JP2008216478A - 焦点検出装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】光電変換素子列の画素の配列方向に複数の焦点検出領域を配置する焦点検出装置において、被写体の像を確実に且つ安定して検出できる焦点検出装置を提供すること。
【解決手段】光電変換素子列21の画素の配列方向に沿って複数のアイランドを構成するための複数の有効画素領域21aを配し、各有効画素領域21aの間に無効画素領域21bを配する。このような配置により、アイランドを密着して配置して被写体の像を確実に検出することができるとともに、アイランドを密着して配置してもアイランド内の各有効画素で得られる電荷を安定して検出することが可能である。
【選択図】図4

Description

本発明は、複数の焦点検出領域における焦点状態を検出するための焦点検出装置に関する。
オートフォーカスカメラに用いられている焦点検出装置の1つとして位相差検出方式の焦点検出装置が知られている。位相差検出方式においては、主光学系の異なる光路を通過した被写体からの光束を瞳分割光学系において分割し、該分割された光束を対をなすラインセンサを構成する光電変換素子列上に結像させ、これらの光電変換素子列において検出される対をなす被写体像の2像間隔値から撮影画面内の焦点検出領域における焦点状態を検出している。
また、位相差検出方式の焦点検出装置においては、撮影画面のより広い領域に位置する被写体像の検出を行うようにするために撮影画面内の複数の焦点検出領域に対応して、複数対の光電変換素子列を配して被写体像の検出を行う、所謂多点測距が可能な焦点検出装置も提案されている。
例えば、特許文献1においては、基準部と参照部とからなる対(アイランドと呼ばれる)毎に焦点状態検出のための電荷蓄積制御を行うようにしている。ここで、特許文献1においては、アイランドが光電変換素子列の画素の配列方向に対して平行に複数配置されており、これら複数アイランドから出力される電荷を共通の転送路で転送している。
特開平8−286104号公報
ここで、アイランドを光電変換素子列の画素の配列方向に対して平行に複数配置する場合、各アイランドの各画素からの出力を安定させることが好ましい。このため、特許文献1においては、アイランドを密着させずに十分に離間させた状態で配置するようにしている。しかしながら、アイランドを離間して配置することにより、被写体の像が光電変換素子列に設けられた焦点検出領域に掛からない場合が生じるため、主要被写体に対する焦点状態を検出できず、主要被写体とは異なった被写体のみの焦点状態が検出されてしまうおそれもある。
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、光電変換素子列の画素の配列方向に複数の焦点検出領域を配置する焦点検出装置において、被写体の像を確実に且つ安定して検出できる焦点検出装置を提供することを目的とする。
上記の目的を達成するために、本発明の第1の態様の焦点検出装置は、複数の被写体像を形成するための焦点検出光学系と、複数の画素を有し、前記焦点検出光学系により形成される複数の被写体像をそれぞれ光電変換する光電変換素子列と、前記光電変換素子列において光電変換されて得られる蓄積電荷を転送する電荷転送路と、前記電荷転送路により転送される蓄積電荷に関する信号に基づいて、複数の焦点検出領域に関して焦点検出を行う焦点検出部とを具備し、前記光電変換素子列の前記画素の配列方向には、前記複数の焦点検出領域に対応する有効画素領域が複数配列されるとともに前記複数の有効画素領域の間に無効画素領域が配置されることを特徴とする。
また、上記の目的を達成するために、本発明の第2の態様の焦点検出装置は、複数の被写体像を形成するための焦点検出光学系と、複数の画素を有し、該画素の配列方向に平行に複数配置される光電変換素子列であって、前記焦点検出光学系により形成される複数の被写体像をそれぞれ光電変換する複数の光電変換素子列と、前記各光電変換素子列に対応して設けられ、前記各光電変換素子列において光電変換されて得られる蓄積電荷をそれぞれ転送する複数の電荷転送路と、前記各電荷転送路に対応して設けられ、前記各光電変換素子列より転送される蓄積電荷をそれぞれ電圧に変換して出力する複数の電荷電圧変換部と、前記電荷電圧変換部より出力される信号に基づいて、複数の焦点検出領域に関して焦点検出を行う焦点検出部とを具備し、前記各光電変換素子列の前記画素の配列方向には、前記複数の焦点検出領域に対応する有効画素領域が複数配列されるとともに前記複数の有効画素領域の間に少なくとも1つの無効画素領域が配置されることを特徴とする。
