JP2008216140A - Transfer material transfer inspection method in electronic component installing device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a transfer material transfer inspection method in an electronic component installing device, capable of preventing an oversight of transfer material transfer failure, and of easily determining the quality of transfer material transfer, in a short time. <P>SOLUTION: This transfer material transfer inspection method in the electronic component installing device 100 is provided for installing an electronic component 40, having a bump 42 of transferring solder 31 on a body 41 on a base board, and comprises a step S11 of transferring the solder 31 to the electronic component 40, a step S12 of positioning the electronic component 40 of transferring the solder 31, steps S13, S14 and S15 of imaging the electronic component 40, steps S16 and S17 of acquiring luminance with each bump 42, by specifying a range (a window W1) for measuring the luminance of the bump 42 based on the positional data on the electronic component 40 provided by the steps S13, S14 and S15, and a step S18 of determining the quality of solder transfer, by comparing the luminance of the bump 42 with an electrode luminance reference value by every bump 42. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、電子部品装着装置における電子部品への転写材転写の検査方法に関する。   The present invention relates to an inspection method for transferring a transfer material onto an electronic component in an electronic component mounting apparatus.

従来、特許文献1に記載された電子部品装着装置におけるフラックス転写検査方法が知られている。この電子部品装着装置におけるフラックス転写検査方法では、電子部品装着装置において、電子部品のバンプにフラックスが転写され、このフラックス転写部の画像からフラックス転写領域が特定される。そして、フラックス転写領域のサイズからフラックス転写の良否が判定される。
特開2003−60398号公報
Conventionally, a flux transfer inspection method in an electronic component mounting apparatus described in Patent Document 1 is known. In the flux transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus, the flux is transferred to the bumps of the electronic component in the electronic component mounting apparatus, and the flux transfer region is specified from the image of the flux transfer portion. Then, the quality of the flux transfer is determined from the size of the flux transfer region.
JP 2003-60398 A

しかし、上記従来の電子部品装着装置におけるフラックス転写検査方法では、電子部品の1個又は数個のバンプのフラックス転写領域のサイズからフラックス転写の良否を判定しているだけで、すべてのバンプについてフラックス転写の良否を判定していない。そのため、フラックス転写不良のバンプが存在しても見落としてしまう可能性がある。また、バンプを撮像する際には通常、側射光源を用いる。ここで、バンプの中央部分は曲面であり、この部分で反射された光はカメラに入射し難いため、バンプの中央部分は暗い画像となるが、フラックスが転写されるとさらに暗い画像となる。そのため、画像に基づいてフラックス転写領域を特定するのは困難であり、多くの処理時間がかかる。   However, in the conventional flux transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus described above, it is only necessary to determine the quality of the flux transfer from the size of the flux transfer region of one or several bumps of the electronic component. The quality of the transfer is not judged. Therefore, even if there is a bump with poor flux transfer, it may be overlooked. In addition, a side light source is usually used when imaging the bump. Here, the central part of the bump is a curved surface, and the light reflected by this part is difficult to enter the camera. Therefore, the central part of the bump becomes a dark image, but when the flux is transferred, the image becomes darker. Therefore, it is difficult to specify the flux transfer region based on the image, and it takes a lot of processing time.

本発明は係る従来の問題点に鑑みてなされたものであり、転写材転写不良の見落としを防止でき、簡単かつ短時間で転写材転写の良否を判定することのできる電子部品装着装置における転写材転写検査方法を提供するものである。   The present invention has been made in view of the above-described conventional problems, and can prevent the transfer material transfer failure from being overlooked, and can easily determine whether the transfer material transfer is good or not in a short time. A transfer inspection method is provided.

上記の課題を解決するために、請求項1に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法の特徴は、転写材が転写される電極をボディ上に有する電子部品を基板に装着する電子部品装着装置における転写材転写検査方法において、前記電子部品に前記転写材を転写する転写工程と、転写材が転写された前記電子部品を位置決めする位置決め工程と、前記電子部品を撮像する撮像工程と、該撮像工程により得られた前記電子部品の位置データに基づいて、前記電極の輝度を測定する範囲を特定し、前記電極ごとの輝度を取得する電極輝度取得工程と、前記電極ごとに、電極の輝度と電極輝度基準値とを比較して、転写材転写の良否を判定する電極輝度判定工程と、を備えることである。   In order to solve the above problems, the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to claim 1 is characterized in that an electronic component mounting for mounting an electronic component having an electrode on the body to which the transfer material is transferred on a substrate. In the transfer material transfer inspection method in the apparatus, a transfer step of transferring the transfer material to the electronic component, a positioning step of positioning the electronic component to which the transfer material has been transferred, an imaging step of imaging the electronic component, Based on the position data of the electronic component obtained by the imaging process, the range for measuring the luminance of the electrode is specified, and the luminance of the electrode is obtained for each electrode, and the luminance of each electrode is obtained. And an electrode luminance reference value to determine whether the transfer material transfer is good or bad.

請求項2に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法の特徴は、転写材が転写される電極をボディ上に有する電子部品を基板に装着する電子部品装着装置における転写材転写検査方法において、転写材が転写される前の前記電子部品を位置決めする転写前位置決め工程と、前記電子部品を撮像する転写前撮像工程と、該転写前撮像工程により得られた前記電子部品の位置データに基づいて、前記電極の輝度を測定する範囲を特定し、前記電極ごとの輝度を取得する転写前電極輝度取得工程と、前記電子部品に前記転写材を転写する転写工程と、転写材が転写された前記電子部品を位置決めする転写後位置決め工程と、前記電子部品を撮像する転写後撮像工程と、前記転写前電極輝度取得工程により特定された前記電極の輝度を測定する範囲に基づいて、前記電極ごとの輝度を取得する転写後電極輝度取得工程と、前記電極ごとに、転写前の電極の輝度と、転写後の電極の輝度との輝度差を取得する電極輝度差取得工程と、前記電極ごとに、前記輝度差と電極輝度差基準値とを比較して、転写材転写の良否を判定する電極輝度差判定工程と、を備えることである。   The transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to claim 2 is characterized in that in the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus for mounting an electronic component having an electrode on the body to which the transfer material is transferred, on the substrate, Based on the pre-transfer positioning step of positioning the electronic component before the transfer material is transferred, the pre-transfer imaging step of imaging the electronic component, and the position data of the electronic component obtained by the pre-transfer imaging step , The range for measuring the luminance of the electrode is specified, the pre-transfer electrode luminance acquisition step for acquiring the luminance for each electrode, the transfer step for transferring the transfer material to the electronic component, and the transfer material transferred The post-transfer positioning step for positioning the electronic component, the post-transfer imaging step for imaging the electronic component, and the luminance of the electrode specified by the pre-transfer electrode luminance acquisition step are measured. The post-transfer electrode brightness acquisition step for acquiring the brightness for each electrode based on the range, and the electrode brightness difference for acquiring the brightness difference between the brightness of the electrode before transfer and the brightness of the electrode after transfer for each of the electrodes And an electrode luminance difference determining step of comparing the luminance difference and the electrode luminance difference reference value for each electrode to determine whether the transfer material transfer is good or bad.

請求項3に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法の特徴は、請求項1又は2において、前記電極の輝度は、前記電極の輝度を測定する範囲に含まれる画素の明るさの分布のうち、暗い方から所定の割合を除いた明るさの平均又は合計であることである。   The transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to claim 3 is characterized in that, in claim 1 or 2, the brightness of the electrode is a distribution of brightness of pixels included in a range in which the brightness of the electrode is measured. Of these, the average or total brightness excluding a predetermined ratio from the darker side.

請求項4に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法の特徴は、請求項1又は2において、前記電極はバンプであることである。   A feature of the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to claim 4 is that, in claim 1 or 2, the electrode is a bump.

請求項5に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法の特徴は、転写材が転写される電極をボディ上に有する電子部品を基板に装着する電子部品装着装置における転写材転写検査方法において、前記電子部品に前記転写材を転写する転写工程と、転写材が転写された前記電子部品を位置決めする位置決め工程と、前記電子部品を撮像する撮像工程と、該撮像工程により得られた前記電子部品の位置データに基づいて、転写材の転写により前記電子部品の破損を招き得るボディの転写禁止領域の輝度を測定する範囲を特定し、該転写禁止領域の輝度を取得する転写禁止領域輝度取得工程と、前記転写禁止領域の輝度と転写禁止領域輝度基準値とを比較して、転写材転写の良否を判定する転写禁止領域輝度判定工程と、を備えることである。   The transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to claim 5 is characterized in that in the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus for mounting an electronic component having an electrode on the body to which the transfer material is transferred, on the substrate, A transfer step of transferring the transfer material to the electronic component; a positioning step of positioning the electronic component to which the transfer material has been transferred; an imaging step of imaging the electronic component; and the electronic component obtained by the imaging step A transfer prohibition region luminance acquisition step for identifying a range for measuring the luminance of the transfer prohibition region of the body that may cause damage to the electronic component due to transfer of the transfer material, and acquiring the luminance of the transfer prohibition region based on the position data of And a transfer prohibition region luminance determination step for comparing the transfer prohibition region luminance with a transfer prohibition region luminance reference value to determine whether the transfer material transfer is good or bad. .

請求項6に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法の特徴は、転写材が転写される電極をボディ上に有する電子部品を基板に装着する電子部品装着装置における転写材転写検査方法において、転写材が転写される前の前記電子部品を位置決めする転写前位置決め工程と、前記電子部品を撮像する転写前撮像工程と、該転写前撮像工程により得られた前記電子部品の位置データに基づいて、転写材の転写により前記電子部品の破損を招き得るボディの転写禁止領域の輝度を測定する範囲を特定し、該転写禁止領域の輝度を取得する転写前転写禁止領域輝度取得工程と、前記電子部品に前記転写材を転写する転写工程と、転写材が転写された前記電子部品を位置決めする転写後位置決め工程と、前記電子部品を撮像する転写後撮像工程と、前記転写前転写禁止領域輝度取得工程により特定された前記転写禁止領域の輝度を測定する範囲に基づいて、前記転写禁止領域の輝度を取得する転写後転写禁止領域輝度取得工程と、転写前の転写禁止領域の輝度と、転写後の転写禁止領域の輝度との輝度差を取得する転写禁止領域輝度差取得工程と、前記輝度差と転写禁止領域輝度差基準値とを比較して、転写材転写の良否を判定する転写禁止領域輝度差判定工程と、を備えることである。   The transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to claim 6 is characterized in that in the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus for mounting an electronic component having an electrode on the body to which the transfer material is transferred, on the substrate, Based on the pre-transfer positioning step of positioning the electronic component before the transfer material is transferred, the pre-transfer imaging step of imaging the electronic component, and the position data of the electronic component obtained by the pre-transfer imaging step Specifying a range for measuring the luminance of the transfer prohibited area of the body that may cause damage to the electronic component due to transfer of the transfer material, and acquiring the luminance of the transfer prohibited area before transfer to acquire the luminance of the transfer prohibited area; A transfer step of transferring the transfer material to the component; a post-transfer positioning step of positioning the electronic component to which the transfer material has been transferred; and a post-transfer imaging step of imaging the electronic component A post-transfer prohibition area luminance acquisition step for acquiring the luminance of the transfer prohibition area based on a range for measuring the luminance of the transfer prohibition area specified by the pre-transfer prohibition area luminance acquisition step; A transfer prohibition region luminance difference acquisition step for acquiring a luminance difference between the luminance of the transfer prohibition region and the luminance of the transfer prohibition region after the transfer is compared with the reference value of the luminance difference and the transfer prohibition region luminance difference. And a transfer prohibition region luminance difference determination step for determining transfer quality.

