JP2008225180A - 重合性液晶組成物、光学素子および液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、液晶分子を配向させてなる光学素子に用いる重合性液晶組成物、この組成物を用いた光学素子、およびこの光学素子を用いた液晶表示装置に関する。
液晶表示装置に組み込まれている光学素子としては、重合型の液晶材料からなる光学素子が知られており、液晶表示装置を構成する吸収型円偏光板(λ/4位相差層,λ/2位相差層)や、直線偏光板、各種液晶モードの視角補償層として広く用いられている。
例えば、ECBモードの液晶表示装置においては、液晶分子を傾斜配向させていわゆるハイブリット構造とした光学素子を位相差層として設けることにより、広い視野角が得られることが知られている。このように液晶分子を傾斜配向させた光学素子(位相差層)の製造においては、重合性液晶化合物を、光重合開始剤や界面活性剤と混合した組成物として用い、光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルゲータール類、アシルフォスフィンオキサイド等を用いることが開示されている(下記特許文献1参照)。
また、液晶表示装置においては、上記位相差層を2枚の基板間に液晶層を狭持してなる液晶セルの内側に設けてインセル化することにより、装置の薄型化が図られる。このように位相差層をインセル化した構成の一例として、RGB各色の画素毎に位相差を変化させた位相差層を設ける構成も開示されている(下記特許文献2参照)。
ところで、位相差層をインセル化した構成においては、基板上に形成した位相差層に対しても、その後のプロセスにおいての熱処理が加えられる。このため、位相差層に対してもある程度の耐熱性が要求される。
しかしながら、従来の重合性液晶材料を用いた位相差層の中には、インセル化に対して充分な耐熱性を備えているものはなく、熱処理によって位相差が変化し易く、所期の特性を維持することが困難であった。
本発明では、このような点を鑑みてなされたものであり、耐熱性に優れた光学素子を作製することが可能な重合性液晶組成物を提供すること、さらには耐熱性に優れた光学素子を提供し、これにより光学素子(位相差層)のインセル化を実現可能とした液晶表示装置を提供することを目的とする。
また、本発明は、このような重合性液晶組成物を用いて重合性液晶モノマーを配向させた光学素子である。
これによれば、構造式(1)で示される光重合開始剤を用いたことにより、後の実施例で示すように、重合性液晶モノマーを配向させた光学素子の硬化性が向上することで、耐熱性が向上することが確認された。
さらに本発明は、このような光学素子からなる位相差層が組み込まれた液晶表示装置でもあり、特には、一対の基板間に液晶層を狭持させた液晶セルの内側に、この位相差層を設けたことを特徴としている。
以上説明したように、本発明によれば、重合性液晶モノマーを配向させた光学素子の硬化性を向上させて、耐熱性を向上させることが可能になる。これにより、重合性液晶モノマーを配向させた光学素子を、耐熱性が要求される液晶セル内に位相差層として設けることが可能になる。
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
(第1実施形態)
<重合性液晶組成物>
重合性液晶組成物には、a)重合性液晶モノマー、およびb)光重合開始剤の他に、c)界面活性剤とd)酸化防止剤が含まれる。ここでは、上記重合性液晶モノマーとして、配向膜に対してハイブリッド配向させる重合性液晶モノマーを用いた例について説明する。
<重合性液晶組成物>
重合性液晶組成物には、a)重合性液晶モノマー、およびb)光重合開始剤の他に、c)界面活性剤とd)酸化防止剤が含まれる。ここでは、上記重合性液晶モノマーとして、配向膜に対してハイブリッド配向させる重合性液晶モノマーを用いた例について説明する。
a)重合性液晶モノマー
配向膜に対してハイブリッド配向させる重合性液晶モノマーであり、少なくとも2つの重合性官能基を有している化合物が用いられる。例えば、2つの重合性官能基を有している化合物としては、下記一般式(1)で示される化合物が例示される。
配向膜に対してハイブリッド配向させる重合性液晶モノマーであり、少なくとも2つの重合性官能基を有している化合物が用いられる。例えば、2つの重合性官能基を有している化合物としては、下記一般式(1)で示される化合物が例示される。
ただし、一般式(1)中において、W1およびW2はそれぞれ独立的に単結合、−O−、−COO−または−OCO−を表し、Y1およびY2はそれぞれ独立的に−COO−または−OCO−を表し、p及びqはそれぞれ独立的に2〜18の整数を表し、式中に存在する3種の1,4−フェニレン基の水素原子はそれぞれ独立的に、炭素原子数1〜7のアルキル基、アルコキシ基、アルカノイル基、シアノ基またはハロゲン原子で一つ以上置換されていてもよい。
また、耐熱性を確保する観点から、及び室温で結晶を析出しにくくする観点から、一般式(1)で表される重合性液晶モノマーは、60質量%以上、好ましくは65質量%以上、さらに好ましくは70質量%以上含有させることが好ましい。
さらに、このような一般式(1)で示される重合性液晶モノマーと共に、下記一般式(2)-1〜一般式(2)-5で示されるネマチック液晶からなる重合性液晶モノマーを合わせて用いることにより、重合性液晶モノマーの配向性を向上させてもよい。これらの一般式(2)-1〜一般式(2)-5で示されるネマチック液晶のうちの2つ以上を用いてもよい。
