JP2008210913A - 静電チャック - Google Patents
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Abstract
【課題】吸着面の凹部内に形成された導体膜からの放電を防止することができ、しかも凹部内に入ったパーティクルを容易に拭き取り又は洗い流すことができる静電チャックを提供する。
【解決手段】静電チャック1は、アルミニュウム製の基盤2と、樹脂シート31,32で構成される誘電体3と、直流電圧が印加される吸着電極4とを備える。そして、溝部5が誘電体3の吸着面32aに形成されている。溝部5は、リング状の溝パターン51と放射状に延びた溝パターン52,53とで構成されている。各溝パターン51〜53はそれぞれ断面楕円弧状をなし、丸め部5aを吸着面32aと溝部5との境界部に備える。そして、導体膜6が、各溝パターン51〜53の丸め部5aから内側面5b及び内底面5cに亘って形成されている。この導体膜6は、ボルト孔22を通じて基盤2に接地されている。
【選択図】図1
【解決手段】静電チャック1は、アルミニュウム製の基盤2と、樹脂シート31,32で構成される誘電体3と、直流電圧が印加される吸着電極4とを備える。そして、溝部5が誘電体3の吸着面32aに形成されている。溝部5は、リング状の溝パターン51と放射状に延びた溝パターン52,53とで構成されている。各溝パターン51〜53はそれぞれ断面楕円弧状をなし、丸め部5aを吸着面32aと溝部5との境界部に備える。そして、導体膜6が、各溝パターン51〜53の丸め部5aから内側面5b及び内底面5cに亘って形成されている。この導体膜6は、ボルト孔22を通じて基盤2に接地されている。
【選択図】図1
Description
この発明は、半導体製造装置や液晶表示装置におけるウエハや液晶表示用ガラス板等を保持及び搬送するために用いられる静電チャックに関するものである。
この種の静電チャックでは、凹部を静電チャックの吸着面に形成し、冷却用のガスをこの凹部に流して、ウエハと吸着面との間の熱伝導性、熱放散性を向上させるようにしている。
しかし、ウエハ処理後に、静電チャックの凹部に電荷が残留し、この電荷がウエハを吸着して、ウエハの取り外しに長時間を要したり、取り外し時にウエハの破損を生じさせることがあった。
そこで、かかる残留電荷の除電を図った静電チャックが提案されている(例えば特許文献1及び特許文献2参照)。
この静電チャックは、吸着面に形成された凹部内に導電膜を形成し、凹部内の電荷をこの導電膜から逃がす構成としている。かかる構成により、凹部内に残留する電荷を減少させ、良好なウエハの離脱性の実現を図っている。
しかし、ウエハ処理後に、静電チャックの凹部に電荷が残留し、この電荷がウエハを吸着して、ウエハの取り外しに長時間を要したり、取り外し時にウエハの破損を生じさせることがあった。
そこで、かかる残留電荷の除電を図った静電チャックが提案されている(例えば特許文献1及び特許文献2参照)。
この静電チャックは、吸着面に形成された凹部内に導電膜を形成し、凹部内の電荷をこの導電膜から逃がす構成としている。かかる構成により、凹部内に残留する電荷を減少させ、良好なウエハの離脱性の実現を図っている。
しかし、上記した従来の静電チャックでは、次のような問題がある。
導体膜が形成された凹部が断面略矩形状をしているため、ウエハ処理中に、電荷が凹部の角張った上縁部に集中的に溜まり、その電荷が、真上にあるウエハ裏面に向かって放電するおそれがあった。また、ウエハ処理時のパーティクルが凹部内に入り込んで、凹部の角に溜まる。。このため、これらのパーティクルを拭き取ったり、洗い流すのに長時間を要していた。
導体膜が形成された凹部が断面略矩形状をしているため、ウエハ処理中に、電荷が凹部の角張った上縁部に集中的に溜まり、その電荷が、真上にあるウエハ裏面に向かって放電するおそれがあった。また、ウエハ処理時のパーティクルが凹部内に入り込んで、凹部の角に溜まる。。このため、これらのパーティクルを拭き取ったり、洗い流すのに長時間を要していた。
この発明は、上述した課題を解決するためになされたもので、吸着面の凹部内に形成された導体膜からの放電を防止することができ、しかも凹部内に入ったパーティクルを容易に拭き取り又は洗い流すことができる静電チャックを提供することを目的とする。