請求項7に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法の特徴は、請求項5又は6において、   A feature of the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to claim 7 is as follows:

前記転写禁止領域の輝度は、前記転写禁止領域の輝度を測定する範囲に含まれる画素の明るさの平均又は合計であることである。   The brightness of the transfer prohibited area is an average or total brightness of pixels included in a range in which the brightness of the transfer prohibited area is measured.

請求項8に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法の特徴は、請求項1乃至7のいずれか1項において、前記転写材は半田であることである。   A feature of the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to claim 8 is that, in any one of claims 1 to 7, the transfer material is solder.

請求項9に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法の特徴は、請求項1乃至7のいずれか1項において、前記転写材はフラックスであることである。   A feature of the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to claim 9 is that, in any one of claims 1 to 7, the transfer material is a flux.

請求項1に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法においては、電極輝度判定工程において、電極ごとに、電極の輝度と電極輝度基準値とを比較して、転写材転写の良否を判定するため、転写材転写不良の電極を見落とすことはない。また、電極輝度取得工程において、電子部品の位置データに基づいて電極の輝度を測定する範囲を特定しているため、転写材転写部の画像から特定する場合に比較して、簡単かつ短時間で電極の輝度を測定する範囲を特定することができる。したがって、この転写材転写検査方法によれば、転写材転写不良の見落としを防止でき、簡単かつ短時間で転写材転写の良否を判定することができる。   In the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to claim 1, in the electrode brightness determination step, the transfer brightness transfer quality is determined for each electrode by comparing the brightness of the electrode with the electrode brightness reference value. Therefore, the transfer material transfer failure electrode is not overlooked. In addition, in the electrode luminance acquisition process, the range for measuring the luminance of the electrode is specified based on the position data of the electronic component, so it is easier and faster than when specifying from the image of the transfer material transfer portion. A range in which the luminance of the electrode is measured can be specified. Therefore, according to this transfer material transfer inspection method, it is possible to prevent the transfer material transfer failure from being overlooked, and to determine whether the transfer material transfer is good or not in a short time.

請求項2に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法においては、電極輝度差判定工程において、電極ごとに、転写前後における電極の輝度差と電極輝度差基準値とを比較して転写材転写の良否を判定するため、転写材転写不良の電極を見落とすことはない。また、転写前電極輝度取得工程及び転写後電極輝度取得工程において、電子部品の位置データに基づいて電極の輝度を測定する範囲を特定しているため、転写材転写部の画像から特定する場合に比較して、簡単かつ短時間で電極の輝度を測定する範囲を特定することができる。したがって、この転写材転写検査方法によれば、転写材転写不良の見落としを防止でき、簡単かつ短時間で転写材転写の良否を判定することができる。   In the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to claim 2, in the electrode brightness difference determination step, the transfer material transfer is performed for each electrode by comparing the brightness difference of the electrode before and after transfer with the electrode brightness difference reference value. Therefore, the transfer material transfer failure electrode is not overlooked. In addition, in the pre-transfer electrode luminance acquisition step and the post-transfer electrode luminance acquisition step, the range for measuring the luminance of the electrode is specified based on the position data of the electronic component, so when specifying from the image of the transfer material transfer portion In comparison, it is possible to specify a range in which the luminance of the electrode is measured easily and in a short time. Therefore, according to this transfer material transfer inspection method, it is possible to prevent the transfer material transfer failure from being overlooked, and to determine whether the transfer material transfer is good or not in a short time.

請求項3に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法においては、電極の輝度を測定する範囲に含まれる画素の明るさの分布のうち、暗い方から所定の割合を除いた明るさの平均又は合計を電極の輝度としているため、より正確に電極の明るさを求めることができる。   In the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to claim 3, in the brightness distribution of pixels included in a range in which the luminance of the electrode is measured, the average brightness excluding a predetermined ratio from the darker one Or since the sum is made into the brightness | luminance of an electrode, the brightness of an electrode can be calculated | required more correctly.

請求項4に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法においては、電極がバンプであり、この場合においても転写材転写の良否の判定に適している。   In the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to the fourth aspect, the electrodes are bumps, and in this case as well, the transfer material transfer inspection is suitable.

請求項5に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法においては、転写禁止領域輝度判定工程において、転写禁止領域の輝度と転写禁止領域輝度基準値とを比較して、転写材転写の良否を判定するため、転写材転写不良のボディを見落とすことはない。また、転写禁止領域輝度取得工程において、電子部品の位置データに基づいて転写禁止領域の輝度を測定する範囲を特定しているため、転写材転写部の画像から特定する場合に比較して、簡単かつ短時間で転写禁止領域の輝度を測定する範囲を特定することができる。したがって、この転写材転写検査方法によれば、転写材転写不良の見落としを防止でき、簡単かつ短時間で転写材転写の良否を判定することができる。   In the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to claim 5, in the transfer prohibition region luminance determination step, the transfer prohibition region luminance reference value is compared with the transfer prohibition region luminance reference value to determine whether the transfer material transfer is good or bad. Therefore, the body of the transfer material transfer failure is not overlooked. In addition, in the transfer prohibition area luminance acquisition step, the range for measuring the luminance of the transfer prohibition area is specified based on the position data of the electronic component, so it is easier than when specifying from the image of the transfer material transfer portion. In addition, it is possible to specify a range in which the luminance of the transfer prohibited area is measured in a short time. Therefore, according to this transfer material transfer inspection method, it is possible to prevent the transfer material transfer failure from being overlooked, and to determine whether the transfer material transfer is good or not in a short time.

請求項6に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法においては、転写禁止領域輝度差判定工程において、転写前後における転写禁止領域の輝度差と転写禁止領域輝度差基準値とを比較して、転写材転写の良否を判定するため、転写材転写不良のボディを見落とすことはない。また、転写前転写禁止領域輝度取得工程及び転写後転写禁止領域輝度取得工程において、電子部品の位置データに基づいて転写禁止領域の輝度を測定する範囲を特定しているため、転写材転写部の画像から特定する場合に比較して、簡単かつ短時間で転写禁止領域の輝度を測定する範囲を特定することができる。したがって、この転写材転写検査方法によれば、転写材転写不良の見落としを防止でき、簡単かつ短時間で転写材転写の良否を判定することができる。   In the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to claim 6, in the transfer prohibited area luminance difference determination step, the luminance difference of the transfer prohibited area before and after the transfer and the transfer prohibited area luminance difference reference value are compared, In order to determine the quality of transfer material transfer, the body of transfer material transfer failure is not overlooked. Further, in the pre-transfer prohibition area luminance acquisition step and the post-transfer prohibition area luminance acquisition step, the range for measuring the luminance of the transfer prohibition area is specified based on the position data of the electronic component. Compared with the case of specifying from the image, it is possible to specify the range in which the luminance of the transfer prohibited area is measured easily and in a short time. Therefore, according to this transfer material transfer inspection method, it is possible to prevent the transfer material transfer failure from being overlooked, and to determine whether the transfer material transfer is good or not in a short time.

請求項7に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法においては、転写禁止領域の輝度を測定する範囲に含まれる画素の明るさの平均又は合計を転写禁止領域の輝度としているため、正確に転写禁止領域の明るさを求めることができる。   In the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to claim 7, since the average or total brightness of the pixels included in the range in which the luminance of the transfer prohibited area is measured is used as the luminance of the transfer prohibited area, The brightness of the transfer prohibited area can be obtained.

請求項8に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法においては、転写材が半田であるため、半田転写の良否を判定することができる。   In the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to the eighth aspect, since the transfer material is solder, the quality of the solder transfer can be determined.

請求項9に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法においては、転写材がフラックスであるため、フラックス転写の良否を判定することができる。   In the transfer material transfer inspection method in the electronic component mounting apparatus according to the ninth aspect, since the transfer material is a flux, it is possible to determine the quality of the flux transfer.

本発明に係る電子部品装着装置における転写材転写検査方法を具体化した実施形態1〜4を図面に基づいて以下に説明する。図1に示すように、実施形態1の転写材転写検査方法に用いられる電子部品装着装置100は、部品供給装置70、基板搬送装置80及び部品移載装着90を備えている。   Embodiments 1 to 4 embodying a transfer material transfer inspection method in an electronic component mounting apparatus according to the present invention will be described below with reference to the drawings. As shown in FIG. 1, the electronic component mounting apparatus 100 used in the transfer material transfer inspection method of Embodiment 1 includes a component supply device 70, a substrate transport device 80, and a component transfer mounting 90.

部品供給装置70は、基枠99上に複数のカセット式フィーダ71を並設して構成したものである。カセット式フィーダ71は、基枠99に離脱可能に取り付けた本体72と、本体72の後部に設けた供給リール73と、本体72の先端に設けた部品取出部74を備えている。供給リール73には電子部品が所定ピッチで封入された細長いテープ(図示省略)が巻回保持され、このテープがスプロケット(図示省略)により所定ピッチで引き出され、電子部品が封入状態を解除されて部品取出部74に順次送り込まれる。   The component supply apparatus 70 is configured by arranging a plurality of cassette type feeders 71 in parallel on a base frame 99. The cassette type feeder 71 includes a main body 72 detachably attached to the base frame 99, a supply reel 73 provided at the rear portion of the main body 72, and a component take-out portion 74 provided at the tip of the main body 72. An elongated tape (not shown) in which electronic components are enclosed at a predetermined pitch is wound and held on the supply reel 73, and this tape is pulled out at a predetermined pitch by a sprocket (not shown), so that the electronic component is released from the enclosed state. The components are sequentially sent to the component extraction unit 74.