ただし、一般式(2)-1〜一般式(2)-5中のnは、2〜10であることとする。
b)光重合開始剤
上記構造式(1)で示される化合物である。具体的には、チバスペシャリティケミカルズ(株)製のIrgacure OXE02が例示される。
上記構造式(1)で示される化合物である。具体的には、チバスペシャリティケミカルズ(株)製のIrgacure OXE02が例示される。
この光重合開始剤は、必要に応じて他の光重合開始剤を添加してもよい。また、光重合開始剤の添加量は、一般的に0.01〜15wt%、好ましくは0.05〜10wt%、より好ましくは0.1〜5wt%の範囲である。
c)界面活性剤
界面活性剤としては、フッ素系の界面活性剤またはアクリル系の界面活性剤が用いられる。フッ素系の界面活性剤としては、メガファックR−08、R−90、F−483(いずれも大日本インキ化学工業社製商品名)等を用いることができる。また、アクリル系の界面活性剤としてはBYK361(ビックケミー社製商品名)、ポリフロー461(共栄社化学社製商品名)等を用いることができる。これらの界面活性剤は、単独で用いてもよく、複数種類を用いてもよい。
界面活性剤としては、フッ素系の界面活性剤またはアクリル系の界面活性剤が用いられる。フッ素系の界面活性剤としては、メガファックR−08、R−90、F−483(いずれも大日本インキ化学工業社製商品名)等を用いることができる。また、アクリル系の界面活性剤としてはBYK361(ビックケミー社製商品名)、ポリフロー461(共栄社化学社製商品名)等を用いることができる。これらの界面活性剤は、単独で用いてもよく、複数種類を用いてもよい。
界面活性剤の添加量は、液晶の配向を阻害しない範囲で適宜添加することができるが、一般的には液晶材料に対して0.001wt%〜6wt%程度が好ましく、さらに好ましくは、0.01wt%〜4wt%程度が好ましい。
このような界面活性剤は、この重合性液晶組成物を用いた光学素子において、重合性液晶モノマーの空気界面側のチルト角を制御するものであり、面内で傾斜角の均一なチルト角で重合性液晶モノマーをハイブリッド配向させた光学素子を形成することができ、面内のムラが見えなくなることが可能となる。
d)酸化防止剤
酸化防止剤としては、例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤が用いられる。ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば、2,6-ジ-t-ブチル-4-エチルフェノール、2,4-ビス-(n-オクチルチオ)-6-(4-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチルアニリノ)-1,3,5-トリアジン、2,2-チオ-ジエチレンビス{3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート}、N,N'-ヘキサメチレンビス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ-ヒドロシンナミド)、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルフォスフォネート-ジエチルエステル、トリス-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)-イソシアヌレート、2,6-ジ-t-ブチルフェノール、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール、2,6-ジ-t-ブチル-4-メトキシフェノール、トリエチレングリコール-ビス{3-(3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート}、1,6-ヘキサンジオール-ビス{3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート}、ペンタエリスリチル-テト
ラキス{3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート}、オクタデシル-3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート、1,3,5-トリメチル-2,4, 6-トリス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)ベンゼンなどが挙げられ、単独又は2種以上を使用してもよい。
酸化防止剤としては、例えばヒンダードフェノール系酸化防止剤が用いられる。ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば、2,6-ジ-t-ブチル-4-エチルフェノール、2,4-ビス-(n-オクチルチオ)-6-(4-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチルアニリノ)-1,3,5-トリアジン、2,2-チオ-ジエチレンビス{3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート}、N,N'-ヘキサメチレンビス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシ-ヒドロシンナミド)、3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジルフォスフォネート-ジエチルエステル、トリス-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシベンジル)-イソシアヌレート、2,6-ジ-t-ブチルフェノール、2,6-ジ-t-ブチル-p-クレゾール、2,6-ジ-t-ブチル-4-メトキシフェノール、トリエチレングリコール-ビス{3-(3-t-ブチル-5-メチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート}、1,6-ヘキサンジオール-ビス{3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート}、ペンタエリスリチル-テト
