JP2008235654A - 金属膜の製造方法、圧電素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンター - Google Patents
金属膜の製造方法、圧電素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンター Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008235654A JP2008235654A JP2007074548A JP2007074548A JP2008235654A JP 2008235654 A JP2008235654 A JP 2008235654A JP 2007074548 A JP2007074548 A JP 2007074548A JP 2007074548 A JP2007074548 A JP 2007074548A JP 2008235654 A JP2008235654 A JP 2008235654A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal film
- film
- substrate
- piezoelectric element
- ink
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 43
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 56
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims abstract description 37
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 27
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 97
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 97
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 54
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 27
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 claims description 19
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 4
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 3
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 3
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010408 film Substances 0.000 description 161
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 112
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 18
- 239000000463 material Substances 0.000 description 18
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 16
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 10
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 10
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 7
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 6
- 229910052451 lead zirconate titanate Inorganic materials 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 5
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 5
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 5
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 4
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 4
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 4
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 3
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 3
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 3
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 3
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 2
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 238000007747 plating Methods 0.000 description 2
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- 241000877463 Lanio Species 0.000 description 1
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910004121 SrRuO Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N dioxoiridium Chemical compound O=[Ir]=O HTXDPTMKBJXEOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000457 iridium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N lead zirconate titanate Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Ti+4].[Zr+4].[Pb+2] HFGPZNIAWCZYJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011344 liquid material Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000007769 metal material Substances 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000002902 organometallic compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- -1 platinum and iridium Chemical class 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 238000010897 surface acoustic wave method Methods 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)
Abstract
【課題】デバイスに適した結晶構造を有する金属膜の製造方法、圧電素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンターを提供する。
【解決手段】基体10の上方に有機膜25を形成する工程と、有機膜の上に金属膜30aを形成する工程と、基体を加熱することにより、有機膜25を分解、ガス化して除去することで、金属層30aが下方に基体10上に落下して、金属膜30aとは異なる新たな結晶構造が形成される工程と、金属膜はさらに加熱され、再結晶化された金属膜が形成される工程と、金属膜上に強誘電体層を形成する工程と、を含む。
【選択図】図2
【解決手段】基体10の上方に有機膜25を形成する工程と、有機膜の上に金属膜30aを形成する工程と、基体を加熱することにより、有機膜25を分解、ガス化して除去することで、金属層30aが下方に基体10上に落下して、金属膜30aとは異なる新たな結晶構造が形成される工程と、金属膜はさらに加熱され、再結晶化された金属膜が形成される工程と、金属膜上に強誘電体層を形成する工程と、を含む。
【選択図】図2
Description
本発明は、金属膜の製造方法、圧電素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンターに関する。
高画質、高速印刷を可能にするプリンターとして、インクジェットプリンターが知られている。インクジェットプリンターは、内容積が変化するキャビティーを備えたインクジェット式記録ヘッドを備え、このヘッドを走査させつつそのノズルからインク滴を吐出することにより、印刷を行うものである。このようなインクジェットプリンター用のインクジェット式記録ヘッドにおけるヘッドアクチュエーターとしては、従来、PZT(Pb(Zr,Ti)O3)に代表される圧電体層を用いた圧電素子が用いられている(例えば、特許文献1を参照)。また、圧電素子は、インクジェットプリンターの他に、圧電ポンプ、表面弾性波素子、薄膜圧電共振子、周波数フィルタ、発振器、電子回路、および電子機器等のデバイスにおいても用いられる。このような圧電素子においては、その結晶構造が圧電特性に大きく寄与する。また他の素子においても、結晶構造がデバイス特性に大きく寄与することから、結晶配向を制御するための手段が望まれている。
特開2001−223404号公報
本発明の目的は、デバイスに適した結晶構造を有する金属膜の製造方法、圧電素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンターを提供することにある。
本発明にかかる金属膜の製造方法は、
(a)基体の上方に有機膜を形成する工程と、
(b)前記有機膜の上に金属膜を形成する工程と、
(c)前記基体を加熱することにより、前記有機膜を分解するとともに前記金属膜の結晶配向をかえる工程と、
を含む。
(a)基体の上方に有機膜を形成する工程と、
(b)前記有機膜の上に金属膜を形成する工程と、
(c)前記基体を加熱することにより、前記有機膜を分解するとともに前記金属膜の結晶配向をかえる工程と、
を含む。
本発明において、特定のA部材(以下、「A部材」という。)の上方に設けられた特定のB部材(以下、「B部材」という。)というとき、A部材の上に直接B部材が設けられた場合と、A部材の上に他の部材を介してB部材が設けられた場合とを含む意味である。
本発明にかかる金属膜の製造方法において、
前記工程(b)では、スパッタリングにより金属膜を形成することができる。
前記工程(b)では、スパッタリングにより金属膜を形成することができる。
本発明にかかる金属膜の製造方法において、
前記工程(b)は、前記工程(c)と同時に行うことができる。
前記工程(b)は、前記工程(c)と同時に行うことができる。
本発明にかかる金属膜の製造方法において、
前記工程(c)の後に、
前記金属膜の上にさらに金属を堆積することができる。
前記工程(c)の後に、
前記金属膜の上にさらに金属を堆積することができる。
本発明にかかる金属膜の製造方法において、
前記工程(b)において形成される金属膜は、(111)配向の結晶構造を有し、
前記工程(c)において、前記金属膜は、少なくとも一部の領域において(100)配向の結晶構造にかわることができる。
前記工程(b)において形成される金属膜は、(111)配向の結晶構造を有し、
前記工程(c)において、前記金属膜は、少なくとも一部の領域において(100)配向の結晶構造にかわることができる。
本発明にかかる金属膜の製造方法において、
前記金属膜は、白金またはイリジウムまたはルテニウムまたはロジウムまたはパラジウムまたはオスミウムまたはこれらの合金からなることができる。
前記金属膜は、白金またはイリジウムまたはルテニウムまたはロジウムまたはパラジウムまたはオスミウムまたはこれらの合金からなることができる。
本発明にかかる金属膜の製造方法において、
前記工程(b)において形成される金属膜の膜厚は、50nm以下であることができる。
前記工程(b)において形成される金属膜の膜厚は、50nm以下であることができる。
本発明にかかる金属膜の製造方法において、
前記工程(a)では、前記基体の上方における一部の領域に有機膜を形成し、
前記工程(b)では、前記一部の領域の上および他の領域の上に金属膜を形成し、
前記工程(c)では、前記一部の領域に形成された金属膜の結晶配向をかえることができる。
前記工程(a)では、前記基体の上方における一部の領域に有機膜を形成し、
前記工程(b)では、前記一部の領域の上および他の領域の上に金属膜を形成し、
前記工程(c)では、前記一部の領域に形成された金属膜の結晶配向をかえることができる。
本発明にかかる圧電素子の製造方法は、
(a)基体の上方に有機膜を形成する工程と、
(b)前記有機膜の上に金属膜を形成する工程と、
(c)前記基体を加熱することにより、前記有機膜を分解するとともに前記金属膜の結晶配向をかえる工程と、
(d)前記金属膜の上方に圧電体膜を形成する工程と、
