnO薄膜を作製した。次に、図4、5の装置を用いてZnO基板上に窒素ドープZnO薄膜を作製した。
形成方法は、最初にZnO基板をロードロック室に入れ、水分除去のために、1×10−5〜1×10−6Torr程度の真空環境で200℃、30分程度加熱する。1×10−9Torr程度の真空を持つ搬送チャンバーを経由して、液体窒素シュラウド24で冷やされた壁面を持つ成長室23にZnO基板を導入し、MBE法を用いてZnO系薄膜を成長させる。
Znは、7Nの高純度ZnをPBN製の坩堝に入れた分子線セル33〜36のいずれかを用い、260℃〜280℃程度に加熱して昇華させることにより、ZnO基板(成長用基板15)に対してZn分子線として供給する。
また、ZnO系薄膜を成長させることもできる。ここで、ZnO系薄膜とはZnOを主成分とする薄膜のことであり、ZnO又はZnOを含む化合物から構成され、具体例としては、ZnOの他、IIA族元素とZn、IIB族元素とZn、またはIIA族元素およびIIB族元素とZnのそれぞれの酸化物を含むものを意味し、バンドギャプを広げるためにMgが混ざったMgxZn1−xOなどの混晶も含まれる。
例えば、MgxZn1−xOを作製する場合は、構成元素であるMgについても6Nの高純度Mgを用い、同様の構造の分子線セル33〜36のいずれかから300℃〜400℃に加熱して昇華させ、ZnO基板(成長用基板15)に対してMg分子線として供給する。
ZnO薄膜の酸素元素については、例えば、電解研磨内面を持つSUS管を通じて円筒の一部に小さい放出孔を開けた放電管を備えたラジカル発生器20aに6NのO2ガスを、0.1sccm〜5sccm程度で供給し、100〜500W程度の高周波電界を印加してプラズマを発生させ、反応活性を上げた酸素ラジカルの状態にして酸素供給源として供給する。プラズマは重要で、O2生ガスを入れてもZnO薄膜は形成されない。なお、酸素ラジカルを発生させる原料ガスとして、酸素の替わりにオゾン(O3)を用いても良い。オゾンを使用した場合には、高周波電界を印加しなくても良い。
ZnO薄膜のp型のドーパントとして窒素ガスを用いた。窒素は純N2もしくは窒素化合物のガスを用いて、上記酸素と同様のラジカル発生器20bに0.1sccm〜5sccm程度で供給し、50W〜500W程度の高周波電界を印加してプラズマを発生させ、反応活性を上げた窒素ラジカルの状態にして窒素供給源として供給する。なお、窒素ラジカルを発生させる原料ガスとして、窒素以外に、二酸化窒素(NO2)、一酸化二窒素(N2O)、一酸化窒素(NO)、アンモニア(NH3)等の窒素化合物ガスを利用しても良い。
基板の加熱は、一般的な抵抗加熱であればSiCコートしたカーボンヒータを使う。Wなどでできた金属系のヒータは酸化してしまい使えない。他にもランプ加熱、レーザー加熱などで温める方法もあるが、酸化に強ければどの方法でもかまわない。750℃以上に加熱し、約30分、1×10−9Torr程度の真空中で加熱した後、アンドープZnO薄膜を成長させる場合は、酸素ラジカル発生器20aとZn分子線セルのシャッターを開けて成長を行う。また、窒素ドープZnO薄膜を成長させる場合は、酸素ラジカル発生器20a及び酸素ラジカル発生器20bとZn分子線セルのシャッターを開けて成長を行う。
上記のような方法で形成されるZnO薄膜について、分子線セルから出力されるZn(亜鉛)の供給量を一定にし、ラジカル発生器に導入される酸素供給量のみを変化させた場合、酸素供給源(上記実施例では、酸素ラジカル発生器)から成長室23への酸素供給量(酸素ラジカル供給量)と成長速度(成長レート)の関係は図2のようになった。図2の縦軸は、アンドープZnO薄膜の成長速度(nm/時間)を、横軸は酸素供給源に導入される酸素流量(sccm)を示す。
図2において、黒丸(●)のデータX1、X2、X3は、酸素ラジカル発生器の高周波電源出力を300Wとした場合のデータを示し、白丸(○)のデータX4は、酸素ラジカル発生器の高周波電源出力を150Wとした場合のデータを示す。X1、X4は酸素流量が0.3sccmのとき、X2は酸素流量が1.0sccmのとき、X3は酸素流量が3.0sccmのときのデータを表す。
X1、X2、X3のデータからわかるように、酸素供給源に導入する酸素流量が低下すると、成長室23への酸素ラジカル供給量も減少し、成長速度も低下している。また、X1とX4は、酸素供給源に導入する酸素流量が同じで、原料ガスの酸素に印加する高周波電力が300Wと150Wと異なるだけであるが、高周波電力が低下すれば、酸素ラジカルの発生量も減少し、成長室23への酸素ラジカル供給量が減少するので、X4の方が成長速度が遅くなる。
図1は、図2のX1、X2、X3、X4のデータについて、横軸をアンドープZnO薄膜形成工程時成長レート(nm/時間)、縦軸を窒素濃度(cm−3)にして表したものである。すなわち、各アンドープZnO薄膜成長速度X1、X2、X3、X4の場合について、亜鉛や酸素の供給条件を維持して各成長速度を保ち、窒素ラジカル発生器から窒素ラジカルを発生させ、窒素ドーピングを行い、形成された窒素ドープZnO薄膜中の窒素濃度を測定した。
ここで、分子線セルから放出されるZn分子線のフラックスは0.5Å/秒とし、窒素ラジカルの発生条件は、窒素供給源に導入する原料ガスをNO(一酸化窒素)にして、流量0.1sccm、高周波電源出力を400Wとした。