ラキス{3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート}、オクタデシル-3-(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)プロピオネート、1,3,5-トリメチル-2,4, 6-トリス(3,5-ジ-t-ブチル-4-ヒドロキシフェニル)ベンゼンなどが挙げられ、単独又は2種以上を使用してもよい。
酸化防止剤の添加量は、液晶の配向を阻害しない範囲で適宜添加することができるが、一般的には液晶材料に対して0.01wt%〜10wt%程度が好ましく、さらに好ましくは、0.11wt%〜5wt%程度が好ましい。
このような酸化防止剤は、上記重合性液晶モノマーまたは光重合開始剤の酸化を防止し、これらの劣化を防止するものである。
尚、上述したc)界面活性剤およびd)酸化防止剤は、重合性液晶組成物に必要に応じて含有されればよく、どちらか一方が含有されていてもよく、どちらも含有されていなくても構わない。
<光学素子>
図1は以上の重合性液晶組成物を用いた光学素子の構成を示す模式図である。この図に示すように、光学素子100aは、表面に配向処理された配向基板200上に設けられる。このような配向基板200としては、例えば配向処理としてラビング処理が施された配向膜によって表面が覆われたガラス基板や、配向能のある基板であればよいこととする。
図1は以上の重合性液晶組成物を用いた光学素子の構成を示す模式図である。この図に示すように、光学素子100aは、表面に配向処理された配向基板200上に設けられる。このような配向基板200としては、例えば配向処理としてラビング処理が施された配向膜によって表面が覆われたガラス基板や、配向能のある基板であればよいこととする。
上記配向膜としては、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルアルコール等が通常使用され、ラビング処理はレーヨン、綿、ポリアミド、ポリメチルメタアクリレート等の素材から選ばれるラビング布を金属ロールに捲きつけ、これをフィルムに接した状態で回転させるか、ロールを固定したままフィルムを搬送することにより、フィルム面をラビングで摩擦する方法が通常採用される。また、偏光紫外線などにより配向能を付与させる光配向膜等も用いることが可能である。
そして、光学素子100aは、配向基板200の配向処理された面上において液晶分子M1を配向させた層として設けられている。このような光学素子100のうち、ハイブリッド配向するものは、配向基板200に近い部分ほど、液晶分子M1の長軸が配向基板200の基板面に対して平行である。一方、配向基板200から上方に離れるにしたがって、液晶分子M1の長軸と配向基板200の基板面とのなす角度(プレチルト角)が大きくなる構成である。
この光学素子100aにおいては、液晶分子M1が、上述した重合性液晶組成物の重合性液晶モノマーからなり、これらの重合性液晶モノマーが上述した配向の状態で3次元に架橋して固定されている。
この光学素子100aには、重合性液晶モノマーの他に、上述した重合性液晶組成物を構成する光重合開始剤、界面活性剤および酸化防止剤が含有されている。
上記光学素子100aは次のような方法により形成される。
先ず、重合性液晶モノマー、光重合開始剤、界面活性剤および酸化防止剤を、上述した所定の割合で溶剤に溶解させた重合性液晶組成物を塗布液として調整する。次に、配向基板上に、所定膜厚で塗布液を塗布した塗膜を形成する。尚、塗膜の形成方法は、各種コーティング方法を適用してよい。
次いで、加熱処理によって、配向基板200上の塗膜を乾燥させるとともに、塗膜中の重合性液晶モノマーを配向させる。これにより、配向方向の異なる基板間に塗布膜を挟み込んで処理することなく、配向させる。
その後、これを室温下に取り出し、例えば紫外線(UV)からなる放射線を照射することにより、重合性液晶モノマーを3次元架橋させる。
この際、窒素(N2)などの不活性ガス雰囲気中において、塗膜への放射線の照射を行うことが好ましい。これにより、酸素阻害を受けることなく耐熱性に優れた光学素子100aを作製することができる。
また、塗膜に照射する放射線としては、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯などの水銀励起光源、およびキセノン光源等を用いることができ、好ましくは、光開始剤の感度の大きい波長帯域に強度のピークを有する光源を選択することが好ましい。
さらに、このような塗膜への放射線の照射は、室温以上、液晶性モノマーの透明点以下の温度で行うこととする。これにより、液晶性(異方性)を損なうことなく、架橋密度が大きく耐熱性の優れた光学素子を作製することができる。尚、透明点とは、液晶相と液相の相転移の温度である。