上記課題を解決するために、請求項1の発明は、表面を試料の吸着面とする誘電体と、この誘電体の内部に配置された吸着電極と、誘電体の吸着面に形成され、導体膜が内面に形成された凹部とを備える静電チャックであって、吸着面から凹部内に向かって滑らかに湾曲する丸め部を、吸着面と凹部との境界部に形成し、導体膜を、丸め部から凹部内面に亘って形成した構成とする。
かかる構成により、誘電体の吸着面にウエハ等の試料を載せて、吸着電極に所定の電圧を印加すると、電荷が試料と誘電体の吸着面とに生じ、試料が電荷のクーロン力によって吸着面に吸着される。このとき、吸着面と凹部との境界部が角張っていると、多量の電荷がそこに集中し、試料に向かって放電を起こすおそれがある。
しかし、この発明では、丸め部を、吸着面と凹部との境界部に形成し、導体膜を丸め部から凹部内面に亘って形成したので、電荷が当該境界部に集中することはない。このため、試料への放電が起こることはない。また、導体膜を接地しておくことで、処理終了後に、電圧を切ると、吸着面上の電荷や凹部内の電荷が導体膜から外部に逃げる。この結果、残留電荷の低減化を図ることができ、試料の離脱性の向上を図ることができる。
かかる構成により、誘電体の吸着面にウエハ等の試料を載せて、吸着電極に所定の電圧を印加すると、電荷が試料と誘電体の吸着面とに生じ、試料が電荷のクーロン力によって吸着面に吸着される。このとき、吸着面と凹部との境界部が角張っていると、多量の電荷がそこに集中し、試料に向かって放電を起こすおそれがある。
しかし、この発明では、丸め部を、吸着面と凹部との境界部に形成し、導体膜を丸め部から凹部内面に亘って形成したので、電荷が当該境界部に集中することはない。このため、試料への放電が起こることはない。また、導体膜を接地しておくことで、処理終了後に、電圧を切ると、吸着面上の電荷や凹部内の電荷が導体膜から外部に逃げる。この結果、残留電荷の低減化を図ることができ、試料の離脱性の向上を図ることができる。
請求項2の発明は、請求項1に記載の静電チャックにおいて、凹部の内側面から内底面に向かって滑らかに湾曲する丸め部を、凹部の底の両角のそれぞれに形成した構成とする。
かかる構成により、試料処理中に生じたパーティクルが凹部内に入り込んでも、かかるパーティクルが凹部の角に溜まりにくくなり、また、凹部に付着しても、容易に拭き取り又は洗い流すことができる。
かかる構成により、試料処理中に生じたパーティクルが凹部内に入り込んでも、かかるパーティクルが凹部の角に溜まりにくくなり、また、凹部に付着しても、容易に拭き取り又は洗い流すことができる。
請求項3の発明は、請求項1又は請求項2に記載の静電チャックにおいて、凹部の幅方向の断面形状を、弧状に形成した構成とする。
請求項4の発明は、請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の静電チャックにおいて、誘電体は、合成樹脂の積層体である構成とした。
かかる構成により、合成樹脂が容易に撓むので、所望形状で所望深さの凹部を容易に形成することができる。
かかる構成により、合成樹脂が容易に撓むので、所望形状で所望深さの凹部を容易に形成することができる。
請求項5の発明は、請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の静電チャックにおいて、導体膜と電気的に接続された広面積の電極を、誘電体内であって且つ吸着電極の下方に配置した構成とする。
かかる構成により、試料処理終了後の残留する電荷を導体膜を通じて広面積の電極内に流出させることができるので、試料の離脱性を更に向上させることができる。
かかる構成により、試料処理終了後の残留する電荷を導体膜を通じて広面積の電極内に流出させることができるので、試料の離脱性を更に向上させることができる。
以上詳しく説明したように、この発明の静電チャックによれば、電荷の集中を防止して、試料への放電現象を回避することができるという優れた効果がある。
特に、請求項2の発明では、凹部内に入り込んだパーティクルを容易に拭き取り又は洗い流すことができるという効果がある。
さらに、請求項6の発明では、試料の離脱性を更に向上させることができるという効果がある。
特に、請求項2の発明では、凹部内に入り込んだパーティクルを容易に拭き取り又は洗い流すことができるという効果がある。
さらに、請求項6の発明では、試料の離脱性を更に向上させることができるという効果がある。
以下、この発明の最良の形態について図面を参照して説明する。
図1は、この発明の第1実施例に係る静電チャックの斜視図であり、図2は、図1の静電チャックの矢視A−A断面図であり、図3は、静電チャックを示す平面図である。