本発明によれば、光電変換素子列の画素の配列方向に複数の焦点検出領域を配置する焦点検出装置において、被写体の像を確実に且つ安定して検出できる焦点検出装置を提供することができる。
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。
図1は、本発明の一実施形態に係る焦点検出装置を有する撮像装置の一例としてのデジタル一眼レフレックスカメラ(以下、適宜カメラと略記する)の構成を示す図である。図1のカメラは、交換レンズ101とカメラボディ110とを有して構成されている。
交換レンズ101は、カメラボディ110の前面に設けられた図示しないカメラマウントを介してカメラボディ110に着脱自在に構成されている。そして、この交換レンズ101は、フォーカスレンズ102と、レンズ駆動部103と、レンズCPU104とを有して構成されている。
フォーカスレンズ102は、撮影光学系に含まれる焦点調整のためのレンズである。このフォーカスレンズ102は、レンズ駆動部103によってその光軸方向(図1の矢印A方向)に駆動され、撮影光学系の焦点位置調整を行う。これにより、撮影光学系を通過した図示しない被写体からの光束は、カメラボディ110内の撮像素子124にピントの合った像を結ぶ。
レンズ駆動部103は、例えばドライバと超音波モータ等からなる駆動機構とから構成されている。そして、レンズCPU104からの制御信号を受けてフォーカスレンズ102を駆動させる。
レンズCPU104は、レンズ駆動部103の制御等を行う制御回路である。このレンズCPU104は、通信コネクタ105を介してカメラボディ110内のシステムコントローラ123と通信可能になされている。レンズCPU104からシステムコントローラ123へは、例えばレンズCPU104に予め記憶された、フォーカスレンズの製造ばらつき情報やフォーカスレンズの収差情報等のデフォーカス量の演算の際に用いられる各種レンズデータが送信される。
カメラボディ110は、メインミラー111と、フォーカシングスクリーン112、ペンタプリズム113、接眼レンズ114からなるファインダ光学系と、サブミラー115と、コンデンサレンズ116、全反射ミラー117、セパレータ絞り118、セパレータレンズ119からなるAF光学系と、温度センサ120と、AFセンサ121と、AFコントローラ122と、システムコントローラ123と、撮像素子124とを有して構成されている。
メインミラー111は、回動可能に構成され、その中央部がハーフミラーで構成されたミラーである。メインミラー111は、ダウン位置(図示の位置)にあるときに、交換レンズ101を介してカメラボディ110内に入射する図示しない被写体からの光束の一部を反射し、一部を透過させる。フォーカシングスクリーン112は、メインミラー111で反射された光束が結像される。ペンタプリズム113は、フォーカシングスクリーン112に結像された被写体像を正立像として、接眼レンズ114に入射させる。接眼レンズ114はペンタプリズム113からの被写体像をユーザが観察可能なように拡大する。このようにして、図示しない被写体の状態を観察することができる。
サブミラー115は、メインミラー111のハーフミラー部の背面に設置され、メインミラー111のハーフミラー部を透過した光束をAF光学系の方向に反射する。
AF光学系のコンデンサレンズ116は、サブミラー115で反射され、図示しない1次結像面に結像した光束を集光して全反射ミラー117の方向に入射させる。全反射ミラー117は、コンデンサレンズ116からの光束をAFセンサ121の側に反射させる。セパレータ絞り118はAFセンサ121の前面に配され、全反射ミラー117からの光束を瞳分割する。セパレータレンズ119はセパレータ絞り118で瞳分割された光束を集光してAFセンサ121に再結像させる。温度センサ120は、例えば図2に示すようにしてセパレータレンズ119の近傍に設置され、セパレータレンズ119の周辺温度を検出し、AFコントローラ122に出力する。この温度センサ120は、例えばサーミスタ等の周知の温度センサを用いることができる。