またその後、熱処理を行うことによって、さらに3次元架橋を進める。これにより、さらに耐熱性の優れた傾斜配向位相差層を得ることができる。この熱処理は、100℃以上、230℃以下で、10分〜120分の間で行なわれることとする。これにより、熱処理による黄変や位相差量の低下等の劣化を防いだ光学素子を得ることができる。
このようにして得られる光学素子100aは、構造式(1)で示される光重合開始剤を用いたことにより、重合性液晶モノマーを配向させた光学素子でありながらも、硬化性が向上することで、後の実施例で示すように、耐熱性が向上することが確認された。
これにより、この光学素子100aに対して加熱処理が加わった場合であっても、その加熱処理の前後において、光学素子100aの特性を変化させることなく安定に保つことが可能である。例えば、正面の位相差および極角方向に傾斜した方向からの位相差を、加熱処理の前後において変化させることなく安定に保つことが可能である。
また、構造式(1)で示される光重合開始剤を用いたことで、上述したように、光学素子100aの硬化性も向上することから、精度よくパターニングすることが可能となる。
<液晶表示装置−1>
図2は、本発明の液晶表示装置の第1実施形態の断面構成図である。この図に示す液晶表示装置1aは、ECBモードで駆動される透過型の液晶表示装置1aであり、液晶分子をハイブリッド配向させた位相差層として上述した光学素子を備えている。このような液晶表示装置1aは、次のように構成されている。
図2は、本発明の液晶表示装置の第1実施形態の断面構成図である。この図に示す液晶表示装置1aは、ECBモードで駆動される透過型の液晶表示装置1aであり、液晶分子をハイブリッド配向させた位相差層として上述した光学素子を備えている。このような液晶表示装置1aは、次のように構成されている。
すなわち液晶表示装置1aは、駆動基板10と、この駆動基板10の素子形成面側に対向配置された対向基板20と、これらの駆動基板10と対向基板20との間に狭持された液晶層LCとを備えている。また駆動基板10の外側面にはλ/4位相差板30が密着状態で設けられ、さらに駆動基板10および対向基板20の外側面に、クロスニコルに偏光板31,32が密着状態で設けられている。また駆動基板10側に配置された偏光板31の外側には、バックライト33、および反射板34が配置されている。
このうち駆動基板10は、ガラス基板のような透明基板11における液晶層LCに向かう面上に、例えばTFT(Thin Film Transistor)等の駆動素子およびこれに接続された画素電極などが画素毎に形成された駆動電極層12が設けられている。そして、この駆動電極層12を覆う状態で、配向膜13が設けられている。この配向膜13は、例えば、駆動基板10側の偏光板31の透過軸に対して所定の方向にラビング処理または配向処理されたものであることとする。
一方、対向基板20は、ガラス基板のような透明基板21における液晶層LCに向かう面に、R(赤)、G(緑)、B(青)各色のカラーフィルタ22、配向膜23、位相差層24、対向電極25、および配向膜26がこの順に設けられている。この配向膜26は、駆動基板10側に設けられた配向膜13と反平行にラビング処理または配向処理されたものであることとする。
そして、液晶分子をハイブリッド配向させた位相差層24として、図1を用いて説明した光学素子100aが用いられており、この位相差層24が透明基板21における液晶層LC側に形成されているところが特徴的である。
尚、配向膜23が設けられた透明基板21が、図1を用いて説明した配向基板200に対応する。このため、位相差層24における液晶分子は、透明基板21側において基板面と水平であって、液晶層LC側に向かって徐々に垂直に立ち上がる配向状態となっている。
また、この位相差層24の配向方向は、対向電極25および画素電極に電圧を印加して黒表示を行う際の液晶層LCの残留位相差と、位相差板(λ/4位相差板30)の位相差を実質的に相殺するように構成されていることとする。
このような構成の液晶表示装置1aは、位相差層24を、透明基板21上にカラーフィルタ22を介して成膜形成してインセル化したものになる。
以上説明した構成の液晶表示装置1aでは、位相差層24をECBモードの液晶表示装置1aに組み込んだことにより、黒表示においての液晶層LCの残留位相差が打ち消され、広い視野角を得ることが可能になる。
そして特に、液晶分子のチルト角が膜厚方向で変化した構成であることにより、加熱によって位相差が変化し易かったハイブリッド配向の位相差層24を、上述したように耐熱性の良好な光学素子で構成したことで、インセル化しても十分な耐熱性を発揮し、所期の位相差を保つことが可能である。
この結果、位相差層24を設けたECBモードの液晶表示装置1a、およびこの液晶表示装置1aを用いた電子機器において、位相差層24の配向性の向上を図ることが可能になることから、視野角が良好でありながらもコントラストの高い表示を行うことができる。
また、この位相差層24を、カラーフィルタ22の上部に設けたことにより、位相差層24がカラーフィルタ22の保護層としての機能も兼ね備える。これによりカラーフィルタ22からの脱ガスを防止することができる。
(変形例1)
なお、上述した第1実施形態では、上記位相差層24として、図1を用いて説明したように、液晶分子M1をハイブリッド配向させた光学素子100aを用いた例について説明したが、上記位相差層24は、ハイブリッド位相差層に限定されるものではない。例えば、図3に示すように、液晶分子M2をコレステリック配向させた光学素子100bであってもよい。