を含む。
(a)基体の上方に有機膜を形成する工程と、
(b)前記有機膜の上に金属膜を形成する工程と、
(c)前記基体を加熱することにより、前記有機膜を分解するとともに前記金属膜の結晶配向をかえる工程と、
(d)前記金属膜の上方に圧電体膜を形成する工程と、
を含む。
本発明にかかる圧電素子の製造方法において、
前記工程(a)では、前記基体の上方における一部の領域に有機膜を形成し、
前記工程(b)では、前記一部の領域の上および他の領域の上に金属膜を形成し、
前記工程(c)では、前記一部の領域に形成された金属膜の結晶配向をかえて、
前記工程(d)では、前記一部の領域内に前記圧電体膜を形成することができる。
前記工程(a)では、前記基体の上方における一部の領域に有機膜を形成し、
前記工程(b)では、前記一部の領域の上および他の領域の上に金属膜を形成し、
前記工程(c)では、前記一部の領域に形成された金属膜の結晶配向をかえて、
前記工程(d)では、前記一部の領域内に前記圧電体膜を形成することができる。
本発明にかかるインクジェット式記録ヘッドは、上述した製造方法により製造された圧電素子を含む。
本発明にかかるインクジェットプリンターは、上述したインクジェット式記録ヘッドを含む。
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しながら説明する。
1.金属膜の製造方法
まず、本実施の形態にかかる金属膜の製造方法について説明する。図1〜図4は、本実施の形態にかかる金属膜の製造方法を模式的に示す断面図である。以下、工程順に説明する。
まず、本実施の形態にかかる金属膜の製造方法について説明する。図1〜図4は、本実施の形態にかかる金属膜の製造方法を模式的に示す断面図である。以下、工程順に説明する。
(1)まず、基体10を準備する。基体10の材質は特に限定されないが、たとえば無機系基板(例えば石英ガラス、シリコンウエハ、酸化物層)であってもよい。また、基体10は、基板上に単層膜または多層膜が形成されたものであってもよい。圧電素子に適用される場合には、基体10は、たとえば、シリコン層および酸化シリコンや酸化ジルコニウム等の無機酸化物層を含むことができる。また基体10は、弾性板として機能する層を含んでもよい。
(2)次に、基体10上に有機膜25を形成する(図1参照)。有機膜25の材質は、熱処理を施すことにより分解できる材質であれば特に限定されないが、たとえばフォトレジスト、シランカップリング剤、LB膜(Langmuir Blodgett film)、自己組織化膜(SAM;self-assembled monolayer)、その他の熱可塑性樹脂または光硬化性樹脂等の樹脂であることができる。有機膜25は、公知の方法を用いて形成することができるが、たとえば液体状の有機材料をスピンコート法、ディップコート等により基体10上に塗布し、その後加熱または光を照射等することによって硬化して得られる。また有機膜25は、パターニングされてもよく、たとえばフォトリソグラフィ技術を用いて形成されてもよい。形成された有機膜25の膜厚は、特に限定されないが、たとえば5Å〜50nmであることができる。このような膜厚を有することにより、後述する金属膜の配向性を、膜形状を維持させながら適切な配向にかえることができる。
(3)次に、有機膜25の上に金属膜30aを形成する(図2参照)。金属膜30aの材質は、自己配向性の強いものであることができ、たとえば白金、イリジウムなどの各種の金属、それらの導電性酸化物(たとえば酸化イリジウムなど)、SrRuO3やLaNiO3といった複合酸化物など、を用いることができる。特に自己配向性の強い白金またはイリジウムまたはルテニウムまたはロジウムまたはパラジウムまたはオスミウムまたはこれらの合金を適用することが好ましい。
金属膜30aの形成方法としては、公知の方法を用いることができ、特に限定されないが、たとえばスパッタリング、真空蒸着、CVD法、めっき法等により成膜することができる。
なお、金属膜30aの膜厚は、50nm以下であることが好ましい。金属膜30aの膜厚が50nmより大きくなると、後の加熱処理の際に基体10から剥離してしまうことがあるからである。
(4)次に、基体10を加熱することにより、有機膜25を分解して除去するとともに、金属膜30aの結晶配向をかえる(図2〜図4参照)。加熱は、ランプアニールまたは拡散炉により、大気雰囲気中、500℃〜800℃で5分〜30分間程度行われることが好ましい。なお、加熱雰囲気としては、有機膜25をガス化することのできる雰囲気であればよく、酸素または窒素を含む雰囲気であってもよい。
まず、この加熱処理では、図2に示すように、有機膜25が分解される。有機膜25を分解することにより、ガス化して除去することができる。有機膜25が除去されることにより、金属層30aが下方に基体10上に落下して、金属膜30bが形成される(図3参照)。金属膜30bは、図2における金属膜30aの結晶構造が落下により破壊された状態である。このように、金属膜30bは、一旦破壊されることにより、金属膜30aとは異なる新たな結晶構造を形成することが容易になる。その後、金属膜30bは、さらに加熱されることによって、図4に示すように、再結晶化されて金属膜30が形成される。
以上の工程により、金属膜30が形成される。金属膜30は、有機膜25の上に形成された金属膜30aと異なる結晶配向性を有する。たとえば、金属膜30aが(111)配向のみを有する結晶構造であった場合に、有機膜25の形成および除去工程を経ることによって、金属膜30は、(100)配向と、(111)配向の双方を有する結晶構造または(100)配向のみを有する結晶構造となることができる。また、たとえば、金属膜30aが(100)配向と(111)配向の双方を有する結晶構造であった場合には、有機膜25の形成および除去工程を経ることによって、(100)配向と(111)配向の割合を変えて金属膜30を形成することができる。このようにして、たとえば金属膜30aの材質が自己配向性の強い材質であっても、その自己配向性とは異なった配向性の結晶構造に変化させることができる。従って、本実施の形態にかかる金属膜の製造方法によれば、金属膜30の用途に適した配向の結晶構造を有する金属膜を容易に形成することができる。
なお、工程(4)の加熱処理は、工程(3)の金属膜30aの形成工程と同時に行っても良いし、金属膜30aの一部を形成した後に金属膜30aを厚膜化させながら加熱処理を開始してもよい。このように、加熱処理の開始時期を早めることによって、スループットを向上させることができる。
また、金属膜30の形成後、さらに金属膜30を厚膜化してもよい。この工程では、スパッタリング、真空蒸着、CVD法、めっき法等により厚膜化することができる。金属膜30は、上述したように配向が制御されているため、厚膜化した金属膜についても、金属膜30と同様の配向にすることが可能である。
2.圧電素子およびインクジェット式記録ヘッドの製造方法
図5〜図13は、本発明の実施形態にかかるインクジェット式記録ヘッド1000の製造方法を模式的に示す断面図である。図示した構造は、インクジェット式記録ヘッド1000の要部である圧電動作によって変形する部分、すなわち、圧電素子100(図13、図14参照)を中心として描いてある。ここでは説明の便宜のために、単純な例を示すのであり、本実施形態の構造は、ここで示す構造に限定されるものではない。