AFセンサ121は、視差をもって瞳分割され再結像された被写体像を電気信号(被写体像信号)に変換してAFコントローラ122に出力する。ここで、AFセンサ121は、撮影画面内の複数の焦点検出領域(測距点)における焦点状態を検出可能なように構成されている。AF光学系、AFセンサ121とともに焦点検出装置を構成するAFコントローラ122は、AFセンサ121の動作制御を行うとともに、AFセンサ121から出力される被写体像信号から、瞳分割されて得られる対をなす被写体像の2像間隔値を例えば相関演算によって算出し、該算出した2像間隔値より各測距点におけるフォーカスレンズ102のデフォーカス量を算出してシステムコントローラ123に出力する。
システムコントローラ123は、図1に示すカメラの動作制御を行う。例えば、システムコントローラ123は、フォーカスレンズ102の自動焦点調整(AF)時には、AFコントローラ122からのデフォーカス量をレンズCPU104に送信する。レンズCPU104は、このデフォーカス量に基づいてフォーカスレンズ102の焦点調整を行う。また、システムコントローラ123は、撮影時には、撮像素子124で得られた被写体像信号に対して種々の画像処理を施した後、これによって得られる画像データを図示しない記録部に記録する。
撮像素子124は、メインミラー111が図示位置から退避されたときに、撮影光学系を介して結像される被写体像を電気信号に変換する。
以下、図1に示すAFセンサ121についてさらに説明する。図3(a)は測距点配置の一例を示す図であり、図3(b)は図3(a)に示す測距点配置において焦点状態を検出するためのラインセンサの配置例を示す図である。なお、図3(b)は特に、ラインセンサの光電変換素子列の配置について示している。
ここで、図3(b)の例は、1つの測距点の焦点状態を水平方向と垂直方向の2つのアイランド(基準部の有効画素領域と参照部の有効画素領域との対)によって検出する例である。
また、通常、1つのアイランドは1列のラインセンサによって構成されるが、本実施形態では、1つのアイランドを複数列(図3(b)では2列)のラインセンサをずらして配置する千鳥配置によって構成している。なお、図3(b)の例では1/2画素分ずらして配置している。このように1つのアイランドを互いにずらして配置した複数のラインセンサから構成しておき、これらのラインセンサのそれぞれにおいて相関演算を行って2像間隔値を算出してから、これら2像間隔値の平均値を算出することでラインセンサにおいて検出される信号におけるノイズ(主にショットノイズ)と、ラインセンサから検出される信号において1画素周期で現われる誤差とを低減することができる。
また、本実施形態では、1列の光電変換素子列内に複数の有効画素領域を設けることにより、1列の光電変換素子内に複数のアイランドを配置している。例えば図3(b)に示す水平ラインセンサでは1列の光電変換素子列内にn1〜n5の5つの有効画素領域が設けられている。また、垂直ラインセンサについては図示していないが3つの有効画素領域が設けられている。
図3(b)に示すようなラインセンサの配置において例えば、図3(a)の測距点Bに着目した場合、この測距点Bにおける焦点状態は、基準部水平ラインセンサの有効画素領域11及び参照部水平ラインセンサの有効画素領域12の対と基準部垂直ラインセンサの有効画素領域13及び参照部垂直ラインセンサの有効画素領域14の対とによって検出される。
図4は、ラインセンサの詳細な構成を示す図である。図4に示すように、ラインセンサは、光電変換素子列21と、電荷転送路(CCD)22と、CCD用電荷検出部23と、モニタフォトダイオード(MPD)24と、MPD用電荷検出部25と、蓄積制御回路26とを有して構成されている。
上述したように、光電変換素子列21は複数列(図4では2列)の光電変換素子列から構成されている。そして1つの光電変換素子列は、複数の有効画素領域21aが配列されるとともに、それぞれの有効画素領域21aの間に無効画素領域21bが配列されて構成されている。有効画素領域21aは、図3(a)に示す測距点に対応した被写体像をそれぞれ受光し、受光した被写体像を光電変換によって電荷量に変換する画素(例えばフォトダイオードによって構成される)が配列されて構成されている。また、無効画素領域21bは、無効画素領域21bに隣接する有効画素(即ち、有効画素領域21aの端の画素)において得られる電荷量を安定化するために設けられている。なお、無効画素領域21bも有効画素領域21aと同様に例えばフォトダイオードから構成される画素が配列されて構成されている。