なお、上述した第1実施形態では、上記位相差層24として、図1を用いて説明したように、液晶分子M1をハイブリッド配向させた光学素子100aを用いた例について説明したが、上記位相差層24は、ハイブリッド位相差層に限定されるものではない。例えば、図3に示すように、液晶分子M2をコレステリック配向させた光学素子100bであってもよい。
この場合に用いられる重合性液晶組成物には、a)重合性液晶モノマー、b)光重合開始剤、c)界面活性剤およびd)酸化防止剤の他にe)カイラル剤が含まれる。
a)重合性液晶モノマー
配向膜に対して水平配向される重合性液晶モノマーであり、例えば上記一般式(2)-1〜一般式(2)-5で示されるネマチック液晶が用いられる。
配向膜に対して水平配向される重合性液晶モノマーであり、例えば上記一般式(2)-1〜一般式(2)-5で示されるネマチック液晶が用いられる。
また、b)光重合開始剤、c)界面活性剤およびd)酸化防止剤については、第1実施形態と同様のものが用いられる。
e)カイラル剤
カイラル剤としては、下記構造式(2)に示される重合性官能基を2つ有する下記構造のものの他に、特開平8−245960号公報に記載された単官能重合性カイラルモノマー、特開平9−53074号公報に記載された単官能カイラル(メタ)アクリレート、特開2000−95883号公報に記載されたキラル化合物を用いることができる。これらは、2種以上用いることが好ましい。
カイラル剤としては、下記構造式(2)に示される重合性官能基を2つ有する下記構造のものの他に、特開平8−245960号公報に記載された単官能重合性カイラルモノマー、特開平9−53074号公報に記載された単官能カイラル(メタ)アクリレート、特開2000−95883号公報に記載されたキラル化合物を用いることができる。これらは、2種以上用いることが好ましい。
上記カイラル剤の添加量は、液晶の配向を阻害しない範囲、かつ可視光域に選択反射を有さない領域で適宜添加することができるが、一般的には上記重合性液晶モノマーに対して0.1wt%〜15wt%程度が好ましく、さらに好ましくは、1wt%〜10wt%程度が好ましい。
このようなカイラル剤は、上述したネマチック液晶からなる重合性液晶モノマーを、基板面から離れるに従い、螺旋構造を描くように回転させるものである。
そして、光学素子100bは、液晶分子M2が基板面から離れるに従い、螺旋構造を描くように回転していく。螺旋構造は楕円形状でもよいし、傾斜配向していてもよい。この際、この光学素子100bの選択反射は可視光以外にあることが好ましく、特に傾斜観察時に選択反射が観察されない紫外領域が好ましい。
この光学素子100bにおいては、液晶分子M2が、上述した重合性液晶組成物の重合性液晶モノマーからなり、これらの重合性液晶モノマーが上述した配向の状態で3次元に架橋して固定されている。この光学素子100bは、重合性液晶組成物を上述したように調製する以外は、第1実施形態で、図1を用いて説明した光学素子100aと同様の方法で作製される。
(変形例2)
また、例えば、図4に示すように、液晶分子M3をプレーナー配向させた光学素子100cであってもよい。
また、例えば、図4に示すように、液晶分子M3をプレーナー配向させた光学素子100cであってもよい。
この場合に用いられる重合性液晶組成物は、a)重合性液晶モノマー以外は第1実施形態と同様のものが用いられ、a)重合性液晶モノマーとしては、配向膜に対して水平配向される重合性液晶モノマーであり、例えば上記一般式(2)-1〜一般式(2)-5で示されるネマチック液晶が用いられる。
そして、光学素子100cは、配向基板200の配向処理された面上において液晶分子M3をプレーナー(水平)配向させた層として設けられている。
この光学素子100cにおいては、液晶分子M3が、上述した重合性液晶組成物の重合性液晶モノマーからなり、これらの重合性液晶モノマーが上述した配向の状態で3次元に架橋して固定されている。この光学素子100cは、重合性液晶組成物を上述したように調製する以外は、第1実施形態で、図1を用いて説明した光学素子100aと同様の方法で作製される。
(第2実施形態)
<液晶表示装置−2>
図5は、本発明の液晶表示装置の第2実施形態の断面構成図である。この図に示す液晶表示装置1bが、図2に示した液晶表示装置1aと異なるところは、対向基板20側の構成である。すなわち液晶表示装置1bでは、透明基板21上のカラーフィルタ22を平坦化絶縁膜40で覆い、この上部に配向膜23および位相差層24を設けた構成であり、他の構成は図2の液晶表示装置1aと同様である。
<液晶表示装置−2>
図5は、本発明の液晶表示装置の第2実施形態の断面構成図である。この図に示す液晶表示装置1bが、図2に示した液晶表示装置1aと異なるところは、対向基板20側の構成である。すなわち液晶表示装置1bでは、透明基板21上のカラーフィルタ22を平坦化絶縁膜40で覆い、この上部に配向膜23および位相差層24を設けた構成であり、他の構成は図2の液晶表示装置1aと同様である。
このように、平坦化絶縁膜40を設けることにより、平坦な下地面上に位相差層24を形成することが可能になる。これにより、位相差層24の配向性を向上させることが可能である。
(第3実施形態)
<液晶表示装置−3>
図6は、本発明の液晶表示装置の第3実施形態の断面構成図である。この図に示す液晶表示装置1cが、図2に示した液晶表示装置1aと異なるところは、対向基板20側の構成である。すなわち液晶表示装置1cでは、配向膜23および位相差層24を、透明基板21上に直接設けた構成であり、他の構成は図2の液晶表示装置1aと同様である。
