JP2008218715A - 圧電素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッドの製造方法、およびインクジェットプリンターの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】残留応力を緩和してクラックの発生を抑制することのできる圧電素子を提供する。
【解決手段】本発明にかかる圧電素子の製造方法は、圧電材料溶液に複数の固体高分子を混合して、固体高分子含有圧電材料溶液を調製する工程と、基体10の上方に第1電極30を形成する工程と、第1電極の上方に、前記固体高分子含有圧電材料溶液を塗布して前駆体層を形成する工程と、前駆体層の加熱処理を行うことにより、前記前駆体層を結晶化するとともに、前記固体高分子を分解させて圧電体層40を形成する工程と、を含む。
【選択図】図4
【解決手段】本発明にかかる圧電素子の製造方法は、圧電材料溶液に複数の固体高分子を混合して、固体高分子含有圧電材料溶液を調製する工程と、基体10の上方に第1電極30を形成する工程と、第1電極の上方に、前記固体高分子含有圧電材料溶液を塗布して前駆体層を形成する工程と、前駆体層の加熱処理を行うことにより、前記前駆体層を結晶化するとともに、前記固体高分子を分解させて圧電体層40を形成する工程と、を含む。
【選択図】図4
Description
本発明は、圧電素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッドの製造方法、およびインクジェットプリンターの製造方法に関する。
液体噴射ヘッド等に用いられる圧電素子は、圧電体層を有する。この圧電体層の形成方法としては、液相法が挙げられる。液相法は、圧電材料溶液を基体上に塗布した後にアニールを行うことにより圧電体層を得るものであり、CVD法やスパッタ法で使用するような真空装置を使わないため、コスト面および環境面において有利なだけでなく、得られる圧電体層の特性も非常に良好である。しかしながら、液相法では、アニール工程において大きな残留応力が生じ、これがクラックの発生につながってしまうという問題があった。たとえば特許文献1では、多数回コートした圧電体材料を一括してアニールしているが、この方法では、一度に大きな残留応力が導入されてしまうため、クラックが発生しやすくなってしまうという問題がある。
特開平10−139594号公報
本発明の目的は、残留応力を緩和してクラックの発生を抑制することのできる圧電素子の製造方法、インクジェット式記録ヘッドの製造方法、およびインクジェットプリンターの製造方法を提供することにある。
本発明にかかる圧電素子の製造方法は、
(a)圧電材料溶液に複数の固体高分子を混合して、固体高分子含有圧電材料溶液を調製する工程と、
(b)基体の上方に第1電極を形成する工程と、
(c)前記第1電極の上方に、前記固体高分子含有圧電材料溶液を塗布して前駆体層を形成する工程と、
(d)前記前駆体層の乾燥、脱脂、結晶化アニールからなる加熱処理を行うことにより、前記前駆体層を結晶化するとともに、前記固体高分子を分解する工程と、
を含む。
(a)圧電材料溶液に複数の固体高分子を混合して、固体高分子含有圧電材料溶液を調製する工程と、
(b)基体の上方に第1電極を形成する工程と、
(c)前記第1電極の上方に、前記固体高分子含有圧電材料溶液を塗布して前駆体層を形成する工程と、
(d)前記前駆体層の乾燥、脱脂、結晶化アニールからなる加熱処理を行うことにより、前記前駆体層を結晶化するとともに、前記固体高分子を分解する工程と、
を含む。
本発明によれば、圧電材料溶液に固体高分子を含有させることにより、空孔を有する圧電体層を形成するため、圧電体層にかかる残留応力を小さくすることが可能となり、クラックを発生し難くすることができる。これにより、信頼性が高く、かつ圧電特性の良好な圧電素子を提供することができる。