図5〜図13は、本発明の実施形態にかかるインクジェット式記録ヘッド1000の製造方法を模式的に示す断面図である。図示した構造は、インクジェット式記録ヘッド1000の要部である圧電動作によって変形する部分、すなわち、圧電素子100(図13、図14参照)を中心として描いてある。ここでは説明の便宜のために、単純な例を示すのであり、本実施形態の構造は、ここで示す構造に限定されるものではない。
(1)まず、基体10の一部としての基板11を準備する(図5参照)。基板11は、たとえばシリコン層12および酸化物層14を有する。酸化物層14は、シリコン層12の上部に酸化処理を施すことによって設けられた酸化シリコンであってもよいし、シリコン層12の上面に公知の方法によって新たに設けられた酸化シリコンその他の酸化物であってもよい。酸化物層14は、熱酸化処理などによって設けることができる。あるいは、基板11の上部に酸化物層14を別途設ける場合は、蒸着、スパッタ等の公知の方法によることができる。
(2)次に、基板11上に弾性体層20を形成する(図5参照)。弾性体層20は、スパッタ法、真空蒸着、Chemical Vapor Deposition法(CVD法)などの公知の方法で形成することができる。弾性体層20の材質としては、たとえば、酸化ジルコニウム、窒化シリコン、酸化シリコンまたは、酸化アルミニウムなどが好適である。基板11の上面に酸化物層14を設けている場合、弾性体層20の材質は、酸化物層14の材質と同じ材質でも、異なる材質でもよい。たとえば、弾性体層20は、材質を酸化ジルコニウムとし、スパッタ法により、たとえば500nmの厚みに形成することができる。
(3)次に、弾性体層20上に有機膜25を形成する(図6参照)。有機膜25の材質は、熱処理を施すことにより分解できる材質であれば特に限定されないが、たとえばフォトレジスト、シランカップリング剤、LB膜(Langmuir Blodgett film)、自己組織化膜(SAM;self-assembled monolayer)、その他の熱可塑性樹脂または光硬化性樹脂等の樹脂であることができる。有機膜25は、公知の方法を用いて形成することができるが、たとえば液体状の有機材料をスピンコート法、ディップコート等により基体10上に塗布し、その後加熱または光を照射等することによって硬化して得られる。形成された有機膜25の膜厚は、特に限定されないが、たとえば10nm〜50nmであることができる。
(4)次に、有機膜25上に、下部電極層30a(金属膜)を形成する(図7参照)。下部電極層30aの形成は、スパッタリング、真空蒸着、CVD法などの公知の方法でおこなうことができる。たとえば、下部電極層30aは、材質を白金とし、スパッタリングにより、たとえば50nmの厚みに形成することができる。
(5)次に、基体10を加熱することにより、有機膜25を分解して除去するとともに、下部電極層30aの結晶配向をかえる(図7〜図9参照)。加熱は、ランプアニールまたは拡散炉により、大気雰囲気中、500℃〜800℃で5分〜30分間程度行われることが好ましい。なお、加熱雰囲気としては、有機膜25をガス化することのできる雰囲気であればよく、酸素または窒素を含む雰囲気であってもよい。
まず、この加熱処理では、図7に示すように、有機膜25が分解される。有機膜25を分解することにより、ガス化して除去することができる。有機膜25が除去されることにより、下部電極層30aが基体10上に落下して、下部電極層30bが形成される(図8参照)。下部電極層30bは、図7における下部電極層30aの結晶構造が落下により破壊された状態である。このように、下部電極層30bは、一旦破壊されることにより、下部電極層30aとは異なる新たな結晶構造を形成することが容易になる。その後、下部電極層30bは、さらに加熱されることによって、図9に示すように、再結晶化されて下部電極層30が形成される。その後下部電極層30は、厚膜化されてたとえば100nmの厚みに形成することができる。
白金は、(111)配向の強い自己配向性を有する。したがって、下部電極層30の材質を白金とした場合、通常、その結晶構造は、(111)に優先配向する。しかしながら、本実施の形態にかかる製造方法を用いることにより、(111)配向の領域を(100)配向にかえることができる。これにより、後述する強誘電体層40の配向を(100)配向に形成することができ、優れた圧電特性を有する圧電素子を得ることができる。
(6)次に、下部電極層30上に、強誘電体層40を形成する(図10参照)。強誘電体層40は、ゾル−ゲル法、有機金属熱塗布分解法(MOD法)等の液相法やCVD法やスパッタ法を用いて形成される。強誘電体層40の材質は、鉛、ジルコニウム、チタンを構成元素として含む酸化物とすることができる。すなわち、チタン酸ジルコン酸鉛(以下、PZTという)は、圧電性能が良好なため、強誘電体層40の材質として好適である。たとえば、ゾル−ゲル法を用いる場合には、Pb、Zr、およびTiをそれぞれ含有する有機金属化合物を溶媒に溶解させた溶液を下部電極層30上に塗布し、その後、乾燥工程および脱脂工程、および結晶化工程を経ることにより、強誘電体層40を形成することができる。以上の一連の工程を繰り返すことにより、所望の膜厚の強誘電体層40を得ることができる。強誘電体層40の膜厚は、たとえば50nm〜1500nmであることができる。
(7)次に強誘電体層40上に、上部電極層50を形成する。上部電極層50の形成は、スパッタ法、真空蒸着、CVD法などの公知の方法でおこなうことができる。たとえば、上部電極層50aは、材質を白金とし、スパッタ法により、たとえば50nm〜300nmの厚みに形成することができる。以上の工程により、下部電極層30、強誘電体層40、および上部電極層50を含む積層体60を得ることができる(図10参照)。
(8)次に、図11に示すように、強誘電体層40および上部電極層50をパターニングすることにより、所定の形状の強誘電体層42および上部電極層52と下部電極層30とを含むキャパシタ構造部62を形成する。パターニングは、公知のレジストおよびエッチングを用いた、フォトリソグラフィ技術によっておこなうことができる。
(9)次に、図12に示すように、キャパシタ構造部62の上面および側面に保護層70を形成する。保護層70の成膜方法としては、公知のスパッタ法、CVD法などを用いることができる。なお、保護層70は、成膜後に、必要に応じてパターニングしてもよい(図示せず)。パターニングは、たとえば、上述した公知のフォトリソグラフィ技術によっておこなうことができる。
(10)次に、基板10に、図13に示すように、圧力発生室16を形成する。圧力発生室16は、基板10の下面から、公知の異方性エッチング技術を用いて凹状の孔を形成することにより得られる。その後、基板10の下にノズルプレート18を接合する。ノズルプレート18は、開口部を有するステンレス板などを用いることができる。圧力発生室16は、基板10にキャパシタ構造部62に対応して、その下方に形成される。圧力発生室16は、インクジェット式記録ヘッド1000が駆動する際、液体が満たされる。圧力発生室16に満たされた液体は、圧電素子100の動作により加圧される。圧力発生室16は、前記圧力により、ノズルプレート18の開口部を通じて、前記液体を吐出させる機能を有する。
