JP2008198939A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】トリミング時のヒューズ回路の誤切断を起こしにくい半導体装置を提供する。
【解決手段】半導体基板と、層間絶縁膜と、窒化膜と、前記窒化膜と前記層間絶縁膜を貫通する第1ビアプラグ及びこの第1ビアプラグに電気的に接続される第1のヒューズを有する第1の冗長回路と、前記窒化膜と前記層間絶縁膜を貫通する第2ビアプラグ及びこの第2ビアプラグに電気的に接続される第2のヒューズを有する第2の冗長回路とを有し、第1ビアプラグと前記窒化膜との間、及び第2ビアプラグと前記窒化膜との間にそれぞれ酸化膜が介在する半導体装置。
【選択図】図14
【解決手段】半導体基板と、層間絶縁膜と、窒化膜と、前記窒化膜と前記層間絶縁膜を貫通する第1ビアプラグ及びこの第1ビアプラグに電気的に接続される第1のヒューズを有する第1の冗長回路と、前記窒化膜と前記層間絶縁膜を貫通する第2ビアプラグ及びこの第2ビアプラグに電気的に接続される第2のヒューズを有する第2の冗長回路とを有し、第1ビアプラグと前記窒化膜との間、及び第2ビアプラグと前記窒化膜との間にそれぞれ酸化膜が介在する半導体装置。
【選択図】図14
Description
本発明は、半導体装置およびその製造方法に関し、特に冗長回路に好適な構造を有する半導体装置およびその製造方法に関するものである。
近年のデジタル技術の発展に伴い、半導体装置の大容量化、高集積化が要求されてきている。これに伴い、冗長回路のヒューズの数も増加し、ヒューズの微細化や高密度化(ピッチの縮小化)が行われている。
冗長回路は、例えば、アルミニウムからなるヒューズ(トリミング配線)にレーザーを照射して熱的に切断し、半導体装置の製造後における不良メモリセルを予備のメモリセルに切り替えることができる。
特開2004−103960号公報には、アルミニウムを主成分とする配線層からなるヒューズをレーザー照射により切断する方法が開示されている。ヒューズ長手方向に沿った複数回のレーザー照射によりヒューズの切断が行われ、このような方法によれば、ヒューズ周辺の絶縁膜へのダメージや、切断を所望しない隣接ヒューズへのダメージが抑えられることが記載されている。
特開2004−103960号公報
図1に従来のヒューズ構造の断面を示す。シリコン基板100上に素子分離101で絶縁分離された拡散層1が形成され、これらの拡散層1は、層間絶縁膜110を貫通するコンタクトプラグ2を介してヒューズ回路配線3に接続されている。このヒューズ回路配線3は、層間絶縁膜130、窒化膜7及び層間絶縁膜120を貫通するビアプラグ4を介してトリミング配線(ヒューズ)5に接続されている。トリミング配線5の下面側および上面側にそれぞれバリア膜5aおよびキャップ膜5bが設けられている。最上層にはパッシベーション膜6が形成されている。窒化膜7は、例えば、メモリ(DRAMなど)の容量絶縁膜(Ta2O5膜など)の形成時に取り込まれるカーボン成分のストッパ膜として設けられている。
このような構造において、隣接するヒューズ回路(冗長回路)の一方のトリミング配線5をレーザー照射により切断する際、レーザー光の漏れにより窒化膜7が加熱され、この窒化膜経由の熱伝導により他方のヒューズ回路の誤切断が生じることがある。図2は、図1に示す構造において、一方のヒューズ回路のトリミング配線5をトリミングした状態を示す。図中の符号200はトリミング部を示す。図2に示す状態は、トリミング配線5の切断が正常に行われた場合を示し、隣接する他方のヒューズ回路(冗長回路)はレーザー照射の影響を受けていない。これに対して、図3では、一方のヒューズ回路のヒューズを切断する際のレーザー照射の影響により、他方のヒューズ回路のビアプラグ4に欠損部8が発生し、ヒューズ回路が誤切断されている。この欠損部8は、窒化膜7近傍に発生し、レーザー光の漏れにより加熱された窒化膜経由の熱に起因すると考えられる。近年の半導体装置の高性能化や高集積化の要求に伴い、冗長回路においても微細化や高密度化(ヒューズピッチの縮小化)が進み、このような問題は増加する傾向にある。
そこで本発明の目的は、トリミング時のヒューズ回路の誤切断を起こしにくい半導体装置およびその製造方法を提供することにある。