図1に示すように、この実施例の静電チャック1は、ウエハ用の静電チャックであり、基盤2と誘電体3と吸着電極4とを備え、凹部としての溝部5を誘電体3の吸着面32aに有している。
図1に示すように、この実施例の静電チャック1は、ウエハ用の静電チャックであり、基盤2と誘電体3と吸着電極4とを備え、凹部としての溝部5を誘電体3の吸着面32aに有している。
基盤2は、図2及び図3に示すように、アルミニュウム製の円盤体であり、冷却水通路21をその内部に有し、3つのボルト孔22を中央部付近に有する。これらのボルト孔22には、誘電体3や後述するクッションシート20に穿設された孔3a及び20aが連通しており、これらの孔3a,20aから図示しないボルトをボルト孔22に挿入することにより、静電チャック1を載置台等に固定することができるようになっている。
誘電体3は、厚さ500μmシリコン製のクッションシート20を介して基盤2上に載置固定されている。
この誘電体3は、樹脂シート31,32を積層して形成した積層体である。具体的には、樹脂シート31,32を、共に厚さ125μmのポリイミド樹脂で形成し、吸着電極4を挟んだ状態で、これら樹脂シート31,32を図示しない厚さ20μmのポリイミド系接着剤により接着した。これにより、誘電体3の樹脂シート32の表面を、試料であるウエハを吸着するための吸着面32aとした。
この誘電体3は、樹脂シート31,32を積層して形成した積層体である。具体的には、樹脂シート31,32を、共に厚さ125μmのポリイミド樹脂で形成し、吸着電極4を挟んだ状態で、これら樹脂シート31,32を図示しない厚さ20μmのポリイミド系接着剤により接着した。これにより、誘電体3の樹脂シート32の表面を、試料であるウエハを吸着するための吸着面32aとした。
吸着電極4は、誘電体3の内部に配置され、その電位によって、吸着面32aに電荷を誘起させるための電極であり、具体的には、スパッタリングによって樹脂シート32上に形成された厚さ0.6μmの銅パターンである。
図4は、吸着電極4を示す平面図である。
この実施例の吸着電極4は、双極型吸着電極である。具体的には、図4に示すように、同心円状の第1極吸着電極パターン41を、同じく同心円状の第2極吸着電極パターン42と交互に配置することで、吸着電極4を構成した。そして、直流電源100とスイッチ101とを第1及び第2極吸着電極パターン41,42のそれぞれに接続した。
図4は、吸着電極4を示す平面図である。
この実施例の吸着電極4は、双極型吸着電極である。具体的には、図4に示すように、同心円状の第1極吸着電極パターン41を、同じく同心円状の第2極吸着電極パターン42と交互に配置することで、吸着電極4を構成した。そして、直流電源100とスイッチ101とを第1及び第2極吸着電極パターン41,42のそれぞれに接続した。
溝部5は、冷却ガス等を通すためのものであり、図1及び図3に示すように、中央のリング状の溝パターン51とこの溝パターン51から放射状に延びた3本の溝パターン52とボルト孔22から放射状に延びた3本の溝パターン53とを有したパターン形状をなす。
図5は、溝部5の幅方向の断面形状を示す部分拡大断面図であり、図6は、導体膜の接地状態を示す部分拡大断面図である。
図5に示すように、溝部5を構成する溝パターン51〜53はそれぞれ、全体として楕円弧状をなし、所定曲率の丸め部5aを吸着面32aと溝部5との境界部に備える。すなわち、丸め部5aによって、誘電体3の表面が吸着面32aから溝部5内に向かって滑らかに湾曲している。また、溝部5の内側面5bから内底面5cに向かって滑らかに湾曲するように丸めて、溝部5全体を楕円弧状にしている。このため、溝部5の底には、角部が存在しない。この実施例では、このような溝部5の幅wを約2mmに設定し、深さtを5μm〜30μmの範囲に設定した。
図5は、溝部5の幅方向の断面形状を示す部分拡大断面図であり、図6は、導体膜の接地状態を示す部分拡大断面図である。
図5に示すように、溝部5を構成する溝パターン51〜53はそれぞれ、全体として楕円弧状をなし、所定曲率の丸め部5aを吸着面32aと溝部5との境界部に備える。すなわち、丸め部5aによって、誘電体3の表面が吸着面32aから溝部5内に向かって滑らかに湾曲している。また、溝部5の内側面5bから内底面5cに向かって滑らかに湾曲するように丸めて、溝部5全体を楕円弧状にしている。このため、溝部5の底には、角部が存在しない。この実施例では、このような溝部5の幅wを約2mmに設定し、深さtを5μm〜30μmの範囲に設定した。
