JP2008221830A - バリア性積層体、バリア性フィルム基板、それらの製造方法、およびデバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】少なくとも1層の有機層と、少なくとも1層の無機層とを有しているバリア性積層体であって、有機層は例えば、1,9−ノナンジオールジアクリレートや、2−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジアクリレートのモノマーを、真空中で高圧水銀ランプの紫外線を照射することにより硬化させた、架橋性アクリレート重合体を用いることを特徴とする。
【選択図】なし
Description
[2] 前記ポリマー中に前記一般式(1)で表される構造単位が50質量%〜100質量%存在することを特徴とする[1]に記載のバリア性積層体。
[3] 前記有機層の水に対する接触角が75度以上であり、且つ、前記有機層のジヨードメタンに対する接触角が40度以上であることを特徴とする[1]または[2]に記載のバリア性積層体。
[4] プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、[1]〜[3]のいずれか一項に記載のバリア性積層体を有することを特徴とするバリア性フィルム基板。
[5] 前記プラスチックフィルムの両面に前記バリア性積層体を有することを特徴とする[4]に記載のバリア性フィルム基板。
[6] 前記プラスチックフィルムの一方の面に少なくとも1層の前記バリア性積層体とその上に設けられたマット剤層を有し、もう一方の面に少なくとも1層の前記バリア性積層体を有することを特徴とする[4]または[5]に記載のバリア性フィルム基板。
一般式(2)
Ac1−O−L−O−Ac2
[式中、Ac1およびAc2は各々独立にアクリロイル基またはメタクリロイル基を表し、Lは炭素数8以上であって酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含まない開鎖状のアルキレン基を表す。]
[8] 前記モノマー混合物中における一般式(2)で表される2官能モノマーの含有率が、50質量%〜100質量%であることを特徴とする[7]に記載のバリア性積層体の製造方法。
[9] 常に100Pa以下の真空中で有機層と無機層を積層することにより前記バリア性積層体を形成する工程を含むことを特徴とする[7]または[8]に記載のバリア性積層体の製造方法。
[10] 前記モノマー混合物を100Pa以下の真空中で重合する工程を含むことを特徴とする[7]〜[9]のいずれか一項に記載のバリア性積層体の製造方法。
[11] 前記モノマー混合物を100Pa以下の真空中で2J/cm2以上のエネルギーを照射する紫外線重合により重合する工程を含むことを特徴とする[10]に記載のバリア性積層体の製造方法。
[12] プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、[7]〜[11]のいずれか一項に記載の製造方法によりバリア性積層体を形成することを特徴とするバリア性フィルム基板の製造方法。
[13] 前記プラスチックフィルムの一方の面に少なくとも1層の前記バリア性積層体を形成し、さらにその上にマット剤層を形成する工程と、もう一方の面に少なくとも1層の前記バリア性積層体を形成する工程とを順不同で含むことを特徴とする[12]
に記載のバリア性フィルム基板の製造方法。
[15] [4]〜[6]のいずれか一項に記載のバリア性フィルム基板を基板に用いたデバイス。
[16] [4]〜[6]のいずれか一項に記載のバリア性フィルム基板を用いて封止したデバイス。
[17] 前記デバイスが電子デバイスである[14]〜[16]のいずれか1項に記載のデバイス。
[18] 前記デバイスが有機EL素子である[14]〜[16]のいずれか1項に記載のデバイス。
[19] [4]〜[6]のいずれか一項に記載のバリア性フィルム基板を基板に用いた光学部材。
本発明のバリア性積層体は、少なくとも1層の有機層と、少なくとも1層の無機層とを有する。その特徴は、有機層が上記一般式(1)で表される構造単位を有するポリマーを含む層であることにある。
本発明におけるバリア性積層体は、基材の種類を問わずに形成することができる。例えば、ガスバリア性を必要とする有機半導体デバイスなどの素子上に直接バリア性積層体を形成することや、別途基板上にガスバリア積層体を形成してバリア性フィルム基板とすることができる。
以下において、本発明のバリア性積層体の必須構成要素である無機層と有機層について詳しく説明し、バリア性積層体を形成することができる基材についてはバリア性フィルム基板に関する記述の中で説明する。
