JP2008235408A - 差動伝送回路基板の製造方法及び差動伝送回路基板 - Google Patents
差動伝送回路基板の製造方法及び差動伝送回路基板 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 絶縁層1上に形成された導電層2に、機械的加工で間隙4を形成することで、隣り合う2本の配線5,6を形成する。
【選択図】 図1
Description
図1参照
上記課題を解決するために、本発明は、差動伝送回路基板の製造方法であって、絶縁層1上に形成された導電層2に、機械的加工で間隙4を形成することで、隣り合う2本の配線5,6を形成することを特徴とする。
図2参照
まず、例えば、厚さが、例えば、100μmのガラス繊維強化エポキシ樹脂からなるベース樹脂層12の両面に、厚さが、例えば、35μmの銅箔13,14を張りつけたコア材11を用意する。
この場合の溝16の幅は、エンドミル15の外径で規定されるために、100μmの均一な間隔となる。
以降は、レジストパターン17を除去したのち、配線を形成したコア材11の両面に厚さが、例えば、100μmのプリプレグ22,23及び厚さが、例えば、35μmの銅箔24,25を圧着する。
次いで、スルービア26の内側面も覆うように全面に無電解銅メッキ、電解銅メッキからなる導体膜27を形成して、スルービア26を導体被覆したのち、再び、レジストパターン(図示を省略)を用いて銅箔24,25及び導体膜27をエッチングすることによって、所定の配線28及びスルー導体膜29を形成することによって、本発明の実施例1の差動伝送回路基板の基本構成が完成する。
即ち、2本の配線の対向面は、それぞれ平行となるので、2本の配線間隔は場所によらず一定となる。
図5参照
まず、上記の実施例1と同様に、例えば、厚さが、例えば、100μmのガラス繊維強化エポキシ樹脂からなるベース樹脂層12の両面に、厚さが、例えば、35μmの銅箔13,14を張りつけたコア材11を用意する。
この場合の溝16の幅は、エンドミル15の外径で規定されるために、100μmの均一な間隔となる。
図6参照
まず、上記の実施例1と同様に、例えば、厚さが、例えば、100μmのガラス繊維強化エポキシ樹脂からなるベース樹脂層12の両面に、厚さが、例えば、35μmの銅箔13,14を張りつけたコア材11を用意する。
この場合の溝16の幅は、エンドミル15の外径で規定されるために、100μmの均一な間隔となる。
再び、図1参照
(付記1) 差動伝送回路基板の製造方法であって、絶縁層1上に形成された導電層2に、機械的加工で間隙4を形成することで、隣り合う2本の配線5,6を形成することを特徴とする差動伝送回路基板の製造方法。
(付記2) 上記機械的加工は、エンドミル3を用いて行うことを特徴とする付記1記載の差動伝送回路基板の製造方法。
(付記3) 上記2本の配線5,6間の間隙4を、差動伝送回路を構成する配線5,6間以外の配線7間とは異なる絶縁材料で埋め込む工程を有することを特徴とする付記1または2に記載の差動伝送回路基板の製造方法。
(付記4) 上記2本の配線5,6間の間隙4を絶縁材料で埋め込む工程が、上記差動伝送回路を構成する一対の配線5,6のエッチングにより形成する工程の後であることを特徴とする付記3記載の差動伝送回路基板の製造方法。
(付記5) 上記差動伝送回路を構成する2本の配線5,6間に充填された絶縁材料が、SiO2 より低誘電率の有機絶縁材料からなることを特徴とする付記3または4に記載の差動伝送回路基板の製造方法。
(付記6) 上記差動伝送回路上にプリプレグを用いて多層配線構造8を形成する工程を有することを特徴とする付記1乃至5のいずれか1に記載の差動伝送回路基板の製造方法。
(付記7) 絶縁層1と、前記絶縁層1上に形成された隣り合う2本の配線5,6とを有し、前記2本の配線5,6の対向面は、互いに平行に形成されていることを特徴とする差動伝送回路基板。
(付記8) 上記2本の配線5,6間に充填された第2の絶縁層を有することを特徴とする付記7記載の差動伝送回路基板。
(付記9) 上記2本の配線5,6を覆う第3の絶縁層を有することを特徴とする付記7また8に記載の差動伝送回路基板。
2 導電層
3 エンドミル
4 間隙
5 配線
6 配線
7 配線
8 多層配線構造
11 コア材
12 ベース樹脂層
13,14 銅箔
15 エンドミル
16 溝
17 レジストパターン
18,19 差動配線
20,21 配線
22,23 プリプレグ
24,25 銅箔
26 スルービア
27 導体膜
28 配線
29 スルー導体膜
30,31 低誘電率材料
Claims (6)
- 差動伝送回路基板の製造方法であって、絶縁層上に形成された導電層に、機械的加工で間隙を形成することで、隣り合う2本の配線を形成することを特徴とする差動伝送回路基板の製造方法。
- 上記機械的加工は、エンドミルを用いて行うことを特徴とする請求項1記載の差動伝送回路基板の製造方法。
- 上記2本の配線間の間隙を、差動伝送回路を構成する配線間以外の配線間とは異なる絶縁材料で埋め込む工程を有することを特徴とする請求項1または2に記載の差動伝送回路基板の製造方法。
- 上記差動伝送回路を構成する2本の配線間に充填された絶縁材料が、SiO2 より低誘電率の有機絶縁材料からなることを特徴とする請求項3記載の差動伝送回路基板の製造方法。
- 絶縁層と、前記絶縁層上に形成された隣り合う2本の配線とを有し、前記2本の配線の対向面は、互いに平行に形成されていることを特徴とする差動伝送回路基板。
- 上記2本の配線間に充填された第2の絶縁層を有することを特徴とする請求項5記載の差動伝送回路基板。
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JP2007070125A JP2008235408A (ja) | 2007-03-19 | 2007-03-19 | 差動伝送回路基板の製造方法及び差動伝送回路基板 |
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-
2007
- 2007-03-19 JP JP2007070125A patent/JP2008235408A/ja active Pending
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