本発明によれば、以下の半導体装置およびその製造方法が提供される。
(1)半導体基板と、層間絶縁膜と、窒化膜と、
前記窒化膜と前記層間絶縁膜を貫通する第1ビアプラグ、及び前記第1ビアプラグに電気的に接続される第1のヒューズを有する第1の冗長回路と、
前記窒化膜と前記層間絶縁膜を貫通する第2ビアプラグ、及び前記第2ビアプラグに電気的に接続される第2のヒューズを有する第2の冗長回路とを有し、
前記第1ビアプラグと前記窒化膜との間、及び前記第2ビアプラグと前記窒化膜との間にそれぞれ酸化膜が介在する半導体装置。
前記窒化膜と前記層間絶縁膜を貫通する第1ビアプラグ、及び前記第1ビアプラグに電気的に接続される第1のヒューズを有する第1の冗長回路と、
前記窒化膜と前記層間絶縁膜を貫通する第2ビアプラグ、及び前記第2ビアプラグに電気的に接続される第2のヒューズを有する第2の冗長回路とを有し、
前記第1ビアプラグと前記窒化膜との間、及び前記第2ビアプラグと前記窒化膜との間にそれぞれ酸化膜が介在する半導体装置。
(2)前記第1のヒューズ及び前記第2のヒューズは、それぞれ前記第1ビアプラグ及び第2ビアプラグの直上に配置され、且つ互いに隣接して配置されている上記1項に記載の半導体装置。
(3)半導体基板と、
互いに絶縁分離された第1の拡散層および第2の拡散層と、
前記第1の拡散層に、第1の層間絶縁膜を貫通する第1コンタクトプラグを介して電気的に接続された第1の下層配線と、
前記第2の拡散層に、前記第1の層間絶縁膜を貫通する第2コンタクトプラグを介して電気的に接続された第2の下層配線と、
前記第1の下層配線に、第2の層間絶縁膜および窒化膜を貫通する第1ビアプラグを介して電気的に接続された第1の上層配線と、
前記第2の下層配線に、前記第2の層間絶縁膜および前記窒化膜を貫通する第2ビアプラグを介して電気的に接続された第2の上層配線とを有し、
前記第1ビアプラグと前記窒化膜との間、及び前記第2ビアプラグと前記窒化膜との間にそれぞれ酸化膜が介在する半導体装置。
互いに絶縁分離された第1の拡散層および第2の拡散層と、
前記第1の拡散層に、第1の層間絶縁膜を貫通する第1コンタクトプラグを介して電気的に接続された第1の下層配線と、
前記第2の拡散層に、前記第1の層間絶縁膜を貫通する第2コンタクトプラグを介して電気的に接続された第2の下層配線と、
前記第1の下層配線に、第2の層間絶縁膜および窒化膜を貫通する第1ビアプラグを介して電気的に接続された第1の上層配線と、
前記第2の下層配線に、前記第2の層間絶縁膜および前記窒化膜を貫通する第2ビアプラグを介して電気的に接続された第2の上層配線とを有し、
前記第1ビアプラグと前記窒化膜との間、及び前記第2ビアプラグと前記窒化膜との間にそれぞれ酸化膜が介在する半導体装置。
(4)前記第1の上層配線および前記第2の上層配線は、それぞれ前記第1ビアプラグ及び第2ビアプラグの直上に配置され、且つ互いに隣接している上記3項に記載の半導体装置。
(5)前記第1の拡散層、前記第1コンタクトプラグ、前記第1の下層配線、前記第1ビアプラグ及び前記第1の上層配線は第1の冗長回路を構成し、前記第2の拡散層、前記第2コンタクトプラグ、前記第2の下層配線、前記第2ビアプラグ及び前記第2の上層配線は第2の冗長回路を構成し、前記第1の上層配線および第2の上層配線はそれぞれ前記第1の冗長回路および第2の冗長回路のヒューズを構成する上記3項又は4項に記載の半導体装置。
(6)前記窒化膜の下層側に第3の層間絶縁膜をさらに有し、
前記第2の層間絶縁膜が前記窒化膜の上層側に配置されている上記3項から5項のいずれかに記載の半導体装置。
前記第2の層間絶縁膜が前記窒化膜の上層側に配置されている上記3項から5項のいずれかに記載の半導体装置。
(7)前記第1ビアプラグが埋め込まれているホール及び前記第2ビアプラグが埋め込まれているホールにおいて、当該ホール内壁面に対して、前記窒化膜が後退して窪みが形成され、その窪み内に酸化膜が埋め込まれている上記1項から6項のいずれかに記載の半導体装置。
(8)上記3項に記載の半導体装置の製造方法であって、
互いに絶縁分離された第1の拡散層および第2の拡散層が形成された半導体基板を用意する工程と、
第1の層間絶縁膜を形成する工程と、
前記第1の層間絶縁膜を貫通し、前記第1の拡散層および第2の拡散層にそれぞれ電気的に接続する第1コンタクトプラグ及び第2コンタクトプラグを形成する工程と、