以上の工程により、圧電素子100を有するインクジェット式記録ヘッド1000を製造することができる。本実施形態にかかるインクジェット式記録ヘッド1000の製造方法によれば、下部電極層30の配向を所望の配向に制御することができる。即ち、たとえば下部電極層30の材質が自己配向性の強い材質であっても、その配向を圧電素子に適した配向にかえることができる。よって、下部電極層30の上に形成される強誘電体膜42の配向を圧電特性の優れた配向に優先的に成長させることができる。
3.変形例
次に変形例にかかる圧電素子200の製造方法について説明する。図15〜図19は、変形例にかかる圧電素子200およびインクジェット式記録ヘッド2000の製造方法を模式的に示す断面図である。変形例にかかる圧電素子200の製造方法では、一部の領域にのみ有機膜25を形成している点で、上述した圧電素子100の製造方法と異なる。なお、上述した圧電素子100およびインクジェット式記録ヘッド1000と共通する部材については、同一の符号を付した。変形例にかかる圧電素子200の製造方法の詳細は、以下のとおりである。
次に変形例にかかる圧電素子200の製造方法について説明する。図15〜図19は、変形例にかかる圧電素子200およびインクジェット式記録ヘッド2000の製造方法を模式的に示す断面図である。変形例にかかる圧電素子200の製造方法では、一部の領域にのみ有機膜25を形成している点で、上述した圧電素子100の製造方法と異なる。なお、上述した圧電素子100およびインクジェット式記録ヘッド1000と共通する部材については、同一の符号を付した。変形例にかかる圧電素子200の製造方法の詳細は、以下のとおりである。
まず、上述した2.の工程(1)〜(3)と同様にして、基板11、弾性体層20、および有機膜25を形成する。
次いで有機膜25をパターニングすることにより、一部の領域27にのみ有機膜25を形成する。パターニング方法としては、特に限定されないが、たとえば露光法を適用することができる(図15参照)。
次に、基体10上の全面に下部電極層30a(金属膜)を形成する。下部電極層30aは、少なくとも一部の領域27の上に形成されればよく、他の領域に形成されていてもよい。下部電極層30aの形成は、スパッタリング、真空蒸着、CVD法などの公知の方法でおこなうことができる。たとえば、下部電極層30aは、材質を白金とし、スパッタリングにより、たとえば100nmの厚みに形成することができる。
次に、基体10を加熱することにより、有機膜25を分解して除去するとともに、下部電極層30aの領域27の結晶配向をかえる(図16〜図18参照)。加熱は、ランプアニールまたは拡散炉により、大気雰囲気中、500℃〜800℃で5分〜30分間程度行われることが好ましい。なお、加熱雰囲気としては、有機膜25をガス化することのできる雰囲気であればよく、酸素または窒素を含む雰囲気であってもよい。
まず、この加熱処理では、図16に示すように、有機膜25が分解される。有機膜25を分解することにより、ガス化して除去することができる。有機膜25が除去されることにより、領域27における下部電極層30aが基体10上に落下して、下部電極層30bが形成される(図17参照)。領域27における下部電極層30bは、図16における下部電極層30aの結晶構造が落下により破壊された状態である。このように、領域27における下部電極層30bは、一旦破壊されることにより、下部電極層30aおよび領域27以外の領域の下部電極層30bとは異なる新たな結晶構造を形成することが容易になる。その後、領域27における下部電極層30bは、さらに加熱されることによって、図18に示すように、再結晶化されて下部電極層30が形成される。下部電極層30は、白金からなり、たとえば100nmの厚みに形成することができる。そして下部電極層30は、領域27における結晶構造が他の領域と異なる。
白金は、(111)配向の強い自己配向性を有する。したがって、下部電極層30の材質を白金とした場合、通常、その結晶構造は、(111)に優先配向する。しかしながら、本実施の形態にかかる製造方法を用いることにより、領域27において、(111)配向の領域を(100)配向にかえることができる。これにより、後述する強誘電体層40の配向を(100)配向に形成することができ、優れた圧電特性を有する圧電素子を得ることができる。
次に、下部電極層30上に、強誘電体層40を形成する(図19参照)。以後の工程については、上述した2.の工程(6)〜(9)と同様にして、強誘電体層42、上部電極層52、および保護層70を形成することにより、圧電素子200を得ることができる。そして上述した2.の工程(10)と同様にして、圧力発生室16およびノズルプレート18を形成することにより、インクジェット式記録ヘッド2000を得ることができる。
変形例にかかる圧電素子200の製造方法によれば、下部電極層30は、上述したように一部の領域27における配向を他の領域における配向と異なるように形成されている。これにより、下部電極層30においては、強誘電体層42の形成領域を、圧電素子に適した配向に形成し、かつ他の領域を結晶性に優れた構造に形成することができる。
4.実験例
4.1.第1の実験例
本実施の形態にかかる金属膜の製造方法を用いて、白金膜を形成してサンプル1(有機膜有)を作製し、その配向性を調べた。サンプルの作製方法は、以下のとおりである。
4.1.第1の実験例
本実施の形態にかかる金属膜の製造方法を用いて、白金膜を形成してサンプル1(有機膜有)を作製し、その配向性を調べた。サンプルの作製方法は、以下のとおりである。
まず、有機膜25としてフォトレジストを、基板上に成膜した。フォトレジストの成膜方法としては、スピンコート法を適用した。フォトレジストの膜厚は、約50nmであった。
次に、スパッタリングにより白金からなる金属膜30aを成膜した。スパッタリングは、白金をターゲットとして、雰囲気(アルゴン)の流量を50[sccm]、成膜パワーを0.1[kW]とし、かつ基板温度を室温[℃]として行った。
次に、大気雰囲気下で熱処理(ランプアニール)を700℃で5分間行った。得られた白金膜のXRDパターンを図20に示す。
4.2.第2の実験例(比較例)
次に、比較例として、有機膜25を形成せずに白金膜を形成してサンプル2(有機膜無)を作製した。
次に、比較例として、有機膜25を形成せずに白金膜を形成してサンプル2(有機膜無)を作製した。
まず、スパッタリングにより白金からなる金属膜30aを基板上に成膜した。スパッタリングは、白金をターゲットとして、雰囲気(アルゴン)の流量を50[sccm]、成膜パワーを0.1[kW]とし、かつ基板温度を室温[℃]として行った。
次に、大気雰囲気下で熱処理(ランプアニール)を700℃で5分間行った。得られた白金膜のXRDパターンを図20に示す。
4.3.XRDパターン