また、部品供給装置70と基板搬送装置80の間には、光源装置21を備えた撮像装置20及び半田31を収容した半田槽30が設けられている。図2に示すように、この撮像装置20の位置が画像認識ステーションST1であり、半田槽30の位置が半田転写ステーションST2である。撮像装置20は、制御装置10に電気的に接続されている。画像認識ステーションST1において、装着ヘッド15の吸着ノズル16の先端に吸着された電子部品40が撮像装置20により撮像され、画像データが制御装置10に入力される。光源装置21は半球状をなし、同心円上に配置された上方光源22と下方光源23とを有している。上方光源22は、光源装置21の上方に配置され、装着ヘッド15の吸着ノズル16の先端に吸着された電子部品40を横方向から照らすものである。また、下方光源23は、光源装置21の下方に配置され、吸着ノズル16の先端に吸着された電子部品40を下方向から照らすものである。また、半田転写ステーションST2において、装着ヘッド15が上下方向に移動されることにより、吸着ノズル16の先端に吸着された電子部品40に半田槽30の半田31が転写される。なお、部品移載装置90は、図1においては後方に退いているが、電子部品40を撮像する際には画像認識ステーションST1、電子部品40に半田31を転写する際には半田転写ステーションST2の上方に移動している。ここで、半田31が「転写材」である。   In addition, between the component supply device 70 and the substrate transfer device 80, an imaging device 20 including the light source device 21 and a solder tank 30 containing the solder 31 are provided. As shown in FIG. 2, the position of the imaging device 20 is an image recognition station ST1, and the position of the solder bath 30 is a solder transfer station ST2. The imaging device 20 is electrically connected to the control device 10. In the image recognition station ST <b> 1, the electronic component 40 attracted to the tip of the suction nozzle 16 of the mounting head 15 is imaged by the imaging device 20, and image data is input to the control device 10. The light source device 21 has a hemispherical shape, and includes an upper light source 22 and a lower light source 23 arranged concentrically. The upper light source 22 is disposed above the light source device 21 and illuminates the electronic component 40 sucked at the tip of the suction nozzle 16 of the mounting head 15 from the lateral direction. The lower light source 23 is disposed below the light source device 21 and illuminates the electronic component 40 sucked at the tip of the suction nozzle 16 from below. Further, in the solder transfer station ST2, the mounting head 15 is moved in the vertical direction, whereby the solder 31 in the solder bath 30 is transferred to the electronic component 40 sucked at the tip of the suction nozzle 16. The component transfer device 90 is retracted backward in FIG. 1, but when the electronic component 40 is imaged, the image recognition station ST1, and when the solder 31 is transferred to the electronic component 40, the solder transfer station ST2. Is moving above. Here, the solder 31 is a “transfer material”.

図1に示すように、基板搬送装置80は、プリント基板をX軸方向に搬送し、第1搬送装置81及び第2搬送装置82を2列並設したいわゆるダブルコンベアタイプのものである。第1搬送装置81(第2搬送装置82)は、基台83上に一対のガイドレール84a、84b(85a、85b)を互い平行に対向させてそれぞれ水平に並設し、このガイドレール84a、84b(85a、85b)によりそれぞれ案内されるプリント基板を支持して搬送する一対のコンベアベルト(図示省略)を互いに対向させて並設して構成されたものである。また、基板搬送装置80には所定位置まで搬送されたプリント基板を押し上げてクランプするクランプ装置(図示省略)が設けられ、このクランプ装置によってプリント基板が装着位置で位置決め固定される。   As shown in FIG. 1, the board transport device 80 is of a so-called double conveyor type in which a printed circuit board is transported in the X-axis direction and a first transport device 81 and a second transport device 82 are arranged in two rows. The first transport device 81 (second transport device 82) has a pair of guide rails 84a and 84b (85a and 85b) arranged parallel to each other on the base 83 in parallel with each other. A pair of conveyor belts (not shown) that support and convey the printed circuit boards respectively guided by 84b (85a, 85b) are arranged to face each other. Also, the substrate transport device 80 is provided with a clamp device (not shown) that pushes up and clamps the printed circuit board transported to a predetermined position, and the printed circuit board is positioned and fixed at the mounting position by the clamp device.

部品移載装置90はXYロボットタイプのものであり、基枠99上に装架されて基板搬送装置80および部品供給装置70の上方に配設され、Y軸モータ12によりY軸方向に移動されるY軸スライダ93を備えている。このY軸スライダ93には、電子部品40を吸着してプリント基板に装着する装着ヘッド15が取り付けられている。図2に示すように、装着ヘッド15は先端に電子部品40を吸着する吸着ノズル16を有しており、吸着ノズル16はθ軸モータ14によってノズル軸を中心に回転可能となっている。装着ヘッド15は、X軸モータ11およびY軸モータ12によって水平なX−Y平面内で移動可能となっており、また、Z軸モータ13によってX−Y平面に垂直なZ軸方向に上下移動可能となっている。これらX軸モータ11、Y軸モータ12、Z軸モータ13及びθ軸モータ14は制御装置10に電気的に接続されており、制御装置10の指令により駆動される。   The component transfer device 90 is of the XY robot type, is mounted on the base frame 99 and disposed above the substrate transfer device 80 and the component supply device 70 and is moved in the Y-axis direction by the Y-axis motor 12. Y-axis slider 93 is provided. A mounting head 15 for attaching the electronic component 40 to the printed circuit board is attached to the Y-axis slider 93. As shown in FIG. 2, the mounting head 15 has a suction nozzle 16 that sucks the electronic component 40 at the tip, and the suction nozzle 16 can be rotated around the nozzle axis by a θ-axis motor 14. The mounting head 15 can be moved in the horizontal XY plane by the X-axis motor 11 and the Y-axis motor 12, and is moved up and down in the Z-axis direction perpendicular to the XY plane by the Z-axis motor 13. It is possible. These X-axis motor 11, Y-axis motor 12, Z-axis motor 13 and θ-axis motor 14 are electrically connected to the control device 10 and are driven by commands from the control device 10.

図3及び図4は、光源装置21の上方光源22を点灯し、撮像装置20により撮像された電子部品40の画像を示す図である。図3が半田転写前の画像を示す図であり、図4が半田転写後の画像を示す図である。電子部品40は、ボディ41に複数のバンプ42が配置されている。電子部品40の画像は、ボディ41が暗く、バンプ42が明るいものとなっている。また、半田転写前のバンプ42よりも半田転写後のバンプ42の方が暗くなっている。この半田転写前後のバンプ42の輝度の平均値から電極輝度基準値が予め求められる。バンプ42の輝度が電極輝度基準値以下である場合、半田31の転写が正常に行われたと判断される。また、バンプ42の輝度が電極輝度基準値より大きい場合、半田31の転写が正常に行われていないと判断される。ここで、バンプ42が「電極」である。   3 and 4 are diagrams illustrating an image of the electronic component 40 captured by the imaging device 20 with the upper light source 22 of the light source device 21 turned on. FIG. 3 is a diagram showing an image before solder transfer, and FIG. 4 is a diagram showing an image after solder transfer. The electronic component 40 has a plurality of bumps 42 disposed on a body 41. In the image of the electronic component 40, the body 41 is dark and the bumps 42 are bright. Further, the bump 42 after the solder transfer is darker than the bump 42 before the solder transfer. An electrode luminance reference value is obtained in advance from the average value of the luminance of the bumps 42 before and after the solder transfer. When the brightness of the bump 42 is equal to or lower than the electrode brightness reference value, it is determined that the transfer of the solder 31 has been performed normally. When the brightness of the bump 42 is larger than the electrode brightness reference value, it is determined that the transfer of the solder 31 is not performed normally. Here, the bumps 42 are “electrodes”.

次に、実施形態1の転写材転写検査方法を図5に示す半田転写プログラムのフローチャートを用いて説明する。この半田転写プログラムの実行が開始されると、まず、ステップS10において、X軸モータ11、Y軸モータ12、及びθ軸モータ14が駆動され、電子部品40が半田転写ステーションST2に移動される。ステップS11において、Z軸モータ13が駆動されることにより装着ヘッド15が上下方向に移動され、電子部品40に半田31が転写される。ここで、ステップS11が「転写工程」である。   Next, the transfer material transfer inspection method according to the first embodiment will be described with reference to the flowchart of the solder transfer program shown in FIG. When the execution of the solder transfer program is started, first, in step S10, the X-axis motor 11, the Y-axis motor 12, and the θ-axis motor 14 are driven, and the electronic component 40 is moved to the solder transfer station ST2. In step S 11, the mounting head 15 is moved in the vertical direction by driving the Z-axis motor 13, and the solder 31 is transferred to the electronic component 40. Here, step S11 is a “transfer process”.

ステップS12においては、X軸モータ11、Y軸モータ12、Z軸モータ13及びθ軸モータ14が駆動され、電子部品40が画像認識ステーションST1の所定の位置に位置決めされる。ここで、ステップS12が「位置決め工程」である。   In step S12, the X-axis motor 11, the Y-axis motor 12, the Z-axis motor 13, and the θ-axis motor 14 are driven to position the electronic component 40 at a predetermined position in the image recognition station ST1. Here, step S12 is a “positioning step”.

ステップS13においては、光源装置21の上方光源22が点灯される。ステップS14においては、電子部品40が撮像装置20により撮像され、その画像データが制御装置10に入力される。ステップS15においては、バンプ42全体の画像データから、バンプ42の位置の座標調整が行われる。すなわち、制御装置10には画像認識ステーションST1の所定の位置におけるバンプ42の位置の座標が予め記憶されており、バンプ42全体の画像データを参照して、実際のバンプ42の位置の座標が調整されるのである。なお、バンプ42全体の画像を用いるのではなく、四隅のバンプ42の画像等によりバンプ42の位置の座標調整を行ってもよい。ここで、ステップS13、S14、S15が「撮像工程」である。   In step S13, the upper light source 22 of the light source device 21 is turned on. In step S <b> 14, the electronic component 40 is imaged by the imaging device 20, and the image data is input to the control device 10. In step S15, the coordinate adjustment of the position of the bump 42 is performed from the image data of the entire bump 42. That is, the coordinates of the position of the bump 42 at a predetermined position of the image recognition station ST1 are stored in advance in the control device 10, and the coordinates of the actual position of the bump 42 are adjusted with reference to the image data of the entire bump 42. It is done. Instead of using the image of the entire bump 42, the coordinates of the position of the bump 42 may be adjusted based on the images of the bumps 42 at the four corners. Here, steps S13, S14, and S15 are “imaging process”.