なお本発明において、特定のA部材(以下、「A部材」という。)の上方に設けられた特定のB部材(以下、「B部材」という。)というとき、A部材の上に直接B部材が設けられた場合と、A部材の上に他の部材を介してB部材が設けられた場合とを含む意味である。
本発明にかかる圧電素子の製造方法において、
前記工程(c)では、複数の空孔を有する圧電体層が形成されていることができる。
前記工程(c)では、複数の空孔を有する圧電体層が形成されていることができる。
本発明にかかる圧電素子の製造方法において、
前記空孔の径は、100nm以下であることができる。
前記空孔の径は、100nm以下であることができる。
本発明にかかる圧電素子の製造方法において、
前記固体高分子の径は、200nm以下であることができる。
前記固体高分子の径は、200nm以下であることができる。
本発明にかかる圧電素子の製造方法において、
前記固体高分子の径は、100nm以下であることができる。
前記固体高分子の径は、100nm以下であることができる。
本発明にかかる圧電素子の製造方法において、
前記工程(c)と(d)の間に、
前記前駆体層を加熱することにより、乾燥処理および脱脂処理を行う工程をさらに含み、
前記固体高分子の融点は、少なくとも前記乾燥処理の加熱温度より高いことができる。
前記工程(c)と(d)の間に、
前記前駆体層を加熱することにより、乾燥処理および脱脂処理を行う工程をさらに含み、
前記固体高分子の融点は、少なくとも前記乾燥処理の加熱温度より高いことができる。
本発明にかかる圧電素子の製造方法において、
前記固体高分子は、前記圧電材料溶液の溶媒に不溶であることができる。
前記固体高分子は、前記圧電材料溶液の溶媒に不溶であることができる。
本発明にかかる圧電素子の製造方法において、
前記固体高分子は、前記前駆体層において、下方にいくほど単位体積あたりの数が多く含まれていることができる。
前記固体高分子は、前記前駆体層において、下方にいくほど単位体積あたりの数が多く含まれていることができる。
本発明にかかるインクジェット式記録ヘッドは、
上述したいずれかに記載の圧電素子の製造方法を含む。
上述したいずれかに記載の圧電素子の製造方法を含む。
本発明にかかるインクジェットプリンターは、
上述したインクジェット式記録ヘッドの製造方法を含む。
上述したインクジェット式記録ヘッドの製造方法を含む。
以下、本発明の好適な実施形態について、図面を参照しながら説明する。
1.圧電素子の製造方法
本実施の形態にかかる圧電素子100の製造方法について説明する。図1〜図6は、本実施の形態にかかる圧電素子100の製造方法を示す図である。
本実施の形態にかかる圧電素子100の製造方法について説明する。図1〜図6は、本実施の形態にかかる圧電素子100の製造方法を示す図である。
(1)まず、基体の一部としての基板10を準備する(図1参照)。基板10は、たとえばシリコン層12および酸化物層14を有する。酸化物層14は、シリコン層12の上部に酸化処理を施すことによって設けられた酸化シリコンであってもよいし、シリコン層12の上面に公知の方法によって新たに設けられた酸化シリコンその他の酸化物であってもよい。酸化物層14は、熱酸化処理などによって設けることができる。あるいは、基板10の上部に酸化物層14を別途設ける場合は、蒸着、スパッタ等の公知の方法によることができる。
(2)次に、基板10上に弾性体層20を形成する(図1参照)。弾性体層20は、スパッタ法、真空蒸着、Chemical Vapor Deposition法(CVD法)などの公知の方法で形成することができる。弾性体層20の材質としては、たとえば、酸化ジルコニウム、窒化シリコン、酸化シリコンまたは、酸化アルミニウムなどが好適である。基板10の上面に酸化物層14を設けている場合、弾性体層20の材質は、酸化物層14の材質と同じ材質でも、異なる材質でもよい。たとえば、弾性体層20は、材質を酸化ジルコニウムとし、スパッタ法により、たとえば500nmの厚みに形成することができる。