図20によれば、2θ=39°付近および2θ=46.5°付近にピークが観測された。2θ=39°付近のピークは、(111)配向を有する結晶質の白金であると推測される。2θ=46.5°付近のピークは、(200)配向を有する結晶質の白金であると推測される。有機膜を形成しないで得た白金膜のXRDパターンでは、2θ=39°付近のピークのみが観測され、2θ=46.5°付近のピークはなかった。一方、有機膜を形成した後に形成した白金膜のXRDパターンでは、2θ=39°付近のピークと2θ=46.5°付近のピークの双方が観測された。従って、本実施の形態にかかる金属膜の製造方法によれば、基板上に直接白金膜を形成した場合とは異なる配向を有する結晶質の白金膜を得られることが確認された。
図20によれば、2θ=39°付近および2θ=46.5°付近にピークが観測された。2θ=39°付近のピークは、(111)配向を有する結晶質の白金であると推測される。2θ=46.5°付近のピークは、(200)配向を有する結晶質の白金であると推測される。有機膜を形成しないで得た白金膜のXRDパターンでは、2θ=39°付近のピークのみが観測され、2θ=46.5°付近のピークはなかった。一方、有機膜を形成した後に形成した白金膜のXRDパターンでは、2θ=39°付近のピークと2θ=46.5°付近のピークの双方が観測された。従って、本実施の形態にかかる金属膜の製造方法によれば、基板上に直接白金膜を形成した場合とは異なる配向を有する結晶質の白金膜を得られることが確認された。
5.インクジェット式記録ヘッド
次に、圧電素子100を用いたインクジェット式記録ヘッドの全体構成について説明する。図21は、インクジェット式記録ヘッドの概略構成を示す側断面図であり、図22は、このインクジェット式記録ヘッドの分解斜視図である。なお、図22は、通常使用される状態とは上下逆に示したものである。
次に、圧電素子100を用いたインクジェット式記録ヘッドの全体構成について説明する。図21は、インクジェット式記録ヘッドの概略構成を示す側断面図であり、図22は、このインクジェット式記録ヘッドの分解斜視図である。なお、図22は、通常使用される状態とは上下逆に示したものである。
インクジェット式記録ヘッド(以下、「ヘッド」ともいう)500は、図21に示すように、ヘッド本体542と、ヘッド本体542の上に設けられた圧電部540と、を備える。なお、図21に示した圧電部540は、圧電素子100における下部電極層30、強誘電体層42、および上部電極層52に相当する。本実施の形態にかかるインクジェット式記録ヘッドおいて、圧電素子100は、圧電アクチュエータとして機能することができる。圧電アクチュエータとは、ある物質を動かす機能を有する素子、即ち電圧を印加することにより機械的ひずみを発生させる素子である。
また、圧電素子100における酸化物層14および弾性体層20は、図21において弾性膜550に相当する。また、基板10はヘッド本体542の要部を構成するものとなっている。
すなわち、ヘッド500は、図22に示すようにノズルプレート510と、インク室基板520と、弾性膜550と、弾性膜550に接合された圧電部(振動源)540とを備え、これらが基体560に収納されて構成されている。なお、このヘッド500は、オンデマンド形のピエゾジェット式ヘッドを構成している。
ノズルプレート510は、例えばステンレス製の圧延プレート等で構成されたもので、インク滴を吐出するための多数のノズル511を一列に形成したものである。これらノズル511間のピッチは、印刷精度に応じて適宜に設定されている。
ノズルプレート510には、インク室基板520が固着(固定)されている。インク室基板520は、上述のシリコン基板12によって形成されたものである。インク室基板520は、ノズルプレート510、側壁(隔壁)522、および後述する弾性膜550によって、複数のキャビティー(インクキャビティー)521と、リザーバ523と、供給口524と、を区画形成したものである。リザーバ523は、インクカートリッジ631(図23参照)から供給されるインクを一時的に貯留する。供給口524によって、リザーバ523から各キャビティー521にインクが供給される。
キャビティー521は、図21および図22に示すように、各ノズル511に対応して配設されている。キャビティー521は、後述する弾性膜550の振動によってそれぞれ容積可変になっている。キャビティー521は、この容積変化によってインクを吐出するよう構成されている。
インク室基板520のノズルプレート510と反対の側には弾性膜550が配設されている。さらに弾性膜550のインク室基板520と反対の側には複数の圧電部540が設けられている。弾性膜550の所定位置には、図17に示すように、弾性膜550の厚さ方向に貫通して連通孔531が形成されている。連通孔531により、後述するインクカートリッジ631からリザーバ523へのインクの供給がなされる。
各圧電部540は、後述する圧電素子駆動回路に電気的に接続され、圧電素子駆動回路の信号に基づいて作動(振動、変形)するよう構成されている。すなわち、各圧電部540はそれぞれ振動源(ヘッドアクチュエーター)として機能する。弾性膜550は、圧電部540の振動(たわみ)によって振動し(たわみ)、キャビティー521の内部圧力を瞬間的に高めるよう機能する。
基体560は、例えば各種樹脂材料、各種金属材料等で形成されている。図22に示すように、この基体560にインク室基板520が固定、支持されている。
本実施の形態にかかるインクジェット式記録ヘッド500によれば、上述したように、圧電部540にクラックが発生しにくいため信頼性が高く、良好な圧電特性を有し、効率的なインクの吐出が可能となっている。したがって、ノズル511の高密度化などが可能となり、高密度印刷や高速印刷が可能となる。さらには、ヘッド全体の小型化を図ることができる。
6.インクジェットプリンター
次に、上述のインクジェット式記録ヘッド500を備えたインクジェットプリンターについて説明する。図23は、本発明のインクジェットプリンター600を、紙等に印刷する一般的なプリンターに適用した場合の一実施形態を示す概略構成図である。なお、以下の説明では、図23中の上側を「上部」、下側を「下部」と言う。
次に、上述のインクジェット式記録ヘッド500を備えたインクジェットプリンターについて説明する。図23は、本発明のインクジェットプリンター600を、紙等に印刷する一般的なプリンターに適用した場合の一実施形態を示す概略構成図である。なお、以下の説明では、図23中の上側を「上部」、下側を「下部」と言う。
インクジェットプリンター600は、装置本体620を備えており、上部後方に記録用紙Pを設置するトレイ621を有し、下部前方に記録用紙Pを排出する排出口622を有し、上部面に操作パネル670を有する。
装置本体620の内部には、主に、往復動するヘッドユニット630を備えた印刷装置640と、記録用紙Pを1枚ずつ印刷装置640に送り込む給紙装置650と、印刷装置640および給紙装置650を制御する制御部660とが設けられている。