ステップS16においては、図6に示すように、1個のバンプ42について、算出されたバンプ42の中心位置からバンプ42に外接する矩形のウインドウW1が作成される。このウインドウW1が「電極の輝度を測定する範囲」である。ただし、ウインドウW1は必ずしも矩形でなくてもよい。ステップS17においては、バンプ42の輝度が求められる。具体的には、ウインドウW1に含まれるすべての画素の明るさの分布を求め、暗い方から25%の画素を除いて、画素の明るさの平均を求める。そして、この画素の明るさの平均がバンプ42の輝度とされる。このようにすることにより、正確にバンプ42の輝度を求めることができる。すなわち、図6に示すように、バンプ42は球形であるのに対し、ウインドウW1はバンプ42に外接する矩形をなすため、ウインドウW1の四隅にボディ41の一部が含まれることになる。そして、光源装置21の上方光源22が点灯されているため、このボディ41の一部は最も暗く撮像される。したがって、暗い方から25%の画素を除くことにより、ボディ41の画像データを除外することができ、正確にバンプ42の輝度を求めることができる。なお、ウインドウW1に含まれるすべての画素の明るさの分布を求め、暗い方から25%の画素を除いて、画素の明るさの合計値を輝度としてもよい。ここで、ステップS16、S17が「電極輝度取得工程」である。   In step S16, as shown in FIG. 6, for one bump 42, a rectangular window W1 circumscribing the bump 42 from the calculated center position of the bump 42 is created. This window W1 is “a range in which the luminance of the electrode is measured”. However, the window W1 is not necessarily rectangular. In step S17, the brightness of the bump 42 is obtained. Specifically, the brightness distribution of all the pixels included in the window W1 is obtained, and the average of the brightness of the pixels is obtained by excluding 25% of pixels from the dark side. The average brightness of the pixels is the brightness of the bump 42. By doing in this way, the brightness | luminance of the bump 42 can be calculated | required correctly. That is, as shown in FIG. 6, the bump 42 has a spherical shape, whereas the window W1 forms a rectangle circumscribing the bump 42, and therefore, the body 41 includes a part of the four corners of the window W1. Since the upper light source 22 of the light source device 21 is turned on, a part of the body 41 is imaged darkest. Therefore, by removing 25% of pixels from the darker side, the image data of the body 41 can be excluded, and the brightness of the bumps 42 can be accurately obtained. Note that the brightness distribution of all the pixels included in the window W1 may be obtained, and 25% of the pixels from the darker side may be excluded, and the total brightness of the pixels may be used as the luminance. Here, steps S16 and S17 are the “electrode luminance acquisition step”.

ステップS18においては、バンプ42の輝度が電極輝度基準値以下であるか否かが調べられる。バンプ42の輝度が電極輝度基準値以下である場合(YES)、半田31の転写が正常に行われていると判断し、ステップS19が実行される。また、バンプ42の輝度が電極輝度基準値より大きい場合(NO)、半田31の転写が正常に行われていないと判断し、ステップS20が実行される。ここで、ステップS18が「電極輝度判定工程」である。   In step S18, it is checked whether or not the brightness of the bump 42 is equal to or lower than the electrode brightness reference value. When the brightness of the bump 42 is equal to or lower than the electrode brightness reference value (YES), it is determined that the transfer of the solder 31 is normally performed, and step S19 is executed. If the luminance of the bump 42 is greater than the electrode luminance reference value (NO), it is determined that the transfer of the solder 31 is not performed normally, and step S20 is executed. Here, step S18 is an “electrode brightness determination step”.

ステップS19においては、すべてのバンプ42について輝度判定が終了したか否かが調べられる。すべてのバンプ42について輝度判定が終了した場合(YES)、半田転写プログラムが終了される。また、すべてのバンプ42について輝度判定が終了しない場合(NO)、ステップS16に戻り、次のバンプ42について輝度取得及び輝度判定が行われる。ステップS20においては、エラー処理が行われた後、半田転写プログラムが終了される。   In step S19, it is checked whether or not the luminance determination has been completed for all the bumps 42. When the luminance determination is finished for all the bumps 42 (YES), the solder transfer program is finished. If the luminance determination is not completed for all the bumps 42 (NO), the process returns to step S16, and the luminance acquisition and the luminance determination are performed for the next bump 42. In step S20, after error processing is performed, the solder transfer program is terminated.

実施形態1に係る転写材転写検査方法においては、ステップS18において、バンプ42ごとに、バンプ42の輝度と電極輝度基準値とを比較して、半田31の転写の良否を判定するため、半田転写不良のバンプ42を見落とすことはない。また、ステップS16、S17において、電子部品40の位置データに基づいてバンプ42の輝度を測定する範囲(ウインドウW1)を特定しているため、バンプ42の画像から特定する場合に比較して、簡単かつ短時間でバンプ42の輝度を測定する範囲(ウインドウW1)を特定することができる。したがって、この転写材転写検査方法によれば、半田転写不良の見落としを防止でき、簡単かつ短時間で半田転写の良否を判定することができる。   In the transfer material transfer inspection method according to the first embodiment, in step S18, for each bump 42, the brightness of the bump 42 and the electrode brightness reference value are compared to determine whether the transfer of the solder 31 is good. The defective bump 42 is not overlooked. In steps S16 and S17, since the range (window W1) for measuring the luminance of the bump 42 is specified based on the position data of the electronic component 40, it is simpler than the case of specifying from the image of the bump 42. In addition, it is possible to specify the range (window W1) in which the luminance of the bump 42 is measured in a short time. Therefore, according to this transfer material transfer inspection method, it is possible to prevent oversight of defective solder transfer, and to determine whether the solder transfer is good or not in a short time.

次に、実施形態2の転写材転写検査方法について説明する。実施形態2の転写材転写検査方法においても、実施形態1と同様、図1、2に示す電子部品装着装置100が用いられる。また、図3及び図4に示す撮像装置20により撮像された電子部品40の画像データから、半田転写前後のバンプ42の輝度の差である電極輝度差基準値が予め求められる。半田転写前後のバンプ42の輝度差が電極輝度差基準値以上である場合、半田31の転写が正常に行われたと判断される。また、半田転写前後のバンプ42の輝度差が電極輝度差基準値より小さい場合、半田31の転写が正常に行われていないと判断される。   Next, a transfer material transfer inspection method according to the second embodiment will be described. In the transfer material transfer inspection method according to the second embodiment, as in the first embodiment, the electronic component mounting apparatus 100 shown in FIGS. Also, an electrode luminance difference reference value, which is a difference in luminance of the bumps 42 before and after solder transfer, is obtained in advance from the image data of the electronic component 40 imaged by the imaging device 20 shown in FIGS. If the brightness difference between the bumps 42 before and after the solder transfer is equal to or greater than the electrode brightness difference reference value, it is determined that the transfer of the solder 31 has been performed normally. If the luminance difference between the bumps 42 before and after the solder transfer is smaller than the electrode luminance difference reference value, it is determined that the transfer of the solder 31 is not performed normally.

実施形態2の転写材転写検査方法を図7に示す半田転写プログラムのフローチャートを用いて説明する。この半田転写プログラムの実行が開始されると、まず、ステップS30において、X軸モータ11、Y軸モータ12、Z軸モータ13及びθ軸モータ14が駆動され、電子部品40が画像認識ステーションST1の所定の位置に位置決めされる。ここで、ステップS30が「転写前位置決め工程」である。   A transfer material transfer inspection method according to the second embodiment will be described with reference to a flowchart of a solder transfer program shown in FIG. When the execution of the solder transfer program is started, first, in step S30, the X-axis motor 11, the Y-axis motor 12, the Z-axis motor 13, and the θ-axis motor 14 are driven, and the electronic component 40 is moved to the image recognition station ST1. It is positioned at a predetermined position. Here, step S30 is a “pre-transfer positioning step”.

ステップS31においては、光源装置21の上方光源22が点灯される。ステップS32においては、電子部品40が撮像装置20により撮像され、その画像データが制御装置10に入力される。ステップS33においては、バンプ42全体の画像データから、バンプ42の位置の座標調整が行われる。座標調整の方法は、実施形態1と同様である。ここで、ステップS31、S32、S33が「転写前撮像工程」である。   In step S31, the upper light source 22 of the light source device 21 is turned on. In step S <b> 32, the electronic component 40 is imaged by the imaging device 20, and the image data is input to the control device 10. In step S33, the coordinate adjustment of the position of the bump 42 is performed from the image data of the entire bump 42. The coordinate adjustment method is the same as in the first embodiment. Here, steps S31, S32, and S33 are “pre-transfer imaging process”.

ステップS34においては、1個のバンプ42についてウインドウW1が作成される。具体的には、ステップS33で算出されたバンプ42の中心位置からバンプ42に外接する矩形のウインドウW1が作成される。このウインドウW1が「電極の輝度を測定する範囲」である。ただし、ウインドウW1は必ずしも矩形でなくてもよい。ステップS35においては、バンプ42の輝度が求められる。このバンプ42の輝度は、制御装置10のメモリに記憶される。バンプ42の輝度を求める具体的方法は、実施形態1のステップS16、S17と同様である。ここで、ステップS34、S35が「転写前電極輝度取得工程」である。   In step S34, a window W1 is created for one bump 42. Specifically, a rectangular window W1 circumscribing the bump 42 is created from the center position of the bump 42 calculated in step S33. This window W1 is “a range in which the luminance of the electrode is measured”. However, the window W1 is not necessarily rectangular. In step S35, the brightness of the bump 42 is obtained. The brightness of the bump 42 is stored in the memory of the control device 10. A specific method for obtaining the brightness of the bump 42 is the same as steps S16 and S17 of the first embodiment. Here, Steps S34 and S35 are “a pre-transfer electrode luminance acquisition step”.

ステップS36においては、すべてのバンプ42について輝度が求められたか否かが調べられる。すべてのバンプ42について輝度が求められた場合(YES)、ステップS37が実行される。また、すべてのバンプ42について輝度が求められていない場合(NO)、ステップS34に戻り、次のバンプ42についてウインドウW1の作成及びバンプ42の輝度取得が行われる。   In step S36, it is checked whether or not the luminance has been obtained for all the bumps 42. When the luminance is obtained for all the bumps 42 (YES), step S37 is executed. If the luminance has not been obtained for all the bumps 42 (NO), the process returns to step S34 to create the window W1 and obtain the luminance of the bump 42 for the next bump 42.