(3)次に、弾性体層20上に、下部電極層30(第1電極)を形成する(図1参照)。下部電極層30の形成は、スパッタ法、真空蒸着、CVD法などの公知の方法でおこなうことができる。下部電極層30の材質は、ニッケル、イリジウム、白金などの各種の金属、それらの導電性酸化物(たとえば酸化イリジウムなど)、SrRuO3やLaNiO3といった複合酸化物など、を用いることができる。また、下部電極層30は、前記例示した材料の単層でもよいし、複数の材料を積層した構造であってもよい。たとえば、下部電極層30は、材質を白金とし、スパッタ法により、たとえば100nmの厚みに形成することができる。
(4)次に、下部電極層30上に、圧電体層40を形成する(図3参照)。圧電体層40は、ゾル−ゲル法、有機金属熱塗布分解法(MOD法)等の液相法を用いて形成される。圧電体層40の材質は、好ましくは、鉛、ジルコニウム、チタンを構成元素として含む酸化物とすることができる。すなわち、チタン酸ジルコン酸鉛(以下、PZTという)は、圧電性能が良好なため、圧電体層40の材質として好適である。具体的には、以下のように圧電体層40を形成する。
まず、チタン酸ジルコン酸鉛の圧電材料溶液の調製方法について、ゾル−ゲル法を適用する場合を例にとって説明する。まず、Pb、Zr、およびTiの有機金属化合物を準備し、溶媒に混合する。溶媒としては、たとえばエタノール、1-ブタノール、2-n-ブトキシエタノール等のアルコールを適用することができる。その後、水をさらに加えて加水分解し、縮重合を起こさせて前駆体溶液(圧電材料溶液)を作製する。
次いで、前駆体溶液に複数の固体高分子を混合して固体高分子含有圧電材料溶液を作製する。固体高分子は、前駆体溶液の主溶媒に不溶または溶解度の低いものであることが好ましい。即ち、前駆体溶液中において、固体高分子が安定に分散できることが好ましい。また固体高分子の形状は、特に限定されず、たとえば略球状、略直方体等であることができ、その径(最長の軸長さ)は、200nm以下であることが好ましく、100nm以下であることがより好ましい。また固体高分子の融点は、後述する乾燥処理および脱脂工程の温度より高いことが好ましい。言い換えれば、固体高分子の融点は、前駆体溶液の溶媒の沸点より高いことが好ましく、たとえば250℃以上であることができる。固体高分子の材質としては、たとえば耐熱樹脂であることができ、少なくとも後述する乾燥処理の温度より高い融点を有し、結晶化アニールの温度で分解(ガス化)するものが好ましい。
具体的には、ふっ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、およびポリイミド樹脂等を用いることができる。
具体的には、ふっ素樹脂、ポリカーボネート樹脂、およびポリイミド樹脂等を用いることができる。
次に、作製した固体高分子圧電材料溶液を、下部電極層30の上方全面にスピンコート、ディップコート、インクジェット法等により塗布する。
次に、熱処理(乾燥工程、脱脂工程)を行う。乾燥工程は溶媒の除去を目的としており、例えば、アルコール系溶媒を用いている場合には100〜200℃程度で行う。また、乾燥工程の時間は、例えば、10分程度である。脱脂工程では、乾燥工程後のPZT前駆体層42a中に残存する有機成分をNO2、CO2、H2O等に熱分解して離脱させることができる。脱脂工程の温度は、例えば300〜400℃程度である。塗布膜が所望の膜厚になるまで、塗布工程と熱処理(乾燥工程、脱脂工程)とを繰り返し行い、PZT前駆体層40aを形成する(図2A参照)。PZT前駆体層40aは、複数の固体高分子42aを有する。なお、乾燥工程および脱脂工程の段階で固体高分子42aが分解されてもよい。この場合には、図2Bに示すように、PZT前駆体層40aは、複数の空孔42bを有する。
次いで、PZT前駆体層40aを結晶化するための結晶化アニール(焼成工程)を行う。結晶化アニールでは、PZT前駆体層40aを加熱することによって結晶化させることができるとともに、固体高分子42aを分解する。