ここで、本実施形態においては、無効画素領域21bの画素の配列方向と直交する方向の幅(即ち、図面上下方向の幅)が、有効画素領域21aにおける画素の配列方向と直交する方向の幅よりも短くなるように無効画素領域21bが構成されている。そして、このように構成した無効画素領域21bと有効画素領域21aとによって形成される空間21cにMPD用電荷検出部25を配置している。さらに、無効画素領域21b上にMPD用電荷検出部25の配線部25aを配置している。
CCD22は、光電変換素子列21の近傍に配置され、光電変換素子列21の各画素から出力される電荷を1画素分ずつ順次CCD用電荷検出部23に転送する。なお、図4の例ではCCD22が2列分の光電変換素子列で共用されており、電荷の読み出し時には、まず一方の側の光電変換素子列からの電荷が転送された後、他方の側の光電変換素子列からの電荷が転送される。
CCD用電荷検出部23は、CCD22の末端(図4では右端)に設けられ、CCD22から順次転送されてくる電荷を1画素分ずつ電圧信号に変換してAFコントローラ122に出力する。
MPD24は、光電変換素子列間に、各有効画素領域21aに対応して配置され、各有効画素領域21aで平均的に受光される光に相当する光を受光し、受光した光を光電変換によって電荷に変換し、この電荷を各有効画素領域21aの蓄積電荷量としてMPD用電荷検出部25に出力する。図4に示すようにしてMPD24を有効画素領域21aに対応して設けることにより、蓄積電荷量をアイランド毎にモニタし、アイランド毎の細かな電荷蓄積制御を行うことが可能である。
MPD用電荷検出部25は、各MPD24の末端に設けられ、各MPD24から出力される電荷を電圧信号Vmon(図ではVmon1〜Vmon3の3つを示している)に変換して蓄積制御回路26に出力する。
蓄積制御回路26は、MPD用電荷検出部25から出力される電圧信号Vmonに基づいて各アイランドに制御信号を出力して各アイランドの蓄積制御を行う。ここで、制御信号φRSは各MPD用電荷検出部25に蓄積される電荷をリセットするための信号である。また、制御信号TG1は各アイランドの電荷蓄積動作を制御するための信号である。さらに、制御信号TG2は各アイランドからの電荷読み出しを制御するための信号である。
ここで、各測距点において正しく焦点状態を検出するためには、AFの対象となる主要被写体の像が焦点検出領域に掛からないような状況を避ける必要があり、このためにはアイランド同士を可能な限り密に配置する必要がある。そこで、本実施形態においては千鳥に配列した光電変換素子列21同士の間隔を可能な限り狭めるとともに、1つの光電変換素子列内に複数の有効画素領域21aを配置し、これら有効画素領域21aの間隔(即ち無効画素領域21bの間隔)を可能な限り狭めるようにしている。
ここで、無効画素領域21bをなくしてしまうと、無効画素領域21bに隣接する画素における電荷量が安定しなくなってしまうため、この画素を有効画素として取り扱うことができなくなってしまう。即ち、無効画素領域21bの間隔は、無効画素領域21bに隣接する有効画素における電荷量が安定する程度で最小の間隔とすることが好ましい。
また、本実施形態では、無効画素領域21bが焦点状態検出には必要とされないことを利用して、無効画素領域21bを有効画素領域21aよりも小さく形成しておき、無効画素領域21bと有効画素領域21aとによって形成される空間21cにMPD用電荷検出部25を配置するようにしている。
図5は、MPD用電荷検出部25の構成を示す電気回路図である。図5に示すように、MPD用電荷検出部25は、インバータ31と、トランジスタ32と、コンデンサ33の3つの素子から構成されるものである。図5に示す各素子を空間21cに配置することで、光電変換素子列21とMPD24を近接配置した場合であってもMPD用電荷検出部25を配置する空間を確保することができる。
ここで、図5に示すMPD用電荷検出部25の動作を簡単に説明する。蓄積制御回路26からの制御信号φRSがH(ハイ)レベルからL(ロー)レベルに切り替わるとコンデンサ33の蓄積電荷がリセットされた後、MPD24から出力される電荷がコンデンサ33に蓄積される。この電荷蓄積動作によって生じる電圧信号がVmonとして蓄積制御回路26に出力される。
なお、図5はMPD用電荷検出部25について示しているが、CCD用電荷検出部23も図5に準じた構成を有しているものである。