<液晶表示装置−3>
図6は、本発明の液晶表示装置の第3実施形態の断面構成図である。この図に示す液晶表示装置1cが、図2に示した液晶表示装置1aと異なるところは、対向基板20側の構成である。すなわち液晶表示装置1cでは、配向膜23および位相差層24を、透明基板21上に直接設けた構成であり、他の構成は図2の液晶表示装置1aと同様である。
このような構成とすることによっても、位相差層24を成膜形成する下地がより平坦であるため、位相差層24の配向性をさらに向上させることが可能である。
尚、上述した第1実施形態〜第3実施形態においては、位相差層24を視野角補償層として設けたECBモードの液晶表示装置を例示した構成を説明した。しかしながら、本発明は、位相差層24をインセル化して設けたTNモードの液晶表示装置にも適用可能である。この場合、実施形態で説明した液晶セル内および外側に配置される偏光板などの光学構成を、TNモードでの駆動表示に適用されるように適宜変更すればよい。また、位相差層24は、上述した各実施形態と同様の位置に設けてよく、各実施形態と同様の効果を得ることができる。
また、上述した各実施形態においては、λ/4位相差板30を液晶セルの外側に配置した構成を説明した。しかしながら、このλ/4位相差層30も、インセル化してもよい。
この場合、λ/4位相差層30は、例えば位相差層24の下層側に配置する構成が例示される。このような構成においては、位相差層24の形成と同様の手法により重合性液晶材料を用いてλ/4位相差層30を形成し、この表面を配向表面として上部に直接位相差層24を設けても良い。また、λ/4位相差層30上にさらに配向膜を形成し、この上部に位相差層24を設けてもよい。
尚、この場合、インセル化するλ/4位相差層30はハイブリッド構造である必要はないため、位相差層24と比較して耐熱性が得られやすいが、このようなλ/4位相差層30であっても耐熱性の良好な材料を選択して構成することが重要である。
さらに、上述した各実施形態においては、透過型の液晶表示装置に本発明を適用した構成を説明した。しかしながら、本発明の液晶表示装置は、半透過半反射型の液晶表示装置にも適用可能である。この場合、上述した光学素子の作製方法によって位相差層24(光学素子)を形成する一連の工程において、透過表示部と反射表示部とで異なる位相差を示すように、上記位相差層24をパターニングする。
この場合には、例えば図7(a)に示すように、配向基板200上に重合性液晶組成物の塗膜101を形成し、この塗膜101を乾燥させるとともに、塗膜101中の重合性液晶モノマーを配向させる。次に、図7(b)に示すように、フォトマスク300を介して、例えばUVを照射することで露光を行う。これにより、塗膜101の露光領域では、重合性モノマーが3次元架橋されて所定の位相差を示す硬化部101aとなり、未露光領域は未硬化部101bとなる。続いて、図7(c)に示すように、塗膜101の全域に例えばUVを照射するとともに、上記未硬化部101b(前記図7(b)参照)の位相差が等方相などに変化する温度で加熱する。これにより、未硬化部101bは所定の低い位相差を示す状態で硬化され硬化部101b’となる。その後、さらに、熱処理を行うことによって、硬化部101aの3次元架橋を進める。以上のようにして、異なる位相差を示す硬化部101a、101b’を備えた位相差層24(光学素子)が形成される。上記硬化部101a、101b’は、透過表示部または反射表示部にそれぞれ対応した状態で、配置される。
また、例えば図8に示すように、透過表示部と反射表示部のどちらか一方のみに位相差層24が配置されるように、位相差層24をパターニングしてもよい。この場合には、図8(a)〜図8(b)に示すように、配向基板200上に塗膜101を形成し、フォトマスク300を介して、UVを照射することで露光を行うまでは、図7(a)〜図7(b)を用いて説明した工程と同様に行われる。続いて、図8(c)に示すように、現像により未硬化部101b(前記図8(b)参照)を除去することでパターニングする。その後、さらに、熱処理を行うことによって、硬化部101aの3次元架橋を進めることで、硬化部101aのパターンを備えた位相差層24が形成される。この位相差層24は透過表示部または反射表示部のどちらか一方に配置される。
さらに、本発明の具体的な実施例について説明する。
<実施例1>
以下の(1)〜(5)の材料を混合することにより、液晶分子をハイブリッド配向させた光学素子を形成するための重合性液晶組成物からなる塗布液を調製した。
(1)重合性液晶モノマー:一般式(1)におけるY1,Y2を−COO−、W1,W2を−OCO−、pを4、qを4とした化合物を1重量部。
(2)重合性液晶モノマー:一般式(2)-1におけるnを4とした化合物(下記構造式(3)を19重量部。
(3)光重合開始剤:一般式(2)であるIrgacure OXE02(チバスペシャリティケミカルズ(株)製商品名)を0.2重量部。
(4)フッ素系の界面活性剤:R−08(大日本インキ工業社製商品名)を0.2重量部
(5)溶剤:プロピレングリコールメチルエチルエーテル(PGMEA)を79.6重量部。
以下の(1)〜(5)の材料を混合することにより、液晶分子をハイブリッド配向させた光学素子を形成するための重合性液晶組成物からなる塗布液を調製した。
(1)重合性液晶モノマー:一般式(1)におけるY1,Y2を−COO−、W1,W2を−OCO−、pを4、qを4とした化合物を1重量部。
(2)重合性液晶モノマー:一般式(2)-1におけるnを4とした化合物(下記構造式(3)を19重量部。
