JP2008236367A - 圧電薄膜振動子の製造方法及び圧電薄膜振動子 - Google Patents
圧電薄膜振動子の製造方法及び圧電薄膜振動子 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】圧電薄膜振動子1は、タングステン等の材料群から選択された材料により基板11の表面に犠牲層を形成し、次いで犠牲層の一部を露出部として残しながら、この犠牲層の上に下部電極14、圧電薄膜15、上部電極16からなる積層体10を積層し、次いで積層体10により覆われていない露出部を介して犠牲層を過酸化水素水で除去することにより、基板11の上面と分離層13との間に空隙部18を形成することにより製造される。
【選択図】図1
Description
タングステン、クロム、マンガン、コバルト及びこれらの金属のシリサイドからなる材料群より選択された材料によって前記空隙部に対応する犠牲層を形成する工程と、
次いで、前記犠牲層の一部を露出部として残しながら当該犠牲層の上面を覆う下部電極を形成する工程と、
次いで前記下部電極の上面に圧電薄膜を形成する工程と、
次いで前記圧電薄膜の上面に上部電極を形成する工程と、
次いで前記露出部を介して前記犠牲層を過酸化水素水により除去し、空隙部を形成する工程と、を含むことを特徴とすることを特徴とする。
また、犠牲層の薬品に対する安定性が高いことにより、圧電薄膜振動子の製造中における犠牲層の変質も少なく、過酸化水素水により容易に除去することができる。更に、エッチングの薬液として過酸化水素水を用いることにより、製造工程の最後に犠牲層のエッチングを行っても他部材へのダメージを小さく抑えることができる。これらの結果、本発明を用いて製造された圧電薄膜振動子の信頼性を向上させることができる。
1a FBAR
10 積層体
11 基板
12a、12b
SiO2層
13 分離層
13a SiO2層
14 下部電極
14a Ti層
15 圧電薄膜
15a AlN層
16 上部電極
16a Ti層
17 周波数調整層
17a SiO2層
18 空隙部
18a 露出部
19 電極パッド
21 犠牲層
21a W層
21b 露出部
31 レジスト
Claims (7)
- 基板と、この基板上に形成された下部電極、圧電薄膜及び上部電極の積層体と、当該基板の上面と下部電極との間に形成された空隙部と、を備えた圧電薄膜振動子の製造方法において、
タングステン、クロム、マンガン、コバルト及びこれらの金属のシリサイドからなる材料群より選択された材料によって前記空隙部に対応する犠牲層を形成する工程と、
次いで、前記犠牲層の一部を露出部として残しながら当該犠牲層の上面を覆う下部電極を形成する工程と、
次いで前記下部電極の上面に圧電薄膜を形成する工程と、
次いで前記圧電薄膜の上面に上部電極を形成する工程と、
次いで前記露出部を介して前記犠牲層を過酸化水素水により除去し、空隙部を形成する工程と、を含むことを特徴とする圧電薄膜振動子の製造方法。 - 前記下部電極と前記犠牲層を構成する材料とを互いに分離して、これら下部電極及び犠牲層の材料間の反応を防止するための分離層を、当該犠牲層と下部電極との間に形成する工程を更に含むことを特徴とする請求項1に記載の圧電薄膜振動子の製造方法。
- 前記分離層は、酸化物または窒化物からなることを特徴とする請求項2に記載の圧電薄膜振動子の製造方法。
- 前記分離層の酸化物または窒化物は、SiO2、Si3N4、Al2O3から選択されることを特徴とする請求項3に記載の圧電薄膜振動子の製造方法。
- 前記上部電極を形成する工程と、前記犠牲層を除去して空隙部を形成する工程との間に、上部電極の上面に、圧電薄膜振動子の周波数を調整するための周波数調整層を形成する工程を更に含むことを特徴とする請求項1ないし4のいずれか一つに記載の圧電薄膜振動子の製造方法。
- 前記周波数調整層は、酸化シリコンからなることを特徴とする請求項5に記載の圧電薄膜振動子の製造方法。
- 請求項1ないし6のいずれか一つに記載の圧電薄膜振動子の製造方法により製造されたことを特徴とする圧電薄膜振動子。
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