なお、PZT前駆体層40bについて、結晶化アニールを行った場合でも、固体高分子42aを有するPZT前駆体層40aを結晶化アニールさせた場合と同等の空孔を持つ圧電体層40を得ることが出来る。
結晶化アニールの温度は、例えば、600℃〜700℃である。結晶化アニールの時間は、例えば、30分程度である。結晶化アニールに用いる装置としては、特に限定されないが、拡散炉やRTA(Rapid Thermal Annealing)装置などを用いることができる。以上の工程により、複数の空孔42を有する圧電体層40を形成することができる。圧電体層40は、たとえば400nmの厚みに形成することができる。
(5)次に圧電体層40上に、上部電極層50(第2電極)を形成する。上部電極層50の形成は、スパッタ法、真空蒸着、CVD法などの公知の方法でおこなうことができる。上部電極層50の材質は、ニッケル、イリジウム、白金などの各種の金属、それらの導電性酸化物(たとえば酸化イリジウムなど)、SrRuO3やLaNiO3といった複合酸化物など、を用いることができる。また、上部電極層50は、前記例示した材料の単層でもよいし、複数の材料を積層した構造であってもよい。たとえば、上部電極層50は、材質を白金とし、スパッタ法により、たとえば100nmの厚みに形成することができる。このようにして、下部電極層30、圧電体層48、および上部電極層50からなるキャパシタ構造部60を形成することができる。
以上の工程により、本実施の形態にかかる圧電素子100を形成することができる。本実施の形態にかかる圧電素子100の形成方法では、前駆体溶液に固体高分子を混合している。これにより、PZT前駆体層40aを結晶化アニールするときに、固体高分子42aが分解(ガス化)するため、あるいは脱脂するときに固体高分子が分解(ガス化)することでPZT前駆体層40bに空孔42bが形成されているため、圧電体層40中に空孔42を設けることができる。これにより、圧電体層40中に空孔42を形成することができ、残留応力を緩和し、クラックの発生を抑制することができる。
さらに、本実施の形態では、空孔42を設けるために成形物である固体高分子42aを用いていることから、固体高分子42aの大きさおよび数を適宜調製することにより、適切な大きさおよび数の空孔42を設けることが容易である。したがって、圧電体層40の材料や膜厚、下部電極層30の材料や膜厚等に応じて、空孔42の大きさおよび数を容易に変えることができる。
また、本実施の形態では、空孔42の径は、100nm以下であることが好ましい。空孔のサイズが100nmより大きいと、圧電体層40を構成する結晶の柱状構造が広い範囲で分断されてしまい、圧電特性が低下してしまうことがあるからである。即ち空孔42の径を100nm以下にすることにより、圧電体層48を構成する結晶の柱状構造が分断されることを防止し、圧電素子100の圧電特性および強度を良好に保つことができる。
また固体高分子は、上述したように、前駆体溶液の溶媒に不溶または溶解度の低いものであることが好ましく、さらに乾燥工程および脱脂工程の温度より高い融点を有することが好ましい。これにより、固体高分子の形状を結晶化アニール時に分解(ガス化)するまで保持することができ、空孔の形状の調製を容易にすることができる。さらに、固体高分子が圧電材料溶液と混ざり合わないので、固体高分子自身が圧電体層40の特性に影響を与えるのを防止することができる。なお、仮に圧電材料溶液に溶ける高分子を使用した場合は、その後の乾燥、脱脂、および結晶化アニールがスムーズに進行しなくなるため、得られる圧電体層の圧電特性は著しく劣化してしまう。
本実施形態にかかる圧電素子については、以上であるが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能である。たとえば、下部電極側(下方)にいくほど単位体積あたりの空孔の数を多く設けてもよい。このように圧電体層40の中で空孔の数を偏在させるためには、固体高分子42aを下方にいくほど密に配置されるようにする。そのためには、様々な方法が可能であるが、たとえば、固体高分子42aが、圧電材料溶液より高い密度のものを選択することによって実現される。もしくは、最初に固体高分子42aを含む固体高分子含有溶液を用いて圧電体層を形成したのちに、固体高分子42aを含まない圧電材料溶液を用いて圧電体層を形成してもよい。