ここで、溝部5のパターン形成方法について説明する。
まず、図2に示したように、基盤2の上に、クッションシート20、樹脂シート31、吸着電極4、樹脂シート32を積層して、樹脂シート31,32間をポリイミド系接着剤で接着する。次に、溝部5のパターンと同形の金型を樹脂シート32の上に押圧すると共に加熱することで、図5に示した溝部5を樹脂シート32の吸着面32a上に形成する。このとき、樹脂シート32は、金型の押圧力によって撓むので、かかる撓みによって、丸め部5aが溝部5と吸着面32aとの境界部に形成されると共に、溝部5全体が楕円弧状になる。このとき、金型の押圧力により、樹脂シート32は樹脂シート31側に変形するが、加熱によってポリイミド系接着剤が流動化するので、この押圧力が、流動化した接着剤によって水平な面方向に逃され、樹脂シート31は変形せずに平面状を保つ。
まず、図2に示したように、基盤2の上に、クッションシート20、樹脂シート31、吸着電極4、樹脂シート32を積層して、樹脂シート31,32間をポリイミド系接着剤で接着する。次に、溝部5のパターンと同形の金型を樹脂シート32の上に押圧すると共に加熱することで、図5に示した溝部5を樹脂シート32の吸着面32a上に形成する。このとき、樹脂シート32は、金型の押圧力によって撓むので、かかる撓みによって、丸め部5aが溝部5と吸着面32aとの境界部に形成されると共に、溝部5全体が楕円弧状になる。このとき、金型の押圧力により、樹脂シート32は樹脂シート31側に変形するが、加熱によってポリイミド系接着剤が流動化するので、この押圧力が、流動化した接着剤によって水平な面方向に逃され、樹脂シート31は変形せずに平面状を保つ。
また、図5に示すように、溝部5を構成する溝パターン51〜53の内面には、導体膜6が形成されている。
導体膜6は、残留電荷を除去するための導体であり、SiC(炭化シリコン),Si(シリコン)やC(炭素)等の導電性物質を用いる。この実施例では、体積抵抗値の低いSiを用い、このSiを、マスクを用いて、溝パターン51〜53の丸め部5aから内側面5b及び内底面5cに亘って、厚さ0.5μmで蒸着した。これにより、Si製の導体膜6が丸め部5aをも含めた状態で溝部5全体を覆う。
また、図1及び図3に示したように、ボルト孔22から放射状に延びた3本の溝パターン53に形成された導体膜6においては、図6に示すように、導体膜6の先端部6aをボルト孔22内に入り込ませ、先端部6aを導電性接着剤23でクッションシート20に接着することにより、アルミニュウム製の基盤2に接続した。これにより、連結した溝パターン51〜53全体が基盤2を通じて接地された状態になる。
導体膜6は、残留電荷を除去するための導体であり、SiC(炭化シリコン),Si(シリコン)やC(炭素)等の導電性物質を用いる。この実施例では、体積抵抗値の低いSiを用い、このSiを、マスクを用いて、溝パターン51〜53の丸め部5aから内側面5b及び内底面5cに亘って、厚さ0.5μmで蒸着した。これにより、Si製の導体膜6が丸め部5aをも含めた状態で溝部5全体を覆う。
また、図1及び図3に示したように、ボルト孔22から放射状に延びた3本の溝パターン53に形成された導体膜6においては、図6に示すように、導体膜6の先端部6aをボルト孔22内に入り込ませ、先端部6aを導電性接着剤23でクッションシート20に接着することにより、アルミニュウム製の基盤2に接続した。これにより、連結した溝パターン51〜53全体が基盤2を通じて接地された状態になる。
次に、この実施例の静電チャック1が示す作用及び効果について説明する。
図7は、この静電チャック1の使用例を示す断面図であり、図8は、ウエハに対する静電チャック1の吸着作用を説明するための概略図である。
図7において、符号200は、載置台であり、この載置台200は、リング体201をその上周縁部に備える。静電チャック1は、基盤2を下にして、リング体201の内側に入るように載置台200の上に載せる。そして、ボルト110をボルト孔22内から載置台200のネジ穴に螺入して、静電チャック1を載置台200上に固定する。しかる後、ウエハWを誘電体3の吸着面32aに載せた状態で、スイッチ101をオン状態にすると、直流電源100の直流電圧が吸着電極4の第1及び第2極吸着電極パターン41,42間に印加される。
図7は、この静電チャック1の使用例を示す断面図であり、図8は、ウエハに対する静電チャック1の吸着作用を説明するための概略図である。