窒素ドープZnO薄膜において、図1のX3、X1のデータからわかるように、アンドープZnO薄膜形成工程時の成長レートが、図2のように酸素供給源によって成長レートが決まり、かつ、酸素供給量が低い条件または高周波電力が低い条件において、ZnO薄膜に窒素ドーピングを行うと、成長レートの低下に伴い窒素濃度が増加している。
具体的に説明すると、X3は、酸素流量3sccm、高周波電源出力300Wの酸素供給条件であるが、成長レートが250nm/時間、窒素ドープ量が1×1018cm−3となる。一方、X2は、酸素流量1sccm、高周波電源出力300Wの酸素供給条件であるが、成長レートが250nm/時間、窒素ドープ量が3×1018cm−3となり、X3の場合よりも窒素ドープ量がやや多くなっている。他方、X1は、酸素流量0.3sccm、高周波電源出力300Wの酸素供給条件であるが、成長レートが130nm/時間、窒素ドープ量が1×1020cm−3となり、X3の場合よりも窒素ドープ量がかなり多くなっている。
他方、X4は、X1と酸素流量は同じ(0.3sccm)で、高周波電源出力を150Wに低くした酸素供給条件となっているが、成長レートは70nm/時間とX3と比較して30%以下になるが、窒素ドープ量は2×1020cm−3とX1の場合も上回り、高濃度にドーピングすることが可能である。
また、酸化物薄膜への気体元素のドーピング量は、酸素供給量によって決まり、酸化物内の酸素と結合している元素の供給量ではほとんど変化しない。図3に示すのは、窒素ドープZnO薄膜形成時において、酸素供給量を一定にして、Zn供給量のみを変化させた場合の窒素ドープ濃度との関係を示す図である。横軸は深さを、縦軸左側はZnO薄膜中の窒素濃度(cm−3)を、縦軸右側はZnO2次イオン強度(カウント/秒)を表す。図3に示されるように、Znの分子線セルから放出されるZnフラックスを1.7Å(オングストローム)/秒、0.5Å/秒と変化させているが、ZnO薄膜中の窒素濃度はほとんど変化していない。
通常、ZnO薄膜を成長させる場合は、なるべく成長速度は速い方が良いので、例えば、図2に示すX3の成長条件で窒素ドープ層以外の成長は行い、窒素ドープZnO薄膜を形成するときには、酸素供給量を変化させ、X3の酸素流量よりも低い酸素流量でZnO薄膜を成長させれば、図1に示すように、薄膜中の窒素濃度は増加する。この場合、成長レートが変化するような酸素流量の減少(例えば、X2からX1へ)であれば、非常に好ましい。図1からもわかるように、ZnO薄膜成長レートは、減少する(遅くなる)方向で、窒素ドープ量は増加するが、成長レートを減少させるために、Zn供給量を減少させても意味がないことは、図3に示されている。
また、酸素供給量を低下させ、成長レートを減少させる他の手段としては、図1、2のX1とX4からわかるように、ラジカル発生条件の高周波電力を小さくすることにより達成できるので、高周波電力を小さくしても良い。
以上のように、ドーピングを行わない酸化物薄膜形成工程(第1の酸化物薄膜形成工程)における酸素供給量を基準とし、この基準酸素供給量よりも、気体元素のドーピングを行う酸化物薄膜形成工程(第2の酸化物薄膜形成工程)における酸素供給量を小さくしているので、成長速度を遅くしてドーピング量を増加させることができる。
1 放電室
2 蓋
3 ガス導入用底板
4 高周波コイル
5 シャッター
6 支柱
7 ガス供給管
8 支持台
9 高周波電源
10 放電管
2 蓋
3 ガス導入用底板
4 高周波コイル
5 シャッター
6 支柱
7 ガス供給管
8 支持台
9 高周波電源
10 放電管
Claims (7)
- 酸化物薄膜に該酸化物薄膜の構成元素とは異なる気体元素をドーピングする酸化物薄膜形成方法であって、
ドーピングを行わない第1の酸化物薄膜形成工程における酸素供給量を基準とした場合、前記第1の酸化物薄膜形成工程における酸素供給量よりもドーピングを行う第2の酸化物薄膜形成工程における酸素供給量が小さいことを特徴とする酸化物薄膜形成方法。 - 前記第2の酸化物薄膜形成工程の薄膜成長速度は、前記第1の酸化物薄膜形成工程の薄膜成長速度よりも遅いことを特徴とする請求項1記載の酸化物薄膜形成方法。
- 前記気体元素の供給は、該気体元素単体又は気体元素を含む気体化合物であることを特徴とする請求項1又は請求項2のいずれか1項に記載の酸化物薄膜形成方法。
- 前記気体元素は窒素であることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれか1項に記載の酸化物薄膜形成方法。
- 前記酸化物薄膜形成工程における酸素の供給は、プラズマ化された酸素又は酸素化合物により行われることを特徴とする請求項1〜請求項4のいずれか1項に記載の酸化物薄膜形成方法。
- 前記プラズマ化には高周波電源を用いていることを特徴とする請求項5記載の酸化物薄膜形成方法。
- 前記第2の酸化物薄膜工程時における前記高周波電源の出力は、前記第1の酸化物薄膜形成工程時よりも低く設定されることを特徴とする請求項6記載の酸化物薄膜形成方法。
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JP2013028519A (ja) * | 2011-06-24 | 2013-02-07 | Fujikura Ltd | 窒素ドープ酸化亜鉛系薄膜の製造方法 |
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