ステップS37においては、X軸モータ11、Y軸モータ12、及びθ軸モータ14が駆動され、電子部品40が半田転写ステーションST2に移動される。ステップS38において、Z軸モータ13が駆動されることにより装着ヘッド15が上下方向に移動され、電子部品40に半田31が転写される。ここで、ステップS38が「転写工程」である。   In step S37, the X-axis motor 11, the Y-axis motor 12, and the θ-axis motor 14 are driven, and the electronic component 40 is moved to the solder transfer station ST2. In step S <b> 38, the mounting head 15 is moved in the vertical direction by driving the Z-axis motor 13, and the solder 31 is transferred to the electronic component 40. Here, step S38 is a “transfer process”.

ステップS39において、X軸モータ11、Y軸モータ12、Z軸モータ13及びθ軸モータ14が駆動され、電子部品40が画像認識ステーションST1の所定の位置に位置決めされる。ここで、ステップS39が「転写後位置決め工程」である。   In step S39, the X-axis motor 11, the Y-axis motor 12, the Z-axis motor 13, and the θ-axis motor 14 are driven to position the electronic component 40 at a predetermined position in the image recognition station ST1. Here, step S39 is a “post-transfer positioning step”.

ステップS40においては、光源装置21の上方光源22が点灯される。ステップS41においては、電子部品40が撮像装置20により撮像され、その画像データが制御装置10に入力される。ここで、ステップS40、S41が「転写後撮像工程」である。   In step S40, the upper light source 22 of the light source device 21 is turned on. In step S <b> 41, the electronic component 40 is imaged by the imaging device 20, and the image data is input to the control device 10. Here, steps S40 and S41 are “post-transfer imaging process”.

ステップS42においては、1個のバンプ42について、ステップS34と同様の方法でウインドウW1が作成される。ステップS43においては、バンプ42の輝度が求められる。このバンプ42の輝度は、制御装置10のメモリに記憶される。バンプ42の輝度を求める具体的方法は、実施形態1のステップS16、S17と同様である。ここで、ステップS42、S43が「転写後電極輝度取得工程」である。   In step S42, a window W1 is created for one bump 42 by the same method as in step S34. In step S43, the brightness of the bump 42 is obtained. The brightness of the bump 42 is stored in the memory of the control device 10. A specific method for obtaining the brightness of the bump 42 is the same as steps S16 and S17 of the first embodiment. Here, Steps S42 and S43 are “post-transfer electrode luminance acquisition step”.

ステップS44においては、すべてのバンプ42について輝度が求められたか否かが調べられる。すべてのバンプ42について輝度が求められた場合(YES)、ステップS45が実行される。また、すべてのバンプ42について輝度が求められていない場合(NO)、ステップS42に戻り、次のバンプ42についてウインドウW1の作成及びバンプ42の輝度取得が行われる。   In step S44, it is checked whether or not the luminance has been obtained for all the bumps 42. When the luminance is obtained for all the bumps 42 (YES), step S45 is executed. If the brightness has not been obtained for all the bumps 42 (NO), the process returns to step S42 to create the window W1 and obtain the brightness of the bump 42 for the next bump 42.

ステップS45においては、制御装置10のメモリに記憶されている半田転写前後におけるバンプ42の輝度から、バンプ42の輝度差が求められる。ステップS46においては、バンプ42の輝度差が電極輝度差基準値以上であるか否かが調べられる。バンプ42の輝度差が電極輝度差基準値以上である場合(YES)、半田31の転写が正常に行われていると判断し、ステップS47が実行される。また、バンプ42の輝度差が電極輝度差基準値より小さい場合(NO)、半田31の転写が正常に行われていないと判断し、ステップS48が実行される。ここで、ステップS45が「電極輝度差取得工程」であり、ステップS46が「電極輝度差判定工程」である。   In step S45, the brightness difference of the bump 42 is obtained from the brightness of the bump 42 before and after the solder transfer stored in the memory of the control device 10. In step S46, it is checked whether or not the luminance difference of the bump 42 is greater than or equal to the electrode luminance difference reference value. If the brightness difference of the bump 42 is equal to or greater than the electrode brightness difference reference value (YES), it is determined that the transfer of the solder 31 is normally performed, and step S47 is executed. If the brightness difference of the bump 42 is smaller than the electrode brightness difference reference value (NO), it is determined that the transfer of the solder 31 is not performed normally, and step S48 is executed. Here, step S45 is an “electrode luminance difference acquisition step”, and step S46 is an “electrode luminance difference determination step”.

ステップS47においては、すべてのバンプ42について輝度差判定が終了したか否かが調べられる。すべてのバンプ42について輝度差判定が終了した場合(YES)、半田転写プログラムが終了される。また、すべてのバンプ42について輝度差判定が終了しない場合(NO)、ステップS45に戻り、次のバンプ42について輝度差取得及び輝度差判定が行われる。ステップS48においては、エラー処理が行われた後、半田転写プログラムが終了される。   In step S47, it is checked whether or not the luminance difference determination has been completed for all the bumps 42. When the brightness difference determination is finished for all the bumps 42 (YES), the solder transfer program is finished. If the brightness difference determination is not completed for all the bumps 42 (NO), the process returns to step S45, and the brightness difference acquisition and the brightness difference determination are performed for the next bump 42. In step S48, after error processing is performed, the solder transfer program is terminated.

実施形態2に係る転写材転写検査方法においては、ステップS46において、バンプ42ごとに、転写前後におけるバンプ42の輝度差と電極輝度差基準値とを比較して半田31の転写の良否を判定するため、半田転写不良のバンプ42を見落とすことはない。また、ステップS34、S35及びステップS42、S43において、電子部品40の位置データに基づいてバンプ42の輝度を測定する範囲(ウインドウW1)を特定しているため、バンプ42の画像から特定する場合に比較して、簡単かつ短時間でバンプ42の輝度を測定する範囲(ウインドウW1)を特定することができる。したがって、この転写材転写検査方法によれば、半田転写不良の見落としを防止でき、簡単かつ短時間で半田転写の良否を判定することができる。その他の作用、効果は実施形態1と同様である。   In the transfer material transfer inspection method according to the second embodiment, in step S46, for each bump 42, the brightness difference of the bump 42 before and after transfer and the electrode brightness difference reference value are compared to determine whether the transfer of the solder 31 is acceptable. Therefore, the bumps 42 with poor solder transfer are not overlooked. Further, in steps S34 and S35 and steps S42 and S43, the range (window W1) for measuring the luminance of the bump 42 is specified based on the position data of the electronic component 40. Therefore, when specifying from the image of the bump 42, In comparison, the range (window W1) in which the luminance of the bump 42 is measured can be specified easily and in a short time. Therefore, according to this transfer material transfer inspection method, it is possible to prevent oversight of defective solder transfer, and to determine whether the solder transfer is good or not in a short time. Other actions and effects are the same as those of the first embodiment.

次に、実施形態3の転写材転写検査方法について説明する。実施形態3の転写材転写検査方法においても、実施形態1と同様、図1、2に示す電子部品装着装置100が用いられる。図8及び図9は、光源装置21の下方光源23を点灯し、撮像装置20により撮像された電子部品40の画像を示す図である。図8が転写禁止領域45に半田31が付着されていない正常な画像を示す図であり、図9が転写禁止領域45に半田31が付着されている異常な画像を示す図である。転写禁止領域45とは、半田31の転写により電子部品40の破損を招き得るボディ41の領域である。転写禁止領域45に半田31が付着されていない場合は、半田31が付着されている場合に比較して、転写禁止領域45の輝度が高くなっている。この正常な画像と異常な画像の転写禁止領域45の輝度から転写禁止領域輝度基準値が予め求められる。転写禁止領域45の輝度が転写禁止領域輝度基準値以上である場合、正常であると判断される。また、転写禁止領域45の輝度が転写禁止領域輝度基準値より小さい場合、異常であると判断される。   Next, a transfer material transfer inspection method according to Embodiment 3 will be described. In the transfer material transfer inspection method according to the third embodiment, as in the first embodiment, the electronic component mounting apparatus 100 shown in FIGS. FIGS. 8 and 9 are diagrams illustrating images of the electronic component 40 captured by the imaging device 20 with the lower light source 23 of the light source device 21 turned on. FIG. 8 is a diagram showing a normal image in which the solder 31 is not attached to the transfer prohibited region 45, and FIG. 9 is a diagram showing an abnormal image in which the solder 31 is attached to the transfer prohibited region 45. The transfer prohibition region 45 is a region of the body 41 that can cause the electronic component 40 to be damaged by the transfer of the solder 31. When the solder 31 is not attached to the transfer prohibited area 45, the brightness of the transfer prohibited area 45 is higher than when the solder 31 is attached. A transfer prohibition area luminance reference value is obtained in advance from the luminance of the transfer prohibition area 45 of the normal image and the abnormal image. When the luminance of the transfer prohibited area 45 is equal to or higher than the transfer prohibited area luminance reference value, it is determined to be normal. Further, when the luminance of the transfer prohibition area 45 is smaller than the transfer prohibition area luminance reference value, it is determined that there is an abnormality.

実施形態3の転写材転写検査方法を図10に示す半田転写プログラムのフローチャートを用いて説明する。ただし、この半田転写プログラムは、実施形態1又は実施形態2の半田転写プログラムとともに実行されるものとする。この半田転写プログラムの実行が開始されると、まず、ステップS50において、X軸モータ11、Y軸モータ12、及びθ軸モータ14が駆動され、電子部品40が半田転写ステーションST2に移動される。ステップS51において、Z軸モータ13が駆動されることにより装着ヘッド15が上下方向に移動され、電子部品40に半田31が転写される。ここで、ステップS51が「転写工程」である。   A transfer material transfer inspection method according to the third embodiment will be described with reference to a flowchart of a solder transfer program shown in FIG. However, this solder transfer program is executed together with the solder transfer program of the first or second embodiment. When the execution of the solder transfer program is started, first, in step S50, the X-axis motor 11, the Y-axis motor 12, and the θ-axis motor 14 are driven, and the electronic component 40 is moved to the solder transfer station ST2. In step S 51, the mounting head 15 is moved in the vertical direction by driving the Z-axis motor 13, and the solder 31 is transferred to the electronic component 40. Here, step S51 is a “transfer process”.

ステップS52においては、X軸モータ11、Y軸モータ12、Z軸モータ13及びθ軸モータ14が駆動され、電子部品40が画像認識ステーションST1の所定の位置に位置決めされる。ここで、ステップS52が「位置決め工程」である。   In step S52, the X-axis motor 11, the Y-axis motor 12, the Z-axis motor 13, and the θ-axis motor 14 are driven to position the electronic component 40 at a predetermined position in the image recognition station ST1. Here, step S52 is a “positioning step”.