図7において、符号200は、載置台であり、この載置台200は、リング体201をその上周縁部に備える。静電チャック1は、基盤2を下にして、リング体201の内側に入るように載置台200の上に載せる。そして、ボルト110をボルト孔22内から載置台200のネジ穴に螺入して、静電チャック1を載置台200上に固定する。しかる後、ウエハWを誘電体3の吸着面32aに載せた状態で、スイッチ101をオン状態にすると、直流電源100の直流電圧が吸着電極4の第1及び第2極吸着電極パターン41,42間に印加される。
すると、図8に示すように、第1極吸着電極パターン41に対応する吸着面32aの部位に正電荷が帯電すると共に、この部位に対向するウエハWの部位に負電荷が帯電する。そして、第2極吸着電極パターン42に対応する吸着面32aの部位に負電荷が帯電すると共に、この部位に対向するウエハWの部位に正電荷が帯電する。これにより、誘電体3の吸着面32aに分布した電荷と、ウエハWに分極帯電した電荷によるクーロン力(あるいはジャンセン−ラーベック力)によって、ウエハWが静電チャック1の吸着面32aに吸着されて、固定される。かかる状態で、ウエハWの対する所定の処理を行うことができる。
図9は、ウエハへの放電現象を説明するための概略図であり、図10は、この実施例に適用された溝部5の機能を説明するための概略図である。
上記のごとく、直流電源100の直流電圧が吸着電極4に印加されると、異なる極の電荷が、誘電体3の吸着面32aとウエハWとに帯電し、ウエハWを吸着面32aに吸着させるが、図9に示すように、溝部5と吸着面32aとの境界部が角張っていると、多量の電荷qがその角部5aに集中し、電荷qがこの角部5aからウエハWに向かい、放電が発生するおそれがある。
しかしながら、この実施例では、図10に示すように、溝部5と吸着面32aとの境界部に所定曲率の丸め部5aが形成されているので、電荷qがこの丸め部5aに集中することはない。このため、電荷qの丸め部5aにおける分布密度は小さくなり、この結果、電荷qがウエハWへ放電するおそれはない。
上記のごとく、直流電源100の直流電圧が吸着電極4に印加されると、異なる極の電荷が、誘電体3の吸着面32aとウエハWとに帯電し、ウエハWを吸着面32aに吸着させるが、図9に示すように、溝部5と吸着面32aとの境界部が角張っていると、多量の電荷qがその角部5aに集中し、電荷qがこの角部5aからウエハWに向かい、放電が発生するおそれがある。
しかしながら、この実施例では、図10に示すように、溝部5と吸着面32aとの境界部に所定曲率の丸め部5aが形成されているので、電荷qがこの丸め部5aに集中することはない。このため、電荷qの丸め部5aにおける分布密度は小さくなり、この結果、電荷qがウエハWへ放電するおそれはない。
そして、ウエハWの処理終了後に、スイッチ101をオフにして、直流電源100から吸着電極4への電圧を切ると、図10に示すように、吸着面32a上の電荷qや溝部5内の電荷qが導体膜6を通じて基盤2(図3参照)から外部に逃げる。この結果、電荷qが誘電体3の吸着面32aに残留することはなく、ウエハWを容易に静電チャック1から離脱することができる。
ウエハWの処理によってパーティクルが付着した静電チャック1の吸着面32aは洗浄される。このとき、図9に示すように、溝部5の内側面5bと内底面5cとの境界部が角張っていると、パーティクルpがその角部に入り込んで、容易に拭き取り又は洗い流すことができなくなる。
しかしながら、この実施例では、図10に示すように、溝部5全体が楕円弧状になっているので、溝部5の底には、角部が存在しない。このため、溝部5内のパーティクルpが溝部5の角に溜まりにくくなり、また、溝部5に付着しても、容易に拭き取り又は洗い流すことができる。
しかしながら、この実施例では、図10に示すように、溝部5全体が楕円弧状になっているので、溝部5の底には、角部が存在しない。このため、溝部5内のパーティクルpが溝部5の角に溜まりにくくなり、また、溝部5に付着しても、容易に拭き取り又は洗い流すことができる。
次に、この発明の第2実施例について説明する。
図11は、この発明の第2実施例に係る静電チャックを示す概略断面図であり、図12は、電極7の形状を示す平面図である。なお、図11においては、各部材を見やすくするため、各層のハッチングを除いた。
この実施例は、広面積の電極7を吸着電極4の下方に配置した点が、上記第1実施例と異なる。