また、本実施形態では、無効画素領域21b上にMPD用電荷検出部25用の配線部25aを設けている。配線部25aを光電変換素子列21とMPD24との間に設けることも可能であるが、そうすると、光電変換素子列21とMPD24との距離Dが大きくなってしまい、蓄積制御の精度の悪化や遠近混在被写体の可能性が増大してしまう。そこで、本実施形態のように無効画素領域21b上にMPD用電荷検出部25用の配線部25aを設けることにより、光電変換素子列21とMPD24との距離Dが小さくなるように両者を配置することが可能である。
以下、上述したAFセンサ121における動作について説明する。図6はAFセンサ121における蓄積制御動作について示すタイミングチャートである。また、図7はMPDを用いた蓄積制御の概要について示す図である。
AFが開始されると、図6に示すようにして蓄積制御回路26からの制御信号φRSがHレベルからLレベルに切り替わる。これを受けてCCD用電荷検出部23及びMPD用電荷検出部25において蓄積されている電荷がリセットされる。また、制御信号φRSがLレベルに切り替わるのと略同タイミングで、蓄積制御回路26から光電変換素子列21に配列された各アイランドに制御信号TG1が供給され、アイランド毎に電荷の蓄積動作が開始される。
アイランド毎の電荷蓄積動作が開始されると、各アイランドにおいて蓄積される電荷量がそれぞれのアイランドに対応して設けられるMPD24において検出される。MPD24において検出される電荷はMPD用電荷検出部25において電圧信号Vmonに変換された後、蓄積制御回路26に出力される。
蓄積制御回路26は、図7に示すように各MPD用電荷検出部25からの電圧信号Vmonを所定のTG1生成用電圧値VTHと比較し、電圧信号VmonがVTHを超えた場合に、対応するアイランドに制御信号TG1を供給し、対応するアイランドにおける電荷蓄積動作を終了させる。なお、VTHはAFセンサ121の仕様等に応じて適宜調整可能である。
アイランドの電荷蓄積動作を終了させた後、蓄積制御回路26はそのアイランドに制御信号TG2を供給し、対応するアイランドからの電荷の読み出しを開始させる。読み出された電荷はCCD22によってCCD用電荷検出部23に転送されて電圧信号(被写体像信号)に変換される。その後、この被写体像信号はAFコントローラ122においてデジタル化されて取り込まれる。
被写体像信号がAFコントローラ122によって読み出された後、読み出された被写体像信号に対して、AFコントローラ122において、暗電流成分等によるオフセットの補正や、AF光学系における周辺光量低下や光電変換素子列を構成する画素の感度ばらつき等に起因するAFセンサ出力の照度ばらつきの補正等の各種の補正が行われる。このような各種補正がなされた後、基準部と参照部とで対をなす被写体像信号から相関演算により、2像間隔値が算出される。その後、相関演算結果の信頼性が判定され、相関演算結果の信頼性が高ければ2像間隔値を正しく求めることができたとして、該求めた2像間隔値から、光学的に算出されたデフォーカス係数によりデフォーカス量が算出される。なお、複数の信頼性の高い2像間隔値が求められた場合には、その中から1つの2像間隔値が選択され、この選択された2像間隔値に基づいてデフォーカス量が算出される。この選択の考え方としては、例えば求められた2像間隔値のうち、最至近に対応する測距点の2像間隔値を選択する手法がある。
デフォーカス量が算出された後は、算出されたデフォーカス量に対し、温度センサ120によって検出される温度に基づく温度補正や、カメラボディ110の固体ばらつきに拠る誤差の補正、撮影光学系の固体ばらつきによる誤差の補正等の各種の補正が行われる。その後、AFコントローラ122において算出されたデフォーカス量がシステムコントローラ123に出力される。このデフォーカス量はシステムコントローラ123からレンズCPU104に転送される。その後、レンズCPU104の制御の下、フォーカスレンズ102の合焦駆動が行われる。
以上説明したように、本実施形態によれば、1列の光電変換素子列21内に複数の有効画素領域21aを密着して配置したことにより、主要被写体の像を確実に検出することが可能である。また、有効画素領域21aの間に無効画素領域21bを配置したことにより、有効画素領域21aの端部における電荷量を安定させることができ、有効画素領域21a内の全画素からの信号を焦点状態検出に利用することができる。