ステップS53においては、光源装置21の下方光源23が点灯される。ステップS54においては、電子部品40が撮像装置20により撮像され、その画像データが制御装置10に入力される。ステップS55においては、転写禁止領域45の座標調整が行われる。すなわち、制御装置10には画像認識ステーションST1の所定の位置における転写禁止領域45の位置の座標が予め記憶されており、前述のステップS14又はステップS32において取得されたバンプ42全体の画像データを参照して、実際の転写禁止領域45の位置の座標が調整されるのである。なお、バンプ42全体の画像を用いるのではなく、四隅のバンプ42の画像等により転写禁止領域45の位置の座標調整を行ってもよい。ここで、ステップS53、S54、S55が「撮像工程」である。   In step S53, the lower light source 23 of the light source device 21 is turned on. In step S <b> 54, the electronic component 40 is imaged by the imaging device 20, and the image data is input to the control device 10. In step S55, coordinate adjustment of the transfer prohibited area 45 is performed. That is, the control device 10 stores in advance the coordinates of the position of the transfer prohibited area 45 at a predetermined position of the image recognition station ST1, and refers to the image data of the entire bump 42 acquired in the above-described step S14 or step S32. Thus, the coordinates of the actual position of the transfer prohibition area 45 are adjusted. Instead of using the image of the entire bump 42, the coordinates of the position of the transfer prohibited area 45 may be adjusted by the image of the bump 42 at the four corners. Here, steps S53, S54, and S55 are “imaging process”.

ステップS56においては、転写禁止領域45の位置の座標からウインドウW2が作成される。このウインドウW2が「転写禁止領域の輝度を測定する範囲」である。ステップS57においては、転写禁止領域45の輝度が求められる。具体的には、ウインドウW2に含まれるすべての画素の明るさの平均を求める。そして、この画素の明るさの平均が転写禁止領域45の輝度とされる。このようにすることにより、正確に転写禁止領域45の輝度を求めることができる。なお、ウインドウW2に含まれるすべての画素の明るさの合計値を転写禁止領域45の輝度としてもよい。ここで、ステップS56、S57が「転写禁止領域輝度取得工程」である。   In step S56, a window W2 is created from the coordinates of the position of the transfer prohibited area 45. This window W2 is “a range in which the luminance of the transfer prohibited area is measured”. In step S57, the brightness of the transfer prohibited area 45 is obtained. Specifically, the average brightness of all the pixels included in the window W2 is obtained. The average brightness of the pixels is the luminance of the transfer prohibited area 45. By doing in this way, the brightness | luminance of the transcription | transfer prohibition area | region 45 can be calculated | required correctly. The total brightness of all the pixels included in the window W2 may be used as the luminance of the transfer prohibited area 45. Here, steps S56 and S57 are the “transfer prohibited area luminance acquisition step”.

ステップS58においては、転写禁止領域45の輝度が転写禁止領域輝度基準値以上であるか否かが調べられる。転写禁止領域45の輝度が転写禁止領域輝度基準値以上である場合(YES)、半田31の付着がないと判断し、半田転写プログラムが終了される。また、転写禁止領域45の輝度が転写禁止領域輝度基準値より小さい場合(NO)、半田31の付着があると判断し、ステップS58が実行される。ステップS58においては、エラー処理が行われた後、半田転写プログラムが終了される。ここで、ステップS58が「転写禁止領域輝度判定工程」である。   In step S58, it is checked whether or not the luminance of the transfer prohibited area 45 is equal to or higher than the transfer prohibited area luminance reference value. If the brightness of the transfer prohibited area 45 is equal to or higher than the transfer prohibited area brightness reference value (YES), it is determined that there is no adhesion of the solder 31, and the solder transfer program is terminated. If the luminance of the transfer prohibited area 45 is smaller than the transfer prohibited area luminance reference value (NO), it is determined that there is adhesion of the solder 31, and step S58 is executed. In step S58, after error processing is performed, the solder transfer program is terminated. Here, step S58 is a “transfer prohibited area luminance determination step”.

実施形態3に係る転写材転写検査方法においては、ステップS58において、転写禁止領域45の輝度と転写禁止領域輝度基準値とを比較して、半田31の付着の有無を判定するため、半田が付着した転写禁止領域45を見落とすことはない。また、ステップS56、S57において、転写禁止領域45の位置データに基づいて転写禁止領域45の輝度を測定する範囲(ウインドウW2)を特定しているため、転写禁止領域45の画像から特定する場合に比較して、簡単かつ短時間で転写禁止領域45の輝度を測定する範囲(ウインドウW2)を特定することができる。したがって、この転写材転写検査方法によれば、半田転写不良の見落としを防止でき、簡単かつ短時間で半田転写の良否を判定することができる。   In the transfer material transfer inspection method according to the third embodiment, in step S58, the brightness of the transfer prohibited area 45 is compared with the transfer prohibited area brightness reference value to determine whether or not the solder 31 is attached. The transferred prohibition area 45 is not overlooked. In steps S56 and S57, since the range (window W2) for measuring the luminance of the transfer prohibited area 45 is specified based on the position data of the transfer prohibited area 45, when specifying from the image of the transfer prohibited area 45. In comparison, the range (window W2) in which the luminance of the transfer prohibited area 45 is measured can be specified easily and in a short time. Therefore, according to this transfer material transfer inspection method, it is possible to prevent oversight of defective solder transfer, and to determine whether the solder transfer is good or not in a short time.

なお、実施形態3においては、転写禁止領域45を1個としたが、転写禁止領域45を複数個とし、すべての転写禁止領域45について半田31の付着の有無を判定してもよい。   In the third embodiment, one transfer prohibition area 45 is provided. However, a plurality of transfer prohibition areas 45 may be provided, and the presence or absence of adhesion of the solder 31 may be determined for all the transfer prohibition areas 45.

次に、実施形態4の転写材転写検査方法について説明する。実施形態4の転写材転写検査方法においても、実施形態1と同様、図1、2に示す電子部品装着装置100が用いられる。また、撮像装置20により撮像された半田転写前後の電子部品40の転写禁止領域45の輝度の差により転写禁止領域輝度差基準値が予め求められる。半田転写前後の転写禁止領域45の輝度差が転写禁止領域輝度差基準値以下である場合、転写禁止領域に半田31が付着しておらず、正常であると判断される。また、半田転写前後の転写禁止領域45の輝度差が転写禁止領域輝度差基準値より大きい場合、転写禁止領域45に半田31が付着しており、異常であると判断される。転写禁止領域45とは、実施形態3と同様、半田31の転写により電子部品40の破損を招き得るボディ41の領域である。   Next, a transfer material transfer inspection method according to Embodiment 4 will be described. In the transfer material transfer inspection method according to the fourth embodiment, as in the first embodiment, the electronic component mounting apparatus 100 shown in FIGS. In addition, a transfer prohibition area luminance difference reference value is obtained in advance based on a difference in luminance of the transfer prohibition area 45 of the electronic component 40 before and after the solder transfer imaged by the imaging device 20. When the luminance difference of the transfer prohibited area 45 before and after the solder transfer is equal to or less than the transfer prohibited area luminance difference reference value, it is determined that the solder 31 is not attached to the transfer prohibited area and is normal. If the luminance difference in the transfer prohibited area 45 before and after the solder transfer is larger than the transfer prohibited area luminance difference reference value, it is determined that the solder 31 is attached to the transfer prohibited area 45 and is abnormal. The transfer prohibition area 45 is an area of the body 41 that can cause the electronic component 40 to be damaged by the transfer of the solder 31 as in the third embodiment.

実施形態4の転写材転写検査方法を図11に示す半田転写プログラムのフローチャートを用いて説明する。ただし、この半田転写プログラムは、実施形態3と同様、実施形態1又は実施形態2の半田転写プログラムとともに実行されるものとする。この半田転写プログラムの実行が開始されると、まず、ステップS70において、X軸モータ11、Y軸モータ12、Z軸モータ13及びθ軸モータ14が駆動され、電子部品40が画像認識ステーションST1の所定の位置に位置決めされる。ここで、ステップS70が「転写前位置決め工程」である。   A transfer material transfer inspection method according to the fourth embodiment will be described with reference to a flowchart of a solder transfer program shown in FIG. However, this solder transfer program is executed together with the solder transfer program of the first or second embodiment, as in the third embodiment. When the execution of the solder transfer program is started, first, in step S70, the X-axis motor 11, the Y-axis motor 12, the Z-axis motor 13, and the θ-axis motor 14 are driven, and the electronic component 40 is moved to the image recognition station ST1. It is positioned at a predetermined position. Here, step S70 is a “positioning process before transfer”.

ステップS71においては、光源装置21の下方光源23が点灯される。ステップS72においては、電子部品40が撮像装置20により撮像され、その画像データが制御装置10に入力される。ステップS73においては、転写禁止領域45の座標調整が行われる。座標調整の方法は、実施形態3のステップS55に示される方法と同様である。ここで、ステップS71、S72、S73が「転写前撮像工程」である。   In step S71, the lower light source 23 of the light source device 21 is turned on. In step S <b> 72, the electronic component 40 is imaged by the imaging device 20, and the image data is input to the control device 10. In step S73, coordinate adjustment of the transfer prohibited area 45 is performed. The coordinate adjustment method is the same as the method shown in step S55 of the third embodiment. Here, steps S71, S72, and S73 are “pre-transfer imaging process”.

ステップS74においては、転写禁止領域45の位置の座標からウインドウW2が作成される。ウインドウW2については、実施形態3と同様である。ステップS75においては、転写禁止領域45の輝度が求められる。転写禁止領域45の輝度を求める具体的方法は、実施形態3のステップS56、S57と同様であり、この転写禁止領域45の輝度は、制御装置10のメモリに記憶される。ここで、ステップS74、S75が「転写前転写禁止領域輝度取得工程」である。   In step S74, a window W2 is created from the coordinates of the position of the transfer prohibited area 45. The window W2 is the same as that in the third embodiment. In step S75, the brightness of the transfer prohibited area 45 is obtained. The specific method for obtaining the brightness of the transfer prohibited area 45 is the same as that in steps S56 and S57 of the third embodiment, and the brightness of the transfer prohibited area 45 is stored in the memory of the control device 10. Here, steps S74 and S75 are the “pre-transfer prohibition area luminance acquisition step”.