2.実験例
本実験例では、上述した圧電素子100の製造方法を用いて圧電アクチュエータ300を形成し、それぞれをパルス駆動させてクラックの発生状況を観察した。
本実験例では、上述した圧電素子100の製造方法を用いて圧電アクチュエータ300を形成し、それぞれをパルス駆動させてクラックの発生状況を観察した。
2.1.第1の実験例
第1の実験例では、上述した本実施の形態にかかる圧電素子の製造方法を用いて、圧電素子を適用した圧電アクチュエータ300を形成した。
第1の実験例では、上述した本実施の形態にかかる圧電素子の製造方法を用いて、圧電素子を適用した圧電アクチュエータ300を形成した。
圧電アクチュエータ300は、基板10と、基板10に設けられた圧力発生室16と、基板10の上方に設けられた弾性体層20と、弾性体層20の上方に設けられたキャパシタ構造部62であって、下部電極層32と、圧電体層43と、上部電極層52とを有するキャパシタ構造部62とを含む。
基板10は、本実施形態の圧電アクチュエータ300の支持体となる機能を有する。基板10の下方には、圧力発生室16と、圧力発生室16の下方に設けられたノズルプレート18とが設けられている。
圧電アクチュエータ300の製造工程は、以下の通りである。
まず、シリコン基板12を準備し、その上面を酸化処理することにより厚み約1.0μmの酸化シリコン14を形成した。次いでスパッタ法により、厚み約500nmの酸化ジルコニウムからなる弾性体層20と、その上に厚み100nmの白金からなる下部電極層32を形成した。
次いで高分子ビーズを分散させたPZT溶液をスピンコート法により下部電極層32上に塗布し、乾燥、脱脂、焼成を行い結晶化した。焼成工程では、RTAにより5分間行った。結晶化後の膜厚は200nmであり、塗布、乾燥、脱脂、焼成の工程を5回繰り返し、膜厚1μmのPZT層43を得た。ここで得られたPZT層43には、高分子ビーズが分解して分解(ガス化)したことにより、空孔が形成されていることを、SEM画像により確認した。
その後、厚み100nmの白金からなる上部電極層52を形成し、パターニングを行い、酸化アルミニウムからなる保護膜54および配線(図示せず)を形成した。さらにシリコン基板12を下方からエッチングすることで圧力発生室16を形成し、ノズルプレート18を設けた。
得られた圧電アクチュエータ300をパルス駆動させたところ、100億パルス駆動させてもクラックが発生しなかった。
2.2.第2の実験例(比較例)
第2の実験例では、以下のように圧電アクチュエータを形成した。圧電アクチュエータの構成は、空孔が形成されていない点で異なるが、それ以外については、上述した第1の実験例の圧電アクチュエータ300と同様の構成である。
第2の実験例では、以下のように圧電アクチュエータを形成した。圧電アクチュエータの構成は、空孔が形成されていない点で異なるが、それ以外については、上述した第1の実験例の圧電アクチュエータ300と同様の構成である。
圧電アクチュエータの製造工程は、以下の通りである。
圧電アクチュエータ300の製造工程は、以下の通りである。
まず、シリコン基板12を準備し、その上面を酸化処理することにより厚み約1.0μmの酸化シリコン14を形成した。次いでスパッタ法により、厚み約500nmの酸化ジルコニウムからなる弾性体層20と、その上に厚み100nmの白金からなる下部電極層32を形成した。
次いでPZT溶液をスピンコート法により下部電極層32上に塗布し、乾燥、脱脂、焼成を行い結晶化した。焼成工程では、RTAにより5分間行った。結晶化後の膜厚は200nmであり、塗布、乾燥、脱脂、焼成の工程を5回繰り返し、膜厚1μmのPZT層43を得た。ここで得られたPZT層43には、ほとんど空孔が形成されていないことを、SEM画像により確認した。