具体的には、図11に示すように、誘電体3を3枚の樹脂シート31,32,33で構成し、電極7を樹脂シート33上に形成し、樹脂シート32を樹脂シート33に図示しないポリイミド系接着剤で接着した。
電極7は、図12に示すように、吸着電極4の形状に対応したドーナッツ形状をなし、図11に示すように、吸着電極4と対向するように、吸着電極4の真下に配置されている。そして、この電極7と溝部5内の導体膜6とが、導電線76を通じて電気的に接続されている。
また、このように、導電線76を通じて電極7に接続された導体膜6は、第1実施例と異なり、基盤2に接続されておらず、非接地状態にある。
図11は、この発明の第2実施例に係る静電チャックを示す概略断面図であり、図12は、電極7の形状を示す平面図である。なお、図11においては、各部材を見やすくするため、各層のハッチングを除いた。
この実施例は、広面積の電極7を吸着電極4の下方に配置した点が、上記第1実施例と異なる。
具体的には、図11に示すように、誘電体3を3枚の樹脂シート31,32,33で構成し、電極7を樹脂シート33上に形成し、樹脂シート32を樹脂シート33に図示しないポリイミド系接着剤で接着した。
電極7は、図12に示すように、吸着電極4の形状に対応したドーナッツ形状をなし、図11に示すように、吸着電極4と対向するように、吸着電極4の真下に配置されている。そして、この電極7と溝部5内の導体膜6とが、導電線76を通じて電気的に接続されている。
また、このように、導電線76を通じて電極7に接続された導体膜6は、第1実施例と異なり、基盤2に接続されておらず、非接地状態にある。
かかる構成により、ウエハW処理終了後に、吸着面32aに残留する電荷は、導体膜6を通じて広面積の電極7内に流出するので、処理終了後のウエハWの離脱性が更に向上する。
その他の構成、作用及び効果は、上記第1実施例と同様であるので、その記載は省略する。
その他の構成、作用及び効果は、上記第1実施例と同様であるので、その記載は省略する。
なお、この発明は、上記実施例に限定されるものではなく、発明の要旨の範囲内において種々の変形や変更が可能である。
例えば、上記実施例では、溝部5の幅方向の断面形状を、丸め部5aを吸着面32aと溝部5との境界部に備え、全体として楕円弧状をなす形状に設定した。しかし、溝部5の断面形状はこれに限定されるものではない。丸め部を吸着面32aと溝部5との境界部に有し、溝部5の内側面5bから内底面5cに向かって滑らかに湾曲する丸め部を、溝部5の内底面5cの両角に有する溝部5の全てがこの発明の範囲内に含まれる。したがって、図13の(a)に示すように、丸め部を有した四角形状のもの、図13の(b)に示すように、丸め部を有した台形形状のもの、図13の(c)に示すように、、丸め部を有した円弧状であるものも、この発明の範囲内に含まれる。
なお、丸め部を吸着面32aと溝部5との境界部にのみ有し、内底面5cの両角には、丸め部を有しない発明もこの発明の範囲に含まれる。
例えば、上記実施例では、溝部5の幅方向の断面形状を、丸め部5aを吸着面32aと溝部5との境界部に備え、全体として楕円弧状をなす形状に設定した。しかし、溝部5の断面形状はこれに限定されるものではない。丸め部を吸着面32aと溝部5との境界部に有し、溝部5の内側面5bから内底面5cに向かって滑らかに湾曲する丸め部を、溝部5の内底面5cの両角に有する溝部5の全てがこの発明の範囲内に含まれる。したがって、図13の(a)に示すように、丸め部を有した四角形状のもの、図13の(b)に示すように、丸め部を有した台形形状のもの、図13の(c)に示すように、、丸め部を有した円弧状であるものも、この発明の範囲内に含まれる。
なお、丸め部を吸着面32aと溝部5との境界部にのみ有し、内底面5cの両角には、丸め部を有しない発明もこの発明の範囲に含まれる。
また、上記実施例では、図3に示したように、溝部5を、リング状の溝パターン51と放射状に延びた溝パターン52,53とを有したパターン形状に形成したが、溝部の形状は任意であり、上記実施例のパターン形状に限定されるものではない。
また、上記実施例では、誘電体3は、ポリイミド樹脂の樹脂シート31,32を積層して形成したが、これに限定されるものではない。誘電体3は、合成樹脂の積層体であればよい。したがって、ポリイミド以外の多種の合成樹脂使用可アラミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ、フタレート、ポリフェニレンサルファイド、ポリメチルペンテン、その他、ポリエーテルエーテルケトン(PEEK)、ポリエーテルイミド(PEI)、ポリエーテルスルフォン(PES)、ポリアミドイミド(PAI)、ビスマレイミド(BMI)等も誘電体3を構成する樹脂シートとして適用することができる。