ステップS76においては、X軸モータ11、Y軸モータ12、及びθ軸モータ14が駆動され、電子部品40が半田転写ステーションST2に移動される。ステップS77において、Z軸モータ13が駆動されることにより装着ヘッド15が上下方向に移動され、電子部品40に半田31が転写される。ここで、ステップS77が「転写工程」である。   In step S76, the X-axis motor 11, the Y-axis motor 12, and the θ-axis motor 14 are driven, and the electronic component 40 is moved to the solder transfer station ST2. In step S 77, the mounting head 15 is moved in the vertical direction by driving the Z-axis motor 13, and the solder 31 is transferred to the electronic component 40. Here, step S77 is a “transfer process”.

ステップS78において、X軸モータ11、Y軸モータ12、Z軸モータ13及びθ軸モータ14が駆動され、電子部品40が画像認識ステーションST1の所定の位置に位置決めされる。ここで、ステップS78が「転写後位置決め工程」である。   In step S78, the X-axis motor 11, the Y-axis motor 12, the Z-axis motor 13 and the θ-axis motor 14 are driven to position the electronic component 40 at a predetermined position in the image recognition station ST1. Here, step S78 is a “post-transfer positioning process”.

ステップS79においては、光源装置21の下方光源23が点灯される。ステップS80においては、電子部品40が撮像装置20により撮像され、その画像データが制御装置10に入力される。ここで、ステップS79、S80が「転写後撮像工程」である。   In step S79, the lower light source 23 of the light source device 21 is turned on. In step S <b> 80, the electronic component 40 is imaged by the imaging device 20, and the image data is input to the control device 10. Here, steps S79 and S80 are “post-transfer imaging process”.

ステップS81においては、ステップS73で座標調整された転写禁止領域45の位置の座標からウインドウW2が作成される。ステップS82においては、転写禁止領域45の輝度が求められる。転写禁止領域45の輝度を求める具体的方法は、実施形態3のステップS56、S57と同様であり、この転写禁止領域45の輝度は、制御装置10のメモリに記憶される。ここで、ステップS81、S82が「転写後転写禁止領域輝度取得工程」である。   In step S81, a window W2 is created from the coordinates of the position of the transfer prohibited area 45 adjusted in step S73. In step S82, the luminance of the transfer prohibited area 45 is obtained. The specific method for obtaining the brightness of the transfer prohibited area 45 is the same as that in steps S56 and S57 of the third embodiment, and the brightness of the transfer prohibited area 45 is stored in the memory of the control device 10. Here, steps S81 and S82 are “post-transfer prohibition area luminance acquisition step”.

ステップS83においては、制御装置10のメモリに記憶されている半田転写前後における転写禁止領域45の輝度から、転写禁止領域45の輝度差が求められる。ステップS84においては、転写禁止領域45の輝度差が転写禁止領域輝度差基準値以下であるか否かが調べられる。転写禁止領域45の輝度差が転写禁止領域輝度差基準値以下である場合(YES)、半田31の付着がないと判断し、半田転写プログラムが終了される。また、転写禁止領域45の輝度差が転写禁止領域輝度差基準値より大きい場合(NO)、半田31の付着があると判断し、ステップS85が実行される。ステップS85においては、エラー処理が行われた後、半田転写プログラムが終了される。ここで、ステップS84が「転写禁止領域輝度差判定工程」である。   In step S83, the luminance difference of the transfer prohibited area 45 is obtained from the luminance of the transfer prohibited area 45 before and after the solder transfer stored in the memory of the control device 10. In step S84, it is checked whether or not the luminance difference in the transfer prohibited area 45 is equal to or less than the transfer prohibited area luminance difference reference value. If the luminance difference in the transfer prohibited area 45 is equal to or smaller than the transfer prohibited area luminance difference reference value (YES), it is determined that there is no adhesion of the solder 31, and the solder transfer program is terminated. If the luminance difference in the transfer prohibited area 45 is larger than the transfer prohibited area luminance difference reference value (NO), it is determined that there is adhesion of the solder 31, and step S85 is executed. In step S85, after error processing is performed, the solder transfer program is terminated. Here, step S84 is a “transfer prohibited area luminance difference determination step”.

実施形態4に係る転写材転写検査方法においては、ステップS84において、転写前後における転写禁止領域45の輝度差と転写禁止領域輝度差基準値とを比較して、半田31の付着の有無を判定するため、半田が付着した転写禁止領域45を見落とすことはない。また、ステップS74、S75、S81、S82において、転写禁止領域45の位置データに基づいて転写禁止領域45の輝度を測定する範囲(ウインドウW2)を特定しているため、転写禁止領域45の画像から特定する場合に比較して、簡単かつ短時間で転写禁止領域45の輝度を測定する範囲(ウインドウW2)を特定することができる。したがって、この転写材転写検査方法によれば、転写材転写不良の見落としを防止でき、簡単かつ短時間で転写材転写の良否を判定することができる。その他の作用、効果は実施形態3と同様である。   In the transfer material transfer inspection method according to the fourth embodiment, in step S84, the brightness difference of the transfer prohibited area 45 before and after the transfer is compared with the reference value of the transfer prohibited area brightness difference to determine whether or not the solder 31 is attached. Therefore, the transfer prohibition area 45 to which the solder is attached is not overlooked. In steps S74, S75, S81, and S82, since the range (window W2) for measuring the luminance of the transfer prohibited area 45 is specified based on the position data of the transfer prohibited area 45, the image of the transfer prohibited area 45 is used. Compared with the case of specifying, the range (window W2) for measuring the luminance of the transfer prohibited area 45 can be specified easily and in a short time. Therefore, according to this transfer material transfer inspection method, it is possible to prevent the transfer material transfer failure from being overlooked, and to determine whether the transfer material transfer is good or not in a short time. Other operations and effects are the same as those of the third embodiment.

なお、実施形態1〜4において、電極がバンプである電子部品を用いたが、電極がリードである電子部品を用いてもよい。また、転写材は、酸化膜除去作用を有するフラックスであってもよい。   In the first to fourth embodiments, an electronic component whose electrode is a bump is used, but an electronic component whose electrode is a lead may be used. The transfer material may be a flux having an oxide film removing action.

以上において、本発明の転写材転写検査方法を実施形態1〜4に即して説明したが、本発明はこれらに制限されるものではなく、本発明の技術的思想に反しない限り、適宜変更して適用できることはいうまでもない。   In the above, the transfer material transfer inspection method of the present invention has been described with reference to the first to fourth embodiments. However, the present invention is not limited to these, and may be modified as appropriate unless it is contrary to the technical idea of the present invention. Needless to say, this is applicable.

実施形態1〜4の転写材転写検査方法に係り、電子部品装着装置の斜視図。FIG. 6 is a perspective view of the electronic component mounting apparatus according to the transfer material transfer inspection method of the first to fourth embodiments. 実施形態1〜4の転写材転写検査方法に係り、電子部品装着装置のブロック図。FIG. 5 is a block diagram of an electronic component mounting apparatus according to the transfer material transfer inspection method of the first to fourth embodiments. 実施形態1、2の転写材転写検査方法に係り、電子部品の半田転写前の画像を示す図。The figure which concerns on the transfer material transcription | transfer inspection method of Embodiment 1, 2, and shows the image before the solder transfer of an electronic component. 実施形態1、2の転写材転写検査方法に係り、電子部品の半田転写後の画像を示す図。The figure which concerns on the transfer material transcription | transfer inspection method of Embodiment 1, 2, and shows the image after the solder transfer of an electronic component. 実施形態1の転写材転写検査方法に係り、半田転写プログラムのフローチャート。10 is a flowchart of a solder transfer program according to the transfer material transfer inspection method of the first embodiment. 実施形態1、2の転写材転写検査方法に係り、半田転写されたバンプの拡大図。FIG. 4 is an enlarged view of a solder-transferred bump according to the transfer material transfer inspection method of the first and second embodiments. 実施形態2の転写材転写検査方法に係り、半田転写プログラムのフローチャート。10 is a flowchart of a solder transfer program according to the transfer material transfer inspection method of the second embodiment. 実施形態3、4の転写材転写検査方法に係り、転写禁止領域に半田が付着されていない画像を示す図。FIG. 6 is a diagram illustrating an image in which solder is not attached to a transfer prohibited area according to the transfer material transfer inspection method of the third and fourth embodiments. 実施形態3、4の転写材転写検査方法に係り、転写禁止領域に半田が付着されている画像を示す図。FIG. 6 is a diagram illustrating an image in which solder is attached to a transfer prohibited area according to the transfer material transfer inspection method of the third and fourth embodiments. 実施形態3転写材転写検査方法に係り、半田転写プログラムのフローチャート。Embodiment 3 A flowchart of a solder transfer program according to a transfer material transfer inspection method. 実施形態4転写材転写検査方法に係り、半田転写プログラムのフローチャート。Embodiment 4 A flowchart of a solder transfer program according to a transfer material transfer inspection method.

符号の説明Explanation of symbols

31…転写材(半田)、40…電子部品、41…ボディ、42…電極(バンプ)、45…転写禁止領域、100…電子部品装着装置、W1…電極の輝度を測定する範囲(ウインドウ)、W2…転写禁止領域の輝度を測定する範囲(ウインドウ)、S11、S38、S51、S77…転写工程、S12、S52…位置決め工程、S13、S14、S15、S53、S54、S55…撮像工程、S16、S17…電極輝度取得工程、S18…電極輝度判定工程、S30、S70…転写前位置決め工程、S31、S32、S33、S71、S72、S73…転写前撮像工程、S34、S35…転写前電極輝度取得工程、S39、S78…転写後位置決め工程、S40、S41…転写後撮像工程、S42、S43…転写後電極輝度取得工程、S45…電極輝度差取得工程、S46…電極輝度差判定工程、S56、S57…転写禁止領域輝度取得工程、S58…転写禁止領域輝度判定工程、S74、S75…転写前転写禁止領域輝度取得工程、S81、S82…転写後転写禁止領域輝度取得工程、S83…転写禁止領域輝度差取得工程、S84…転写禁止領域輝度差判定工程。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 31 ... Transfer material (solder), 40 ... Electronic component, 41 ... Body, 42 ... Electrode (bump), 45 ... Transfer prohibition area | region, 100 ... Electronic component mounting apparatus, W1 ... The range (window) which measures the brightness | luminance of an electrode, W2: Range (window) for measuring the luminance of the transfer-prohibited area, S11, S38, S51, S77 ... Transfer process, S12, S52 ... Positioning process, S13, S14, S15, S53, S54, S55 ... Imaging process, S16, S17: Electrode luminance acquisition step, S18: Electrode luminance determination step, S30, S70 ... Pre-transfer positioning step, S31, S32, S33, S71, S72, S73 ... Pre-transfer imaging step, S34, S35 ... Pre-transfer electrode luminance acquisition step , S39, S78 ... post-transfer positioning step, S40, S41 ... post-transfer imaging step, S42, S43 ... post-transfer electrode luminance acquisition step, S45 ... electric Polar luminance difference acquisition step, S46 ... Electrode luminance difference determination step, S56, S57 ... Transfer prohibited area luminance acquisition step, S58 ... Transfer prohibited area luminance determination step, S74, S75 ... Pre-transfer transfer prohibited area luminance acquisition step, S81, S82 ... post-transfer transcription prohibited area luminance acquisition step, S83: transfer prohibited area luminance difference acquisition step, S84: transfer prohibited area luminance difference determination step.