その後、厚み100nmの白金からなる上部電極層52を形成し、パターニングを行い、酸化アルミニウムからなる保護膜54および配線(図示せず)を形成した。さらにシリコン基板12を下方からエッチングすることで圧力発生室16を形成し、ノズルプレート18を設けた。
得られた圧電アクチュエータ300をパルス駆動させたところ、10億パルスでクラックが発生した。
3.インクジェット式記録ヘッド
次に、図4に示した圧電素子100を用いたインクジェット式記録ヘッドについて説明する。図6は、図4に示した圧電素子100を用いたインクジェット式記録ヘッドの概略構成を示す側断面図であり、図7は、このインクジェット式記録ヘッドの分解斜視図である。なお、図7は、通常使用される状態とは上下逆に示したものである。
次に、図4に示した圧電素子100を用いたインクジェット式記録ヘッドについて説明する。図6は、図4に示した圧電素子100を用いたインクジェット式記録ヘッドの概略構成を示す側断面図であり、図7は、このインクジェット式記録ヘッドの分解斜視図である。なお、図7は、通常使用される状態とは上下逆に示したものである。
インクジェット式記録ヘッド(以下、「ヘッド」ともいう)500は、図6に示すように、ヘッド本体542と、ヘッド本体542の上に設けられた圧電部540と、を備える。なお、図6に示した圧電部540は、図4に示した圧電素子100における下部電極層30、圧電体層40、および上部電極層50に相当する。本実施の形態にかかるインクジェット式記録ヘッドおいて、圧電素子100は、圧電アクチュエータとして機能することができる。圧電アクチュエータとは、ある物質を動かす機能を有する素子、即ち電圧を印加することにより機械的ひずみを発生させる素子である。
また、図4に示した圧電素子100における酸化物層14および弾性体層20は、図6において弾性膜550に相当する。また、基板10(図6参照)は後述するようにヘッド本体542の要部を構成するものとなっている。
すなわち、ヘッド500は、図7に示すようにノズル板510と、インク室基板520と、弾性膜550と、弾性膜550に接合された圧電部(振動源)540とを備え、これらが基体560に収納されて構成されている。なお、このヘッド500は、オンデマンド形のピエゾジェット式ヘッドを構成している。
ノズル板510は、例えばステンレス製の圧延プレート等で構成されたもので、インク滴を吐出するための多数のノズル511を一列に形成したものである。これらノズル511間のピッチは、印刷精度に応じて適宜に設定されている。
ノズル板510には、インク室基板520が固着(固定)されている。インク室基板520は、上述の基板12によって形成されたものである。インク室基板520は、ノズル板510、側壁(隔壁)522、および後述する弾性膜550によって、複数のキャビティー(インクキャビティー)521と、リザーバ523と、供給口524と、を区画形成したものである。リザーバ523は、インクカートリッジ631(図8参照)から供給されるインクを一時的に貯留する。供給口524によって、リザーバ523から各キャビティー521にインクが供給される。
キャビティー521は、図6および図7に示すように、各ノズル511に対応して配設されている。キャビティー521は、後述する弾性膜550の振動によってそれぞれ容積可変になっている。キャビティー521は、この容積変化によってインクを吐出するよう構成されている。
インク室基板520のノズル板510と反対の側には弾性膜550が配設されている。さらに弾性膜550のインク室基板520と反対の側には複数の圧電部540が設けられている。弾性膜550の所定位置には、図7に示すように、弾性膜550の厚さ方向に貫通して連通孔531が形成されている。連通孔531により、後述するインクカートリッジ631からリザーバ523へのインクの供給がなされる。