また、本実施形態によれば、複数の光電変換素子列21を千鳥に配置して1つのアイランドを構成することにより、ラインセンサにおいて検出される信号におけるノイズと、ラインセンサから検出される信号において1画素周期で現われる誤差とを低減することができる。
さらに、光電変換素子列21を千鳥に配置する場合には、複数の光電変換素子列21を密着して配置し、さらにそれぞれの光電変換素子列21の近傍にMPD24を配置する必要がある。このとき、MPD用電荷検出部25を配置するためには、ある程度の空間を確保する必要があるが、本実施形態では無効画素領域21bの各画素を有効画素領域21aの各画素よりも小さく形成しておくことで、それによって形成される空間21cを、MPD用電荷検出部25を配置するための空間として利用することができる。また、無効画素領域21bの信号は利用する必要がないため、この部分に配線部25aを配置することができ、光電変換素子列21とMPD24の距離Dも小さくすることができる。
以上実施形態に基づいて本発明を説明したが、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の要旨の範囲内で種々の変形や応用が可能なことは勿論である。例えば、図4に示したラインセンサの構成は一例であり、他の構成のラインセンサに本実施形態の手法を適用することもできる。例えば、図8は2つの光電変換素子列21に対して個別にCCD22と、CCD用電荷検出部23とを設けた構成のラインセンサに本実施形態の手法を適用した例である。MPD24は2つの光電変換素子列21の間に配置され、1つのMPD24によって2つの光電変換素子列21の蓄積電荷量を同時にモニタすることができるようになっている。また、図9は1つの光電変換素子列21に対して個別にCCD22と、CCD用電荷検出部23と、MPD24と、MPD用電荷検出部25とを設けた構成のラインセンサに本実施形態の手法を適用した例である。
ここで、図4及び図8の構成は1つのアイランドを構成する有効画素領域21aを共通のMPD24を用いて蓄積制御するものである。これに対し、図9の構成は全ての有効画素領域21aを個別のMPD24を用いて蓄積制御するものである。したがって、図9の構成は、それぞれの各有効画素領域21aを1つのアイランド(1つの測距点)とするような構成のラインセンサについても適用することが可能である。
さらに、上記した実施形態には種々の段階の発明が含まれており、開示される複数の構成要件の適当な組合せにより種々の発明が抽出され得る。例えば、実施形態に示される全構成要件からいくつかの構成要件が削除されても、上述したような課題を解決でき、上述したような効果が得られる場合には、この構成要件が削除された構成も発明として抽出され得る。
本発明の一実施形態に係る焦点検出装置を有する撮像装置の一例としてのデジタル一眼レフレックスカメラの構成を示す図である。 AF光学系の2次結像系を模式的に示した図である。 図3(a)は測距点配置の一例を示す図であり、図3(b)は図3(a)に示す測距点配置において焦点状態を検出するためのAFセンサの光電変換素子列の配置例を示す図である。 ラインセンサの詳細な構成を示す図である。 MPD用電荷検出部の構成を示す電気回路図である。 AFセンサにおける蓄積制御動作について示すタイミングチャートである。 モニタフォトダイオードを用いた蓄積制御の概要について示す図である。 本発明の一実施形態の第1の変形例の構成を示す図である。 本発明の一実施形態の第2の変形例の構成を示す図である。
符号の説明
21…光電変換素子列、21a…有効画素領域、21b…無効画素領域、22…電荷転送路(CCD)、23…CCD用電荷検出部、24…モニタフォトダイオード(MPD)、25…MPD用電荷検出部、25a…配線部、26…蓄積制御回路、101…交換レンズ、102…フォーカスレンズ、103…レンズ駆動部、104…レンズCPU、105…通信コネクタ、110…カメラボディ、111…メインミラー、112…フォーカシングスクリーン、113…ペンタプリズム、114…接眼レンズ、115…サブミラー、116…コンデンサレンズ、117…全反射ミラー、119…セパレータレンズ、120…温度センサ、121…AFセンサ、122…AFコントローラ、123…システムコントローラ、124…撮像素子

Claims (11)

  1. 複数の被写体像を形成するための焦点検出光学系と、
    複数の画素を有し、前記焦点検出光学系により形成される複数の被写体像をそれぞれ光電変換する光電変換素子列と、