(3)光重合開始剤:一般式(2)であるIrgacure OXE02(チバスペシャリティケミカルズ(株)製商品名)を0.2重量部。
(4)フッ素系の界面活性剤:R−08(大日本インキ工業社製商品名)を0.2重量部
(5)溶剤:プロピレングリコールメチルエチルエーテル(PGMEA)を79.6重量部。
調製した塗布液を、ラビング処理済の配向膜AL1254(JSR社製商品名)上にスピンコートにて塗布して塗膜を形成した。その後、減圧乾燥(最終到達真空度53.2Pa)にて塗膜中の溶剤を除去し、次にホットプレート上(60℃)にて1分間の加熱による配向処理を行った。
その後、窒素中(酸素濃度0.1vol%以下)にて、塗膜に対して超高圧水銀灯にて照度30mW/cm2、露光時間20秒の露光を行い、3次元架橋処理を行なった。
次に、窒素雰囲気に保たれたオーブン(220℃、酸素濃度1vol%以下)中にて60分間の熱処理を行なった。
このようにして作製した光学素子(位相差層)の膜厚を触針式段差計にて測定したところ2.0μmであった。
<比較例1>
実施例1で用いた(3)光重合開始剤を、Irgacure651(チバスペシャリティケミカルズ(株)製商品名)に変更した以外は、実施例1と同様にして光学素子を作製した。
実施例1で用いた(3)光重合開始剤を、Irgacure651(チバスペシャリティケミカルズ(株)製商品名)に変更した以外は、実施例1と同様にして光学素子を作製した。
<比較例2>
実施例1で用いた(3)光重合開始剤を、ルシリンTPO(BASF社製商品名)に変更した以外は、実施例1と同様にして光学素子を作製した。
実施例1で用いた(3)光重合開始剤を、ルシリンTPO(BASF社製商品名)に変更した以外は、実施例1と同様にして光学素子を作製した。
(評価結果1)
実施例1および比較例1、2の光学素子について、220℃のオーブンにて6時間の加熱処理を行う耐熱性試験を行った。そして、耐熱性試験の前後において、光学素子(位相差層)の位相差を測定した。この結果を下記表1に示す。
実施例1および比較例1、2の光学素子について、220℃のオーブンにて6時間の加熱処理を行う耐熱性試験を行った。そして、耐熱性試験の前後において、光学素子(位相差層)の位相差を測定した。この結果を下記表1に示す。
上記表1に示すように、実施例1の光学素子について、耐熱性試験前に、正面のリタデーションを測定したところ、220nmであり、ラビング軸に沿って傾斜させたところ、−50°のリタデーションは180nmであり、+50°のリタデーションは260nmであり、重合性液晶モノマーをハイブリッド配向させた光学素子が形成されていることが確認できた。
耐熱性試験後においては、正面のリタデーションは216nmであり、変化率としては98%であった。本発明に特徴的な光重合開始剤を用いることにより、液晶分子をハイブリッド配向させた光学素子の耐熱性が優れていることが確認された。
一方、比較例1の光学素子については、耐熱性試験前後での正面の位相差は、220nmから187nmと変化率85%であり、実施例1の光学素子よりも悪化することが確認された。また、比較例2の光学素子についても、耐熱性試験前後での正面の位相差は、220nmから183nmと変化率83%であり、実施例1の光学素子よりも悪化することが確認された。
<実施例2>
以下の(1)〜(5)の材料を混合することにより、液晶分子をコレステリック配向させた光学素子を形成するための重合性液晶組成物からなる塗布液を調製した。
(1)重合性液晶モノマーの化合物を18重量部。
(2)重合性カイラル剤:一般式(10)の化合物を2重量部。
(3)光重合開始剤:一般式(1)であるIrgacure OXE02(チバスペシャリティケミカルズ(株)製商品名)を0.2重量部。
(4)フッ素系の界面活性剤:R−08(大日本インキ工業社製商品名)を0.2重量部
(5)溶剤:プロピレングリコールメチルエチルエーテル(PGMEA)を79.6重量部。
以下の(1)〜(5)の材料を混合することにより、液晶分子をコレステリック配向させた光学素子を形成するための重合性液晶組成物からなる塗布液を調製した。
(1)重合性液晶モノマーの化合物を18重量部。
(2)重合性カイラル剤:一般式(10)の化合物を2重量部。
(3)光重合開始剤:一般式(1)であるIrgacure OXE02(チバスペシャリティケミカルズ(株)製商品名)を0.2重量部。
(4)フッ素系の界面活性剤:R−08(大日本インキ工業社製商品名)を0.2重量部
(5)溶剤:プロピレングリコールメチルエチルエーテル(PGMEA)を79.6重量部。
そして、上記塗布液を調製した後の工程は実施例1と同様に行い、上記重合性液晶モノマーをコレステリック配向させた光学素子を作成した。この光学素子(位相差層)の膜厚を触針式段差計にて測定したところ、3.0μmであった。また、この光学素子について、透過率(Y値)を測定したところ、98%であり選択反射の影響が出ていないことが確認された。
<比較例3>
実施例2で用いた(3)光重合開始剤を、Irgacure184(チバスペシャリティケミカルズ(株)製商品名)に変更した以外は、実施例2と同様にして光学素子を作製した。
実施例2で用いた(3)光重合開始剤を、Irgacure184(チバスペシャリティケミカルズ(株)製商品名)に変更した以外は、実施例2と同様にして光学素子を作製した。
(評価結果2)
実施例2および比較例3の光学素子について、220℃のオーブンにて6時間の加熱処理を行う耐熱性試験を行った。そして、耐熱性試験の前後において、光学素子(位相差層)の位相差を測定した。この結果を下記表2に示す。