無機層は、通常、金属化合物からなる薄膜の層である。無機層の形成方法は、目的の薄膜を形成できる方法であればいかなる方法でも用いることができる。例えば、塗布法、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法などが適しており、具体的には特許第3400324号、特開2002−322561号、特開2002−361774号各公報記載の形成方法を採用することができる。
前記無機層に含まれる成分は、上記性能を満たすものであれば特に限定されないが、例えば、Si、Al、In、Sn、Zn、Ti、Cu、Ce、またはTa等から選ばれる1種以上の金属を含む酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物などを用いることができる。これらの中でも、Si、Al、In、Sn、Zn、Tiから選ばれる金属の酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましく、特にSiまたはAlの金属酸化物、窒化物もしくは酸化窒化物が好ましい。これらは、副次的な成分として他の元素を含有してもよい。
前記無機層の厚みに関しては特に限定されないが、5nm〜500nmの範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは10nm〜200nmである。また、2層以上の無機層を積層してもよい。この場合、各層が同じ組成であっても異なる組成であってもよい。
Lは炭素数8以上であって酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含まない開鎖状のアルキレン基を表す。ここでいう「開鎖状」とは、環状構造を含まない構造を意味する。Lの炭素数は、好ましくは8〜12、より好ましくは8〜10、さらに好ましくは8または9である。Lを構成するアルキレン基は、置換されていてもよいし、置換されていなくてもよい。アルキレン基に対する置換基としては、アルキル基を例示することができ、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−ヘキシル基などを挙げることができる。アルキル基の炭素数は、好ましくは1〜6、より好ましくは2〜4である。
一般式(1)で表される構造は、有機層中に複数種含まれていてもよいし、一種のみ含まれていてもよい。有機層を構成するポリマー中には一般式(1)で表される構造が50〜100質量%存在することが好ましく、60〜100質量%存在することがより好ましく、70〜100質量%存在することがさらに好ましく、70〜95質量%存在することが特に好ましい。一般式(1)で表される構造以外の構造は、本発明の目的を過度に阻害しない範囲内であれば特に制限されないが、アクリレートモノマーまたはメタクリレートモノマーから誘導される構造単位を含むことが好ましい。
一般式(2)
Ac1−O−L−O−Ac2
一般式(2)中、Ac1およびAc2はアクリロイル基またはメタクリロイル基を表し、Lは炭素数8以上であって酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含まない開鎖状のアルキレン基を表す。Lの説明と好ましい範囲は、上記一般式(1)について記載したLの説明と好ましい範囲と同じである。
以下に一般式(2)で表される2官能モノマーの具体例を示すが、本発明で用いることができる一般式(2)の2官能モノマーはこれらに限定されない。
本発明に用いることができるアクリレートおよびメタクリレートの好ましい例としては、例えば米国特許第6,083,628号、同第6,214,422号の各明細書に記載の化合物が挙げられる。これらの一部を以下に例示する。
有機層の膜厚については特に限定はないが、薄すぎると膜厚の均一性を得ることが困難になるし、厚すぎると外力によりクラックを発生してバリア性が低下しやすくなる。かかる観点から、有機層の厚みは10nm〜2000nmが好ましく、20nm〜1000nmがより好ましい。
有機層の硬度は高いほうが好ましい。有機層の硬度が高いと、無機層が平滑に成膜されその結果としてバリア能が向上することがわかっている。有機層の硬度はナノインデンテーション法に基づく微小硬度として表すことができる。有機層の微小硬度は150N/mm以上であることが好ましく、180N/mm以上であることがより好ましく、200N/mm以上であることが特に好ましい。
有機層と無機層の積層は、所望の層構成に応じて有機層と無機層を順次繰り返し製膜することにより行うことができる。無機層を、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマCVD法などの真空製膜法で形成する場合、有機層も前記フラッシュ蒸着法のような真空製膜法で形成することが好ましい。バリア層を製膜する間、途中で大気圧に戻すことなく、常に1000Pa以下の真空中で有機層と無機層を積層することが特に好ましい。圧力は100Pa以下であることがより好ましく、50Pa以下であることがさらに好ましく、20Pa以下であることが特に好ましい。