    前記光電変換素子列において光電変換されて得られる蓄積電荷を転送する電荷転送路と、
    前記電荷転送路により転送される蓄積電荷に関する信号に基づいて、複数の焦点検出領域に関して焦点検出を行う焦点検出部と、
    を具備し、
    前記光電変換素子列の前記画素の配列方向には、前記複数の焦点検出領域に対応する有効画素領域が複数配列されるとともに前記複数の有効画素領域の間に無効画素領域が配置されることを特徴とする焦点検出装置。
  2. 前記光電変換素子列は、前記画素の配列方向に平行に複数配置され、
    前記各光電変換素子列の間には、前記光電変換素子列で得られる蓄積電荷量をモニタするモニタフォトダイオードが配置されることを特徴とする請求項1に記載の焦点検出装置。
  3. 前記モニタフォトダイオードは、前記各光電変換素子列に配置される前記複数の有効画素領域に対応して複数個配置されることを特徴とする請求項2に記載の焦点検出装置。
  4. 前記無効画素領域の近傍には、前記モニタフォトダイオードの蓄積電荷を検出するモニタフォトダイオード電荷検出部が配置されることを特徴とする請求項3に記載の焦点検出装置。
  5. 前記モニタフォトダイオード電荷検出部の出力に基づいて前記各光電変換素子列における電荷蓄積動作を制御する蓄積制御部を有し、
    前記無効画素領域の近傍には、前記モニタフォトダイオード電荷検出部と前記蓄積制御部とを電気的に接続するための配線部が配置されることを特徴とする請求項4に記載の焦点検出装置。
  6. 前記無効画素領域における前記画素の配列方向と直交する方向の幅は、前記有効画素領域における前記画素の配列方向と直交する方向の幅よりも短いことを特徴とする請求項4に記載の焦点検出装置。
  7. 前記複数の光電変換素子列は互いに近接して配置されることを特徴とする請求項2に記載の焦点検出装置。
  8. 複数の被写体像を形成するための焦点検出光学系と、
    複数の画素を有し、該画素の配列方向に平行に複数配置される光電変換素子列であって、前記焦点検出光学系により形成される複数の被写体像をそれぞれ光電変換する複数の光電変換素子列と、
    前記各光電変換素子列に対応して設けられ、前記各光電変換素子列において光電変換されて得られる蓄積電荷をそれぞれ転送する複数の電荷転送路と、
    前記各電荷転送路により転送される蓄積電荷を電圧に変換して出力する1個の電荷電圧変換部と、
    前記電荷電圧変換部より出力される信号に基づいて、複数の焦点検出領域に関して焦点検出を行う焦点検出部と、
    を具備し、
    前記各光電変換素子列の前記画素の配列方向には、前記複数の焦点検出領域に対応する有効画素領域が複数配列されるとともに前記複数の有効画素領域の間に少なくとも1つの無効画素領域が配置されることを特徴とする焦点検出装置。
  9. 複数の被写体像を形成するための焦点検出光学系と、
    複数の画素を有し、該画素の配列方向に平行に複数配置される光電変換素子列であって、前記焦点検出光学系により形成される複数の被写体像をそれぞれ光電変換する複数の光電変換素子列と、
    前記各光電変換素子列に対応して設けられ、前記各光電変換素子列において光電変換されて得られる蓄積電荷をそれぞれ転送する複数の電荷転送路と、
    前記各電荷転送路に対応して設けられ、前記各光電変換素子列より転送される蓄積電荷をそれぞれ電圧に変換して出力する複数の電荷電圧変換部と、
    前記電荷電圧変換部より出力される信号に基づいて、複数の焦点検出領域に関して焦点検出を行う焦点検出部と、
    を具備し、
    前記各光電変換素子列の前記画素の配列方向には、前記複数の焦点検出領域に対応する有効画素領域が複数配列されるとともに前記複数の有効画素領域の間に少なくとも1つの無効画素領域が配置されることを特徴とする焦点検出装置。
  10. 前記光電変換素子列の間には、前記光電変換素子列で得られる蓄積電荷量をモニタするモニタフォトダイオードが配置されることを特徴とする請求項9に記載の焦点検出装置。
  11. 前記光電変換素子列と前記電荷転送路との間には、前記光電変換素子列で得られる蓄積電荷量をモニタするモニタフォトダイオードが配置されることを特徴とする請求項9に記載の焦点検出装置。
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