なお、合成樹脂でなく、セラミックスで形成した誘電体を備えた静電チャックもこの発明の範囲に含まれる。
なお、合成樹脂でなく、セラミックスで形成した誘電体を備えた静電チャックもこの発明の範囲に含まれる。
また、上記実施例では、吸着電極4として、双極型吸着電極を適用したが、これに限らず、単極型吸着電極を適用しても良いことは勿論である。
また、上記第2実施例では、電極7の形状を吸着電極4に対応したドーナッツ形状に設定したが、残留電荷を導体膜6から受け入れ可能な広面積の形状をしていれば良く、その形状は任意である。
1…静電チャック、 2…基盤、 3…誘電体、 4…吸着電極、 5…溝部、 5a…丸め部、 5b…内側面、 5c…内底面、 6…導体膜、 6a…先端部、 7…電極、 20…クッションシート、 3a,20a…孔、 21…冷却水通路、 22…ボルト孔、 23…導電性接着剤、 31,32,33…樹脂シート、 32a…吸着面、 41…第1極吸着電極パターン、 42…第2極吸着電極パターン、 51〜53…各溝パターン、 76…導電線、 100…直流電源、 101…スイッチ、 200…載置台、 201…リング体、 W…ウエハ、 p…パーティクル、 q…電荷。
Claims (5)
- 表面を試料の吸着面とする誘電体と、この誘電体の内部に配置された吸着電極と、上記誘電体の吸着面に形成され、導体膜が内面に形成された凹部とを備える静電チャックであって、
上記吸着面から上記凹部内に向かって滑らかに湾曲する丸め部を、当該吸着面と凹部との境界部に形成し、
上記導体膜を、上記丸め部から上記凹部内面に亘って形成した、
ことを特徴とする静電チャック。 - 請求項1に記載の静電チャックにおいて、
上記凹部の内側面から内底面に向かって滑らかに湾曲する丸め部を、上記凹部の底の両角のそれぞれに形成した、
ことを特徴とする静電チャック。 - 請求項1又は請求項2に記載の静電チャックにおいて、
上記凹部の幅方向の断面形状を、弧状に形成した、
ことを特徴とする静電チャック。 - 請求項1ないし請求項3のいずれかに記載の静電チャックにおいて、
上記誘電体は、合成樹脂の積層体である、
ことを特徴とする静電チャック。 - 請求項1ないし請求項4のいずれかに記載の静電チャックにおいて、
上記導体膜と電気的に接続された広面積の電極を、上記誘電体内であって且つ上記吸着電極の下方に配置した、
ことを特徴とする静電チャック。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007045004A JP2008210913A (ja) | 2007-02-26 | 2007-02-26 | 静電チャック |
Applications Claiming Priority (1)
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JP2007045004A JP2008210913A (ja) | 2007-02-26 | 2007-02-26 | 静電チャック |
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Family
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Country | Link |
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
TWI387047B (zh) * | 2009-04-28 | 2013-02-21 | Vanguard Int Semiconduct Corp | 電子靜電式吸盤 |
CN103222043A (zh) * | 2010-09-08 | 2013-07-24 | 恩特格林斯公司 | 一种高传导静电夹盘 |
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-
2007
- 2007-02-26 JP JP2007045004A patent/JP2008210913A/ja active Pending
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