実施例2および比較例3の光学素子について、220℃のオーブンにて6時間の加熱処理を行う耐熱性試験を行った。そして、耐熱性試験の前後において、光学素子(位相差層)の位相差を測定した。この結果を下記表2に示す。
この表に示すように、耐熱性試験前において、実施例2の光学素子の正面のリタデーションを測定したところ、0nmであり、ラビング軸に沿って傾斜させたところ、−50°のリタデーションは250nmであり、+50°のリタデーションは250nmであり、重合性液晶モノマーをコレステリック配向させた光学素子(Cプレート)が形成されていることが確認できた。
耐熱性試験後においては、正面のリタデーションは0nmのままであり、変化率としては100%、−50°のリタデーションは248nmであり、+50°のリタデーションは248nmであり変化率としては99%であった。よって本発明に特徴的な光重合開始剤を用いることにより、コレステリック配向させた光学素子の耐熱性が優れていることが確認された。
一方、上記表に示すように、比較例3の光学素子については、耐熱性試験前後での正面の位相差は、250nmから230nmと変化率92%であり、実施例2の光学素子よりも悪化していることが確認された。
<実施例3>
以下の(1)〜(4)の材料を混合することにより、液晶分子をプレーナー配向させた光学素子を形成するための塗布液を調製した。
(1)上記構造式(3)からなる重合性液晶モノマーの化合物を20重量部。
(2)光重合開始剤:一般式(1)であるIrgacure OXE02(チバスペシャリティケミカルズ(株)製商品名)を0.2重量部。
(3)フッ素系の界面活性剤:R−08(大日本インキ工業社製商品名)を0.2重量部
(4)溶剤:プロピレングリコールメチルエチルエーテル(PGMEA)を79.6重量部。
以下の(1)〜(4)の材料を混合することにより、液晶分子をプレーナー配向させた光学素子を形成するための塗布液を調製した。
(1)上記構造式(3)からなる重合性液晶モノマーの化合物を20重量部。
(2)光重合開始剤:一般式(1)であるIrgacure OXE02(チバスペシャリティケミカルズ(株)製商品名)を0.2重量部。
(3)フッ素系の界面活性剤:R−08(大日本インキ工業社製商品名)を0.2重量部
(4)溶剤:プロピレングリコールメチルエチルエーテル(PGMEA)を79.6重量部。
そして、塗布液を調製した後の工程は実施例1と同様に行い、上記重合性液晶モノマーをプレーナー配向させた光学素子を作成した。この光学素子(位相差層)の膜厚を触針式段差計にて測定したところ、1.0μmであった。
<比較例4>
実施例2で用いた(3)光重合開始剤を、Irgacure819(チバスペシャリティケミカルズ(株)製商品名)に変更した以外は、実施例3と同様にして光学素子を作製した。
実施例2で用いた(3)光重合開始剤を、Irgacure819(チバスペシャリティケミカルズ(株)製商品名)に変更した以外は、実施例3と同様にして光学素子を作製した。
(評価結果3)
実施例3および比較例4の光学素子について、220℃のオーブンにて6時間の加熱処理を行う耐熱性試験を行った。そして、耐熱性試験の前後において、光学素子(位相差層)の位相差を測定した。この結果を下記表3に示す。
実施例3および比較例4の光学素子について、220℃のオーブンにて6時間の加熱処理を行う耐熱性試験を行った。そして、耐熱性試験の前後において、光学素子(位相差層)の位相差を測定した。この結果を下記表3に示す。
この表に示すように、耐熱性試験前において、実施例3の光学素子の正面のリタデーションを測定したところ、120nmであり、ラビング軸に沿って傾斜させたところ、−50°のリタデーションは100nmであり、+50°のリタデーションは101nmであり、プレーナー配向した光学素子(Aプレート)が形成されていることが確認できた。
耐熱性試験後においては、正面のリタデーションは117nmであり、変化率としては98%であった。本発明に特徴的な光重合開始剤を用いることにより、プレーナー向させた光学素子の耐熱性が優れていることが確認された。
一方、比較例4の光学素子は、耐熱性試験前後での正面の位相差は、120nmから110nmと変化率92%で、実施例3の光学素子よりも悪化していることが確認された。
1a,1b,1c…液晶表示装置、10…第1基板、20…第2基板、22…カラーフィルタ、23…配向膜、24…位相差層、100a,100b,100c…光学素子、M1,M2,M3…液晶分子、LC…液晶層
Claims (9)
- 請求項1記載の重合性液晶組成物において、
酸化防止剤を含有する
ことを特徴とする重合性液晶組成物。 - 請求項1記載の重合性液晶組成物において、
界面活性剤を含有する
ことを特徴とする重合性液晶組成物。 - 請求項4記載の光学素子において、
前記重合性液晶モノマーをハイブリッド配向させてなる
ことを特徴とする光学素子。 - 請求項4記載の光学素子において、
前記光学素子はパターニングされている
ことを特徴とする光学素子。 - 請求項7記載の液晶表示装置において、
前記位相差層は、前記一方の基板上にカラーフィルタを介して設けられている
ことを特徴とする液晶表示装置。 - 請求項7記載の液晶表示装置において、
前記位相差層は、前記一方の基板上に平坦化膜を介して設けられている
ことを特徴とする液晶表示装置。
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