印刷装置640は、ヘッドユニット630と、ヘッドユニット630の駆動源となるキャリッジモータ641と、キャリッジモータ641の回転を受けて、ヘッドユニット630を往復動させる往復動機構642とを備えている。
ヘッドユニット630は、その下部に、上述の多数のノズル511を備えるインクジェット式記録ヘッド500と、このインクジェット式記録ヘッド500にインクを供給するインクカートリッジ631と、インクジェット式記録ヘッド500およびインクカートリッジ631を搭載したキャリッジ632とを有する。
往復動機構642は、その両端がフレーム(図示せず)に支持されたキャリッジガイド軸643と、キャリッジガイド軸643と平行に延在するタイミングベルト644とを有する。キャリッジ632は、キャリッジガイド軸643に往復動自在に支持されるとともに、タイミングベルト644の一部に固定されている。キャリッジモータ641の作動により、プーリを介してタイミングベルト644を正逆走行させると、キャリッジガイド軸643に案内されて、ヘッドユニット630が往復動する。この往復動の際に、インクジェット式記録ヘッド500から適宜インクが吐出され、記録用紙Pへの印刷が行われる。
給紙装置650は、その駆動源となる給紙モータ651と、給紙モータ651の作動により回転する給紙ローラ652とを有する。給紙ローラ652は、記録用紙Pの送り経路(記録用紙P)を挟んで上下に対向する従動ローラ652aと、駆動ローラ652bとで構成されており、駆動ローラ652bは、給紙モータ651に連結されている。
本実施の形態にかかるインクジェットプリンター600によれば、信頼性が高く高性能でノズルの高密度化が可能なインクジェット式記録ヘッド500を備えているので、高密度印刷や高速印刷が可能となる。
なお、本発明のインクジェットプリンター600は、工業的に用いられる液滴吐出装置として用いることもできる。その場合に、吐出するインク(液状材料)としては、各種の機能性材料を溶媒や分散媒によって適当な粘度に調整して使用することができる。
7.上記のように、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できよう。従って、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれるものとする。
また、上述した実施形態に係る圧電素子は、アクチュエータ、インクジェット式記録ヘッド、インクジェットプリンターの他に、たとえばジャイロセンサ等のジャイロ素子、FBAR(film bulk acoustic resonator)型やSMR(solid mounted resonator)型等のBAW(bulk acoustic wave)フィルタ、超音波モータなどに適用されることができる。本発明の実施形態に係る圧電素子は、上述したように良好な圧電特性を有し、信頼性が高いため、各種の用途に好適に適用できる。
10 基板、12 シリコン層、14 酸化物層、20 弾性体層、30 下部電極層、32 下部電極層、42 圧電体層、42a PZT前駆体層、43 凸部、44 圧電体層、44a PZT前駆体層、45 空孔、46 圧電体層、48 圧電体層、50 上部電極層、52 上部電極層、54 保護膜、60 キャパシタ構造部、62 キャパシタ構造部、100 圧電素子、144 第1の圧電体層、146 第2の圧電体層、148 圧電体層、200 圧電素子、244 第1の圧電体層、245 空孔、246 第2の圧電体層、300 圧電素子、345 空孔、345a 固体高分子、348 圧電体層、348a PZT前駆体層、400 圧電素子、445 空孔、448 圧電体層、450 圧電素子、500 インクジェット式記録ヘッド、510 ノズル板、511 ノズル、520 インク室基板、521 キャビティー、522 側壁、523 リザーバ、524 供給口、531 連通孔、540 圧電アクチュエータ、542 ヘッド本体、550 弾性板、560 基体、600 インクジェットプリンター、620 装置本体、621 トレイ、622 排出口、630 ヘッドユニット、631 インクカートリッジ、632 キャリッジ、640 印刷装置、641 キャリッジモータ、642 往復動機構、643 キャリッジガイド軸、644 タイミングベルト、650 給紙装置、651 給紙モータ、652 給紙ローラ、660 制御部、670 操作パネル
Claims (12)
- (a)基体の上方に有機膜を形成する工程と、
(b)前記有機膜の上に金属膜を形成する工程と、
(c)前記基体を加熱することにより、前記有機膜を分解するとともに前記金属膜の結晶配向をかえる工程と、
を含む、金属膜の製造方法。 - 請求項1において、
前記工程(b)では、スパッタリングにより金属膜を形成する、金属膜の製造方法。 - 請求項1または2において、
前記工程(b)は、前記工程(c)と同時に行う、金属膜の製造方法。 - 請求項1ないし3のいずれかにおいて、
前記工程(c)の後に、
前記金属膜の上にさらに金属を堆積する、金属膜の製造方法。 - 請求項1ないし4のいずれかにおいて、
前記工程(b)において形成される金属膜は、(111)配向の結晶構造を有し、
前記工程(c)において、前記金属膜は、少なくとも一部の領域において(100)配向の結晶構造にかわる、金属膜の製造方法。 - 請求項5において、
前記金属膜は、白金またはイリジウムまたはルテニウムまたはロジウムまたはパラジウムまたはオスミウムまたはこれらの合金からなる、金属膜の製造方法。 - 請求項1ないし6のいずれかにおいて、
前記工程(b)において形成される金属膜の膜厚は、50nm以下である、金属膜の製造方法。 - 請求項1ないし7のいずれかにおいて、
前記工程(a)では、前記基体の上方における一部の領域に有機膜を形成し、
前記工程(b)では、前記一部の領域の上および他の領域の上に金属膜を形成し、
前記工程(c)では、前記一部の領域に形成された金属膜の結晶配向をかえる、金属膜の製造方法。 - (a)基体の上方に有機膜を形成する工程と、
(b)前記有機膜の上に金属膜を形成する工程と、
(c)前記基体を加熱することにより、前記有機膜を分解するとともに前記金属膜の結晶配向をかえる工程と、
(d)前記金属膜の上方に圧電体膜を形成する工程と、
を含む、圧電素子の製造方法。 - 請求項9において、
前記工程(a)では、前記基体の上方における一部の領域に有機膜を形成し、
前記工程(b)では、前記一部の領域の上および他の領域の上に金属膜を形成し、
前記工程(c)では、前記一部の領域に形成された金属膜の結晶配向をかえて、
前記工程(d)では、前記一部の領域内に前記圧電体膜を形成する、圧電素子の製造方法。 - 請求項9または10に記載の製造方法により製造された圧電素子を含む、インクジェット式記録ヘッド。