各圧電部540は、後述する圧電素子駆動回路に電気的に接続され、圧電素子駆動回路の信号に基づいて作動(振動、変形)するよう構成されている。すなわち、各圧電部540はそれぞれ振動源(ヘッドアクチュエーター)として機能する。弾性膜550は、圧電部540の振動(たわみ)によって振動し(たわみ)、キャビティー521の内部圧力を瞬間的に高めるよう機能する。
基体560は、例えば各種樹脂材料、各種金属材料等で形成されている。図7に示すように、この基体560にインク室基板520が固定、支持されている。
本実施の形態にかかるインクジェット式記録ヘッド500によれば、上述したように、圧電部540にクラックが発生しにくいため信頼性が高く、かつ良好な圧電特性を有するため、効率的なインクの吐出が可能となっている。したがって、ノズル511の高密度化などが可能となり、高密度印刷や高速印刷が可能となる。さらには、ヘッド全体の小型化を図ることができる。
4.インクジェットプリンター
次に、上述のインクジェット式記録ヘッド500を備えたインクジェットプリンターについて説明する。図8は、本発明のインクジェットプリンター600を、紙等に印刷する一般的なプリンターに適用した場合の一実施形態を示す概略構成図である。なお、以下の説明では、図8中の上側を「上部」、下側を「下部」と言う。
次に、上述のインクジェット式記録ヘッド500を備えたインクジェットプリンターについて説明する。図8は、本発明のインクジェットプリンター600を、紙等に印刷する一般的なプリンターに適用した場合の一実施形態を示す概略構成図である。なお、以下の説明では、図8中の上側を「上部」、下側を「下部」と言う。
インクジェットプリンター600は、装置本体620を備えており、上部後方に記録用紙Pを設置するトレイ621を有し、下部前方に記録用紙Pを排出する排出口622を有し、上部面に操作パネル670を有する。
装置本体620の内部には、主に、往復動するヘッドユニット630を備えた印刷装置640と、記録用紙Pを1枚ずつ印刷装置640に送り込む給紙装置650と、印刷装置640および給紙装置650を制御する制御部660とが設けられている。
印刷装置640は、ヘッドユニット630と、ヘッドユニット630の駆動源となるキャリッジモータ641と、キャリッジモータ641の回転を受けて、ヘッドユニット630を往復動させる往復動機構642とを備えている。
ヘッドユニット630は、その下部に、上述の多数のノズル511を備えるインクジェット式記録ヘッド500と、このインクジェット式記録ヘッド500にインクを供給するインクカートリッジ631と、インクジェット式記録ヘッド500およびインクカートリッジ631を搭載したキャリッジ632とを有する。
往復動機構642は、その両端がフレーム(図示せず)に支持されたキャリッジガイド軸643と、キャリッジガイド軸643と平行に延在するタイミングベルト644とを有する。キャリッジ632は、キャリッジガイド軸643に往復動自在に支持されるとともに、タイミングベルト644の一部に固定されている。キャリッジモータ641の作動により、プーリを介してタイミングベルト644を正逆走行させると、キャリッジガイド軸643に案内されて、ヘッドユニット630が往復動する。この往復動の際に、インクジェット式記録ヘッド500から適宜インクが吐出され、記録用紙Pへの印刷が行われる。
給紙装置650は、その駆動源となる給紙モータ651と、給紙モータ651の作動により回転する給紙ローラ652とを有する。給紙ローラ652は、記録用紙Pの送り経路(記録用紙P)を挟んで上下に対向する従動ローラ652aと、駆動ローラ652bとで構成されており、駆動ローラ652bは、給紙モータ651に連結されている。
本実施の形態にかかるインクジェットプリンター600によれば、信頼性が高く高性能でノズルの高密度化が可能なインクジェット式記録ヘッド500を備えているので、高密度印刷や高速印刷が可能となる。