本発明のバリア性積層体は、通常、支持体の上に設けるが、この支持体を選択することによって、様々な用途に用いることができる。支持体としては、基材フィルムのほか、各種のデバイス、光学部材等が含まれる。具体的には、本発明のバリア性積層体はバリア性フィルム基板のバリア層として用いることができる。また、本発明のバリア性積層体およびバリア性フィルム基板は、ガスバリア性を要求するデバイスの封止に用いることができる。本発明のバリア性積層体およびバリア性フィルム基板は、光学部材にも適用することができる。以下、これらについて詳細に説明する。
バリア性フィルム基板は、基材フィルムと、該基材フィルム上に形成されたバリア性積層体とを有する。バリア性フィルム基板において、本発明のバリア性積層体は、基材フィルムの片面にのみ設けられていてもよいし、両面に設けられていてもよい。本発明のバリア性積層体は、基材フィルム側から無機層、有機層の順に積層していてもよいし、有機層、無機層の順に積層していてもよい。本発明の積層体の最上層は無機層でも有機層でもよい。
また、本発明におけるバリア性フィルム基板は大気中の酸素、水分、窒素酸化物、硫黄酸化物、オゾン等を遮断する機能を有するバリア層を有するフィルム基板である。
バリア性フィルム基板を構成する層数に関しては特に制限はないが、典型的には2層〜30層が好ましく、3層〜20層がさらに好ましい。
バリア性フィルム基板はバリア性積層体、基材フィルム以外の構成成分(例えば、易接着層等の機能性層)を有しても良い。機能性層はバリア性積層体の上、バリア性積層体と基材フィルムの間、基材フィルム上のバリア性積層体が設置されていない側(裏面)のいずれに設置してもよい。
本発明におけるバリア性フィルム基板は、通常、基材フィルムとして、プラスチックフィルムを用いる。用いられるプラスチックフィルムは、有機層、無機層等の積層体を保持できるフィルムであれば材質、厚み等に特に制限はなく、使用目的等に応じて適宜選択することができる。前記プラスチックフィルムとしては、具体的には、金属支持体(アルミニウム、銅、ステンレス等)ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、メタクリル酸−マレイン酸共重合体、ポリスチレン樹脂、透明フッ素樹脂、ポリイミド、フッ素化ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、セルロースアシレート樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエーテルエーテルケトン樹脂、ポリカーボネート樹脂、脂環式ポリオレフィン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリスルホン樹脂、シクロオレフィルンコポリマー、フルオレン環変性ポリカーボネート樹脂、脂環変性ポリカーボネート樹脂、フルオレン環変性ポリエステル樹脂、アクリロイル化合物などの熱可塑性樹脂が挙げられる。
本発明のバリア性フィルム基板をディスプレイ用途に用いる場合であっても、観察側に設置しない場合などは必ずしも透明性が要求されない。したがって、このような場合は、プラスチックフィルムとして不透明な材料を用いることもできる。不透明な材料としては、例えばポリイミド、ポリアクリロニトリル、公知の液晶ポリマーなどが挙げられる。
本発明のバリア性フィルム基板に用いられるプラスチックフィルムの厚みは、用途によって適宜選択されるので特に制限がないが、典型的には1〜800μmであり、好ましくは10〜200μmである。これらのプラスチックフィルムは、透明導電層、プライマー層等の機能層を有していても良い。機能層については、特開2006−289627号公報の段落番号0036〜0038に詳しく記載されている。これら以外の機能層の例としてはマット剤層、保護層、帯電防止層、平滑化層、密着改良層、遮光層、反射防止層、ハードコート層、応力緩和層、防曇層、防汚層、被印刷層、易接着層等が挙げられる。
本発明のバリア性積層体およびバリア性フィルム基板は空気中の化学成分(酸素、水、窒素酸化物、硫黄酸化物、オゾン等)によって性能が劣化するデバイスに好ましく用いることができる。前記デバイスの例としては、例えば、有機EL素子、液晶表示素子、薄膜トランジスタ、タッチパネル、電子ペーパー、太陽電池等)等の電子デバイスを挙げることができ有機EL素子に好ましく用いられる。
バリア性フィルム基板用いた有機EL素子の例は、特開2007−30387号公報に詳しく記載されている。