Claims (9)

転写材が転写される電極をボディ上に有する電子部品を基板に装着する電子部品装着装置における転写材転写検査方法において、
前記電子部品に前記転写材を転写する転写工程と、
転写材が転写された前記電子部品を位置決めする位置決め工程と、
前記電子部品を撮像する撮像工程と、
該撮像工程により得られた前記電子部品の位置データに基づいて、前記電極の輝度を測定する範囲を特定し、前記電極ごとの輝度を取得する電極輝度取得工程と、
前記電極ごとに、電極の輝度と電極輝度基準値とを比較して、転写材転写の良否を判定する電極輝度判定工程と、を備えることを特徴とする電子部品装着装置における転写材転写検査方法。
In a transfer material transfer inspection method in an electronic component mounting apparatus for mounting an electronic component having an electrode on a body to which a transfer material is transferred on a substrate,
A transfer step of transferring the transfer material to the electronic component;
A positioning step of positioning the electronic component to which the transfer material has been transferred;
An imaging step of imaging the electronic component;
Based on the position data of the electronic component obtained by the imaging step, the range for measuring the luminance of the electrode is specified, and the electrode luminance acquisition step for acquiring the luminance for each electrode;
A transfer material transfer inspection method in an electronic component mounting apparatus, comprising: an electrode brightness determination step for determining the quality of transfer material transfer by comparing the brightness of an electrode with an electrode brightness reference value for each electrode. .
転写材が転写される電極をボディ上に有する電子部品を基板に装着する電子部品装着装置における転写材転写検査方法において、
転写材が転写される前の前記電子部品を位置決めする転写前位置決め工程と、
前記電子部品を撮像する転写前撮像工程と、
該転写前撮像工程により得られた前記電子部品の位置データに基づいて、前記電極の輝度を測定する範囲を特定し、前記電極ごとの輝度を取得する転写前電極輝度取得工程と、
前記電子部品に前記転写材を転写する転写工程と、
転写材が転写された前記電子部品を位置決めする転写後位置決め工程と、
前記電子部品を撮像する転写後撮像工程と、
前記転写前電極輝度取得工程により特定された前記電極の輝度を測定する範囲に基づいて、前記電極ごとの輝度を取得する転写後電極輝度取得工程と、
前記電極ごとに、転写前の電極の輝度と、転写後の電極の輝度との輝度差を取得する電極輝度差取得工程と、
前記電極ごとに、前記輝度差と電極輝度差基準値とを比較して、転写材転写の良否を判定する電極輝度差判定工程と、を備えることを特徴とする電子部品装着装置における転写材転写検査方法。
In a transfer material transfer inspection method in an electronic component mounting apparatus for mounting an electronic component having an electrode on a body to which a transfer material is transferred on a substrate,
A pre-transfer positioning step for positioning the electronic component before the transfer material is transferred;
A pre-transfer imaging step of imaging the electronic component;
Based on the position data of the electronic component obtained by the pre-transfer imaging step, the range for measuring the luminance of the electrode is specified, and the pre-transfer electrode luminance acquisition step for acquiring the luminance for each electrode;
A transfer step of transferring the transfer material to the electronic component;
A post-transfer positioning step for positioning the electronic component to which the transfer material has been transferred;
A post-transfer imaging step of imaging the electronic component;
Based on the range of measuring the luminance of the electrode specified by the pre-transfer electrode luminance acquisition step, the post-transfer electrode luminance acquisition step of acquiring the luminance for each electrode;
For each of the electrodes, an electrode luminance difference acquisition step for acquiring a luminance difference between the luminance of the electrode before transfer and the luminance of the electrode after transfer;
A transfer material transfer in an electronic component mounting apparatus, comprising: an electrode brightness difference determination step for determining the quality of transfer material transfer by comparing the brightness difference with an electrode brightness difference reference value for each electrode. Inspection method.
請求項1又は2において、
前記電極の輝度は、前記電極の輝度を測定する範囲に含まれる画素の明るさの分布のうち、暗い方から所定の割合を除いた明るさの平均又は合計であることを特徴とする電子部品装着装置における転写材転写検査方法。
In claim 1 or 2,
The brightness of the electrode is an average or total brightness obtained by removing a predetermined ratio from the darker side of the brightness distribution of pixels included in a range in which the brightness of the electrode is measured. A transfer material transfer inspection method in a mounting apparatus.
請求項1又は2において、
前記電極はバンプであることを特徴とする電子部品装着装置における転写材転写検査方法。
In claim 1 or 2,
The transfer material transfer inspection method in an electronic component mounting apparatus, wherein the electrode is a bump.
転写材が転写される電極をボディ上に有する電子部品を基板に装着する電子部品装着装置における転写材転写検査方法において、
前記電子部品に前記転写材を転写する転写工程と、
転写材が転写された前記電子部品を位置決めする位置決め工程と、
前記電子部品を撮像する撮像工程と、
該撮像工程により得られた前記電子部品の位置データに基づいて、転写材の転写により前記電子部品の破損を招き得るボディの転写禁止領域の輝度を測定する範囲を特定し、該転写禁止領域の輝度を取得する転写禁止領域輝度取得工程と、
前記転写禁止領域の輝度と転写禁止領域輝度基準値とを比較して、転写材転写の良否を判定する転写禁止領域輝度判定工程と、を備えることを特徴とする電子部品装着装置における転写材転写検査方法。
In a transfer material transfer inspection method in an electronic component mounting apparatus for mounting an electronic component having an electrode on a body to which a transfer material is transferred on a substrate,
A transfer step of transferring the transfer material to the electronic component;
A positioning step of positioning the electronic component to which the transfer material has been transferred;
An imaging step of imaging the electronic component;
Based on the position data of the electronic component obtained by the imaging process, the range for measuring the luminance of the transfer prohibited area of the body that may cause the electronic component to be damaged by the transfer of the transfer material is specified, and the transfer prohibited area A transfer prohibited area luminance acquisition step for acquiring luminance; and
A transfer material transfer in an electronic component mounting apparatus, comprising: a transfer prohibition region brightness determination step for comparing the brightness of the transfer prohibition region and a transfer prohibition region brightness reference value to determine whether the transfer material transfer is good or bad Inspection method.
転写材が転写される電極をボディ上に有する電子部品を基板に装着する電子部品装着装置における転写材転写検査方法において、
転写材が転写される前の前記電子部品を位置決めする転写前位置決め工程と、
前記電子部品を撮像する転写前撮像工程と、
該転写前撮像工程により得られた前記電子部品の位置データに基づいて、転写材の転写により前記電子部品の破損を招き得るボディの転写禁止領域の輝度を測定する範囲を特定し、該転写禁止領域の輝度を取得する転写前転写禁止領域輝度取得工程と、
前記電子部品に前記転写材を転写する転写工程と、
転写材が転写された前記電子部品を位置決めする転写後位置決め工程と、
前記電子部品を撮像する転写後撮像工程と、
前記転写前転写禁止領域輝度取得工程により特定された前記転写禁止領域の輝度を測定する範囲に基づいて、前記転写禁止領域の輝度を取得する転写後転写禁止領域輝度取得工程と、
転写前の転写禁止領域の輝度と、転写後の転写禁止領域の輝度との輝度差を取得する転写禁止領域輝度差取得工程と、
前記輝度差と転写禁止領域輝度差基準値とを比較して、転写材転写の良否を判定する転写禁止領域輝度差判定工程と、を備えることを特徴とする電子部品装着装置における転写材転写検査方法。
In a transfer material transfer inspection method in an electronic component mounting apparatus for mounting an electronic component having an electrode on a body to which a transfer material is transferred on a substrate,
A pre-transfer positioning step for positioning the electronic component before the transfer material is transferred;
A pre-transfer imaging step of imaging the electronic component;
Based on the position data of the electronic component obtained in the pre-transfer imaging step, the range for measuring the luminance of the transfer prohibited area of the body that may cause the electronic component to be damaged by the transfer of the transfer material is specified, and the transfer prohibition A pre-transfer prohibited area luminance acquisition step for acquiring the luminance of the area;
A transfer step of transferring the transfer material to the electronic component;
A post-transfer positioning step for positioning the electronic component to which the transfer material has been transferred;
A post-transfer imaging step of imaging the electronic component;
Based on a range for measuring the luminance of the transfer prohibited area specified by the pre-transfer prohibited area luminance acquisition step, a post-transfer prohibited area luminance acquisition step for acquiring the luminance of the transfer prohibited area;
A transfer prohibited area brightness difference acquisition step for acquiring a brightness difference between the brightness of the transfer prohibited area before transfer and the brightness of the transfer prohibited area after transfer;
A transfer material transfer inspection in an electronic component mounting apparatus, comprising: a transfer prohibited region brightness difference determining step for comparing the brightness difference with a transfer prohibited region brightness difference reference value to determine transfer material transfer quality Method.
請求項5又は6において、
前記転写禁止領域の輝度は、前記転写禁止領域の輝度を測定する範囲に含まれる画素の明るさの平均又は合計であることを特徴とする電子部品装着装置における転写材転写検査方法。
In claim 5 or 6,
The transfer material transfer inspection method for an electronic component mounting apparatus, wherein the brightness of the transfer prohibited area is an average or a sum of brightnesses of pixels included in a range in which the brightness of the transfer prohibited area is measured.
請求項1乃至7のいずれか1項において、
前記転写材は半田であることを特徴とする電子部品装着装置における転写材転写検査方法。
In any one of Claims 1 thru | or 7,
A transfer material transfer inspection method in an electronic component mounting apparatus, wherein the transfer material is solder.
請求項1乃至7のいずれか1項において、
前記転写材はフラックスであることを特徴とする電子部品装着装置における転写材転写検査方法。
In any one of Claims 1 thru | or 7,
The transfer material transfer inspection method in an electronic component mounting apparatus, wherein the transfer material is a flux.
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