なお、本発明のインクジェットプリンター600は、工業的に用いられる液滴吐出装置として用いることもできる。その場合に、吐出するインク(液状材料)としては、各種の機能性材料を溶媒や分散媒によって適当な粘度に調整して使用することができる。
5.上記のように、本発明の実施形態について詳細に説明したが、本発明の新規事項および効果から実体的に逸脱しない多くの変形が可能であることは当業者には容易に理解できよう。従って、このような変形例はすべて本発明の範囲に含まれるものとする。
また、上述した実施形態に係る圧電素子は、アクチュエータ、インクジェット式記録ヘッド、インクジェットプリンタの他に、たとえばジャイロセンサ等のジャイロ素子、FBAR(film bulk acoustic resonator)型やSMR(solid mounted resonator)型等のBAW(bulk acoustic wave)フィルタ、超音波モータなどに適用されることができる。本発明の実施形態に係る圧電素子は、上述したように良好な圧電特性を有し、信頼性が高いため、各種の用途に好適に適用できる。
10 基板、12 シリコン層、14 酸化物層、20 弾性体層、30 下部電極層、32 下部電極層、40 圧電体層、40a 前駆体層、42 空孔、42a 固体高分子、50 上部電極層、52 上部電極層、54 保護膜、60 キャパシタ構造部、62 キャパシタ構造部、100 圧電素子、200 圧電素子、300 圧電アクチュエータ、500 インクジェット式記録ヘッド、510 ノズル板、511 ノズル、520 インク室基板、521 キャビティー、522 側壁、523 リザーバ、524 供給口、531 連通孔、540 圧電部、542 ヘッド本体、550 弾性板、560 基体、600 インクジェットプリンター、620 装置本体、621 トレイ、622 排出口、630 ヘッドユニット、631 インクカートリッジ、632 キャリッジ、640 印刷装置、641 キャリッジモータ、642 往復動機構、643 キャリッジガイド軸、644 タイミングベルト、650 給紙装置、651 給紙モータ、652 給紙ローラ、660 制御部、670 操作パネル
Claims (11)
- (a)圧電材料溶液に複数の固体高分子を混合して、固体高分子含有圧電材料溶液を調製する工程と、
(b)基体の上方に第1電極を形成する工程と、
(c)前記第1電極の上方に、前記固体高分子含有圧電材料溶液を塗布して前駆体層を形成する工程と、
(d)前記前駆体層の結晶化アニール乾燥、脱脂および結晶化アニールからなる加熱処理を行うことにより、前記前駆体層を結晶化するとともに、前記固体高分子を分解する工程と、
を含む、圧電素子の製造方法。 - 請求項1において、
前記工程(d)では、複数の空孔を有する圧電体層が形成されている、圧電素子の製造方法。 - 請求項2において、
前記空孔の径は、100nm以下である、圧電素子の製造方法。 - 請求項1ないし3のいずれかにおいて、
前記固体高分子の径は、200nm以下である、圧電素子の製造方法。 - 請求項4のいずれかにおいて、
前記固体高分子の径は、100nm以下である、圧電素子の製造方法。 - 請求項1ないし5のいずれかにおいて、
前記固体高分子の融点は、前記乾燥処理の加熱温度より高い、圧電素子の製造方法。 - 請求項1ないし5のいずれかにおいて、
前記固体高分子の融点は、前記脱脂処理の加熱温度より高い、圧電素子の製造方法。 - 請求項1ないし7のいずれかにおいて、
前記固体高分子は、前記圧電材料溶液の溶媒に不溶である、圧電素子の製造方法。 - 請求項1ないし8のいずれかにおいて、
前記固体高分子は、前記前駆体層において、下方にいくほど単位体積あたりの数が多く含まれている、圧電素子の製造方法。 - 請求項1ないし9のいずれかに記載の圧電素子の製造方法を含む、インクジェット式記録ヘッドの製造方法。
- 請求項10に記載のインクジェット式記録ヘッドの製造方法を含む、インクジェットプリンターの製造方法。
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