反射型液晶表示装置は、下から順に、下基板、反射電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、透明電極、上基板、λ/4板、そして偏光膜からなる構成を有する。本発明におけるバリア性フィルム基板は、前記透明電極基板および上基板として使用することができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を反射電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。透過型液晶表示装置は、下から順に、バックライト、偏光板、λ/4板、下透明電極、下配向膜、液晶層、上配向膜、上透明電極、上基板、λ/4板および偏光膜からなる構成を有する。このうち本発明の基板は、前記上透明電極および上基板として使用することができる。カラー表示の場合には、さらにカラーフィルター層を下透明電極と下配向膜との間、または上配向膜と透明電極との間に設けることが好ましい。液晶セルの種類は特に限定されないが、より好ましくはTN(Twisted Nematic)型、STN(Super Twisted Nematic)型またはHAN(Hybrid Aligned Nematic)型、VA(Vertically Alignment)型、ECB(Electrically Controlled Birefringence)型、OCB(Optically Compensated Bend)型、CPA(Continuous Pinwheel Alignment)型であることが好ましい。
その他の適用例としては、特表平10−512104号公報に記載の薄膜トランジスタ、特開平5−127822号公報、特開2002−48913号公報等に記載のタッチパネル、特開2000−98326号公報に記載の電子ペーパー、特願平7−160334号公報に記載の太陽電池等が挙げられる。
本発明のバリア性積層体を用いる光学部材の例としては円偏光板等が挙げられる。
(円偏光板)
本発明におけるバリア性フィルム基板を基板としλ/4板と偏光板とを積層し、円偏光板を作製することができる。この場合、λ/4板の遅相軸と偏光板の吸収軸とが45°になるように積層する。このような偏光板は、長手方向(MD)に対し45°の方向に延伸されているものを用いることが好ましく、例えば、特開2002−865554号公報に記載のものを好適に用いることができる。
ポリエチレンナフタレートフィルム(帝人デュポン社製、商品名:テオネックスQ65FA)を20cm角に裁断し、その平滑面側に以下の手順でバリア性積層体を形成して評価した。
スパッタリング装置を用いて、ポリエチレンナフタレートフィルムの平滑面上に第1無機層(酸化アルミニウム)を形成した。ターゲットとしてアルミニウムを、放電ガスとしてアルゴンを、反応ガスとして酸素を用いた。成膜圧力は0.1Pa、到達膜厚は50nmであった。
プラスチックフィルム上に形成した第1無機層の上に、表1に示すモノマー(20g)、紫外線重合開始剤(チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製、商品名:Cibaイルガキュアー907)0.6g、2−ブタノン190gの混合溶液を液厚が5μmとなるようにワイヤーバーを用いて塗布した。室温にて2時間乾燥した後、窒素置換法により酸素濃度が0.45%となったチャンバー内にて高圧水銀ランプの紫外線を照射(積算照射量約2J/cm2)して有機層を硬化させ、本発明のバリア性フィルム基板である試料1および2、および比較例のバリア性フィルム基板である試料3〜8を作製した。このとき膜厚はいずれも500nm±50nmであった。
試料1〜8の第1有機層表面の水およびジヨードメタン(CH2I2)に対する接触角を接触角計(協和界面科学(株)製、CA−X型)を用いて測定した。結果を表1に示す。
JIS(日本工業規格)K5600-5-6(ISO2409)に準拠したクロスカット剥離法で、バリア性積層体の密着性を調べた。評価値は膜破壊の起きなかった面積の比率(百分率)で表し、表1に示した。評価値が大きいほど密着性が高いことを表す。
本発明のバリア性フィルム基板である試料1および2は、有機層成膜後の水との接触角がそれぞれ79.5度、75.5度と大きく、疎水的で表面エネルギーが低かった。比較例のバリア性フィルム基板である試料3〜8は有機層成膜後の水との接触角がいずれも75度以下であって、本発明の有機層に比べて親水性が高く、表面エネルギーが大きかった。
また、本発明のバリア性フィルム基板である試料1および2は、比較例のバリア性フィルム基板である試料3〜8に比べて密着性が高かった。
本発明のバリア性フィルム基板である試料1と試料2の比較では、ジヨードメタンに対する接触角が試料1は29.9度であるのに対して、試料2は42.0度と大きい。これは試料2の有機層の方が表面エネルギーの分散力成分が小さいことを表す。その結果、密着性は試料2の方が有意差を持って高くなっており、一段と優れている。