- 請求項11に記載のインクジェット式記録ヘッドを含む、インクジェットプリンター。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007074548A JP2008235654A (ja) | 2007-03-22 | 2007-03-22 | 金属膜の製造方法、圧電素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンター |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007074548A JP2008235654A (ja) | 2007-03-22 | 2007-03-22 | 金属膜の製造方法、圧電素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンター |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008235654A true JP2008235654A (ja) | 2008-10-02 |
Family
ID=39908086
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007074548A Withdrawn JP2008235654A (ja) | 2007-03-22 | 2007-03-22 | 金属膜の製造方法、圧電素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンター |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008235654A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8801146B2 (en) | 2012-06-19 | 2014-08-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Inkjet print head and method for manufacturing the same |
-
2007
- 2007-03-22 JP JP2007074548A patent/JP2008235654A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8801146B2 (en) | 2012-06-19 | 2014-08-12 | Samsung Display Co., Ltd. | Inkjet print head and method for manufacturing the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4844750B2 (ja) | 圧電素子、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンター | |
JP4761071B2 (ja) | 圧電素子、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンター | |
JP2017112281A (ja) | 電気‐機械変換素子、液体吐出ヘッド、液体吐出装置、電気‐機械変換膜の製造方法、及び液体吐出ヘッドの製造方法 | |
JP2012256756A (ja) | 電気−機械変換膜の形成方法、電気−機械変換膜、電気−機械変換素子、液体吐出ヘッドおよび画像形成装置 | |
JP7363067B2 (ja) | 圧電体薄膜素子、液体吐出ヘッド、ヘッドモジュール、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置及び圧電体薄膜素子の製造方法 | |
JP2004042329A (ja) | 液体吐出ヘッド | |
JP2016062984A (ja) | 圧電アクチュエータ及びその製造方法及び液体カートリッジ及び画像形成装置 | |
JP2017205955A (ja) | 吐出駆動装置、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置 | |
JP2017094615A (ja) | 液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット及び液体を吐出する装置 | |
JP2010105164A (ja) | 液体噴射ヘッド、液体吐出方法、メンテナンス方法、およびプリンタ | |
JP6390177B2 (ja) | 電気−機械変換膜の製造方法 | |
JP5196106B2 (ja) | 圧電素子の製造方法 | |
JP2008235654A (ja) | 金属膜の製造方法、圧電素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッド、およびインクジェットプリンター | |
US7992973B2 (en) | Liquid ejecting head, liquid ejecting apparatus, and piezoelectric element | |
JP6287188B2 (ja) | 圧電アクチュエータ、圧電アクチュエータの製造方法、液滴吐出ヘッド、液体カートリッジ、及び画像形装置 | |
JP2005302933A (ja) | 圧電素子、圧電アクチュエーター、インクジェット式記録ヘッド、インクジェットプリンター、表面弾性波素子、周波数フィルタ、発振器、電子回路、薄膜圧電共振器、及び電子機器 | |
JP5196104B2 (ja) | 圧電素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッドの製造方法、およびインクジェットプリンターの製造方法 | |
JP2011151285A (ja) | 圧電素子の製造方法および液滴吐出装置の製造方法 | |
JP5853355B2 (ja) | 電機−機械変換膜の製造方法 | |
JP2021045920A (ja) | 電気−機械変換素子、液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット、液体を吐出する装置及び電気−機械変換素子の製造方法 | |
JP2008187000A (ja) | 圧電素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッドの製造方法、およびインクジェットプリンターの製造方法 | |
JP2008218715A (ja) | 圧電素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッドの製造方法、およびインクジェットプリンターの製造方法 | |
JP2011124405A (ja) | アクチュエーター装置の製造方法、液体噴射ヘッドの製造方法および液体噴射装置の製造方法 | |
JP2013065698A (ja) | 電気−機械変換素子、液滴吐出ヘッド、液滴吐出装置及び画像形成装置 | |
JP5741102B2 (ja) | 電気機械変換素子の製造方法、電気機械変換素子、液滴吐出ヘッド、及び液滴吐出装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080702 |
|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20100601 |