ポリエチレンナフタレートフィルム(帝人デュポン社製、商品名:テオネックスQ65FA)を20cm角に裁断し、その平滑面側に以下の手順でバリア性積層体を形成して評価した。
スパッタリング装置を用いて、ポリエチレンナフタレートフィルムの平滑面上に第1無機層(酸化アルミニウム)を形成した。ターゲットとしてアルミニウムを、放電ガスとしてアルゴンを、反応ガスとして酸素を用いた。成膜圧力は0.1Pa、到達膜厚は50nmであった。
プラスチックフィルム上に形成した第1無機層の上に、表2に示すモノマー(20g)、紫外線重合開始剤(チバ・スペシャルティー・ケミカルズ社製、商品名:Cibaイルガキュアー907)0.6g、2−ブタノン190gの混合溶液を液厚が5μmとなるようにワイヤーバーを用いて塗布した。室温にて2時間乾燥した後、内圧30Paの真空チャンバー内にて高圧水銀ランプの紫外線照射(積算照射量約2J/cm2)によって有機層を硬化させ、本発明のバリア性フィルム基板である試料11〜13、および比較例のバリア性フィルム基板である試料14および15を作製した。このとき膜厚はいずれも500nm±50nmであった。
密着性の測定は上記(1−4)と同じ方法で行った。結果を表2に示す。
本発明のバリア性フィルム基板である試料11〜13は、比較例のバリア性フィルム基板である試料14および15に比べて密着性が高かった。
また、本発明のバリア性フィルム基板である試料11〜13は、上記の試料1および2に比べて密着性がより高かった。このことから、窒素置換法によって酸素濃度0.5%以下に設定した雰囲気よりも、内圧100Pa以下の真空中で重合させた方が、密着性が高くて一段と好ましいバリア性フィルム基板が得られることがわかった。
(3−1)有機無機真空一貫積層型バリア性フィルム基板の作製
ポリエチレンナフタレートフィルム(帝人デュポン社製、商品名:テオネックスQ65FA)を20cm角に裁断した。有機無機積層成膜装置(ヴァイテックス・システムズ社製、Guardian200)を用いて、このフィルムの平滑面側に表3に示すようなバリア性積層体を形成した。Guardian200は有機無機積層型のバリア性積層体を作製できる装置である。有機層と無機層を真空一貫成膜するため、バリア性積層体が完成するまで大気に開放されることが無い。同装置の有機層成膜法は内圧3Paでのフラッシュ蒸着であり、重合のための紫外線の照射エネルギーは2J/cm2とした。有機層の原料として、1.9−ノナンジオールジアクリレート(共栄社化学(株)製、商品名:ライトアクリレート、80g)、同社製ライトアクリレートTMP−A(10g)、同社製ライトアクリレートBO−A(5g)、紫外線重合開始剤(EZACURE−TZT、5g)の混合溶液を用いた。無機成膜はアルミニウムをターゲットとする直流パルスによる反応性スパッタ法(反応性ガスは酸素)による酸化アルミニウム成膜を用いた。得られた有機層の膜厚は一層当たり500nm、無機層(酸化アルミニウム)の膜厚は一層当たり50nmであった。以上のようにして本発明の製造方法によるバリア性フィルム基板の試料21〜23を作製した。
水蒸気透過率測定器(MOCON社製、PERMATRAN−W3/31)を用いて、40℃/相対湿度90%における水蒸気透過率を各試料について測定した。この測定器の検出限界値は0.01g/m2/dayである。結果を表3に示す。本発明のバリア性フィルム基板の試料21〜24は、水蒸気透過率がいずれも測定の検出限界である0.01g/m2/day以下であったが、環状構造を有するアクリレートを用いた比較例のバリア性フィルム基板の試料25〜27は、水蒸気透過率がそれぞれ0.08g/m2/day、0.06g/m2/day、0.02g/m2/dayであった。
以上より、本発明の条件を満たす開鎖状のアクリレートを用いて製造したバリア性フィルム基板が、バリア性、密着性の両面で優れていることが確認された。
(1)有機EL素子の作製
ITO膜を有する導電性のガラス基板(表面抵抗値10Ω/□)を2−プロパノールで洗浄した後、10分間UV−オゾン処理を行った。この基板(陽極)上に真空蒸着法にて以下の有機化合物層を順次蒸着した。
(第1正孔輸送層)
銅フタロシアニン 膜厚10nm
(第2正孔輸送層)
N,N’−ジフェニル−N,N’−ジナフチルベンジジン 膜厚40nm
(発光層兼電子輸送層)
トリス(8−ヒドロキシキノリナト)アルミニウム 膜厚60nm
最後にフッ化リチウムを1nm、金属アルミニウムを100nm順次蒸着して陰極とし、その上に厚さ5μmの窒化珪素膜を平行平板CVD法によって付け、有機EL素子(OEL−1、2)を作製した。
熱硬化型の接着剤(ダイゾーニチモリ(株)製、エポテック310)を用いてバリア性フィルム基板の試料21〜23(封止フィルム)と貼り合せ、65℃で3時間加熱して接着剤を硬化させた。このようにして封止された有機EL素子(BOEL−1〜3)を得た。
作製直後の有機EL素子(BOEL−1〜3)を電流電圧発生器(Keithley社製、SMU2400型ソースメジャーユニット)を用いて7Vの電圧を印加して発光させた。顕微鏡を用いて発光面状を観察したところ、いずれの素子もダークスポットの無い均一な発光を与えることが確認された。
次に各素子を40℃/相対湿度90%の暗い室内に60日間静置した後、発光面状を観察した。保存前の発光面積に対する保存後の発光面積の割合はBOEL−1が92%、BOEL−2が93%、BOEL−3が96%であり、ダークスポットの発生は見られなかった。
「(1)有機EL素子の作製」で作製した有機EL素子上に、「(3−1)有機無機真空一貫積層型バリア性フィルム基板の作製」に記載した方法にしたがって有機無機積層成膜装置を用いて有機無機積層バリア膜(本発明のバリア性積層体)を作製して封止した。「(3)有機EL素子発光面状の評価」に記載の評価方法にて、封止した有機EL発光素子の発光面状評価を行ったところ、バリア性フィルム基板で封止したときと同様、ダークスポットの発生は認められなかった。
Claims (19)
- 前記ポリマー中に前記一般式(1)で表される構造単位が50質量%〜100質量%存在することを特徴とする請求項1に記載のバリア性積層体。
- 前記有機層の水に対する接触角が75度以上であり、且つ、前記有機層のジヨードメタンに対する接触角が40度以上であることを特徴とする請求項1または2に記載のバリア性積層体。
- プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、請求項1〜3のいずれか一項に記載のバリア性積層体を有することを特徴とするバリア性フィルム基板。
- 前記プラスチックフィルムの両面に前記バリア性積層体を有することを特徴とする請求項4に記載のバリア性フィルム基板。
- 前記プラスチックフィルムの一方の面に少なくとも1層の前記バリア性積層体とその上に設けられたマット剤層を有し、もう一方の面に少なくとも1層の前記バリア性積層体を有することを特徴とする請求項4または5に記載のバリア性フィルム基板。
- 少なくとも1層の有機層と少なくとも1層の無機層とを有するバリア性積層体の製造方法であって、下記一般式(2)で表される2官能モノマーを含むモノマー混合物を重合させることによって前記有機層を形成する工程を含むことを特徴とするバリア性積層体の製造方法。
一般式(2)
Ac1−O−L−O−Ac2
[式中、Ac1およびAc2は各々独立にアクリロイル基またはメタクリロイル基を表し、Lは炭素数8以上であって酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含まない開鎖状のアルキレン基を表す。] - 前記モノマー混合物中における一般式(2)で表される2官能モノマーの含有率が、50質量%〜100質量%であることを特徴とする請求項7に記載のバリア性積層体の製造方法。
- 常に100Pa以下の真空中で有機層と無機層を積層することにより前記バリア性積層体を形成する工程を含むことを特徴とする請求項7または8に記載のバリア性積層体の製造方法。
- 前記モノマー混合物を100Pa以下の真空中で重合する工程を含むことを特徴とする請求項7〜9のいずれか一項に記載のバリア性積層体の製造方法。
- 層状に配置された前記モノマー混合物を100Pa以下の真空中で2J/cm2以上のエネルギーを照射する紫外線重合により重合する工程を含むことを特徴とする請求項10に記載のバリア性積層体の製造方法。
- プラスチックフィルムの少なくとも一方の面に、請求項7〜11のいずれか一項に記載の製造方法によりバリア性積層体を形成することを特徴とするバリア性フィルム基板の製造方法。
- 前記プラスチックフィルムの一方の面に少なくとも1層の前記バリア性積層体を形成し、さらにその上にマット剤層を形成する工程と、もう一方の面に少なくとも1層の前記バリア性積層体を形成する工程とを順不同で含むことを特徴とする請求項12に記載のバリア性フィルム基板の製造方法。
- 請求項1〜3のいずれか一項に記載のバリア性積層体を用いて封止したデバイス。
- 請求項4〜6のいずれか一項に記載のバリア性フィルム基板を基板に用いたデバイス。
- 請求項4〜6のいずれか一項に記載のバリア性フィルム基板を用いて封止したデバイス。
- 前記デバイスが電子デバイスである請求項14〜16のいずれか1項に記載のデバイス。
- 前記デバイスが有機EL素子である請求項14〜16のいずれか1項に記載のデバイス。
- 請求項4〜6のいずれか一項に記載のバリア性フィルム基板を基板に用いた光学部材。
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