前記第1コンタクトプラグ及び第2コンタクトプラグにそれぞれ電気的に接続する第1の下層配線および第2の下層配線を形成する工程と、
窒化膜を形成する工程と、
第2の層間絶縁膜を形成する工程と、
前記第1の下層配線および第2の下層配線のそれぞれの直上に、前記第2の層間絶縁膜および前記窒化膜を貫通し、内壁面に前記窒化膜が露出するホールを形成する工程と、
露出した窒化膜を覆うように、前記ホールの内壁面上に酸化膜を形成する工程と、
前記ホール底部を開口した後、このホール内に導電性材料を埋め込んで、前記第1の下層配線および第2の下層配線にそれぞれ電気的に接続する第1ビアプラグ及び第2ビアプラグを形成する工程と、
前記第1ビアプラグ及び第2ビアプラグにそれぞれ電気的に接続される第1の上層配線および第2の上層配線を形成する工程とを有する半導体装置の製造方法。
互いに絶縁分離された第1の拡散層および第2の拡散層が形成された半導体基板を用意する工程と、
第1の層間絶縁膜を形成する工程と、
前記第1の層間絶縁膜を貫通し、前記第1の拡散層および第2の拡散層にそれぞれ電気的に接続する第1コンタクトプラグ及び第2コンタクトプラグを形成する工程と、
前記第1コンタクトプラグ及び第2コンタクトプラグにそれぞれ電気的に接続する第1の下層配線および第2の下層配線を形成する工程と、
窒化膜を形成する工程と、
第2の層間絶縁膜を形成する工程と、
前記第1の下層配線および第2の下層配線のそれぞれの直上に、前記第2の層間絶縁膜および前記窒化膜を貫通し、内壁面に前記窒化膜が露出するホールを形成する工程と、
露出した窒化膜を覆うように、前記ホールの内壁面上に酸化膜を形成する工程と、
前記ホール底部を開口した後、このホール内に導電性材料を埋め込んで、前記第1の下層配線および第2の下層配線にそれぞれ電気的に接続する第1ビアプラグ及び第2ビアプラグを形成する工程と、
前記第1ビアプラグ及び第2ビアプラグにそれぞれ電気的に接続される第1の上層配線および第2の上層配線を形成する工程とを有する半導体装置の製造方法。
(9)前記窒化膜を形成する前に、第3の層間絶縁膜を形成する工程をさらに有し、
前記第2の層間絶縁膜を前記窒化膜の形成後に形成する上記8項に記載の半導体装置の製造方法。
前記第2の層間絶縁膜を前記窒化膜の形成後に形成する上記8項に記載の半導体装置の製造方法。
(10)前記ホールを形成した後、前記ホール内に露出した窒化膜を、等方性エッチングによりホール内壁面に対して後退させて窪みを形成する工程をさらに有し、
前記酸化膜を形成する工程において、前記窪みを埋め込むようにホール内壁面上に酸化膜を形成する上記8項又は9項に記載の半導体装置の製造方法。
前記酸化膜を形成する工程において、前記窪みを埋め込むようにホール内壁面上に酸化膜を形成する上記8項又は9項に記載の半導体装置の製造方法。
本発明によれば、トリミング時のヒューズ回路の誤切断を起こしにくい半導体装置およびその製造方法を提供することができる。
前述の通り、窒化膜からなる層間膜を有するヒューズ構造においては、トリミング時のレーザー照射によるヒューズの切断に際して隣接ヒューズ回路にダメージが発生しやすい。この問題は、シリコン窒化膜等の窒化膜の熱伝導率がシリコン酸化膜等の層間絶縁膜にくらべて高いことに起因し、冗長回路を構成するヒューズ回路同士が近づくほど増加する傾向にある。特に、一方のヒューズ回路のヒューズ直下に接続されるビアプラグと他方のヒューズ回路のヒューズ直下に接続されるビアプラグの間隔が近づくほど、この問題が増加する傾向にあり、窒化膜位置におけるビアプラグ同士の間隔が2μm以下になると顕著になる。
本発明は、このような問題を解決するために、ヒューズ直下に接続されるビアプラグとこのビアプラグが貫通する窒化膜との間に酸化膜を介在させた構造を提供するものである。例えば、図9及び図14に示す構造、図13に示す構造をとることができる。図9は、図14に示す構造における、ビアプラグ4が窒化膜7を貫通する部分の拡大断面図である。図13は、図9に対応する部分の他の構造例を示す。これらの図における符号は、図1における符号に対応し、符号9は酸化膜を示す。
ビアプラグ4と窒化膜7との間に酸化膜9が介在することにより、ビアプラグ4と窒化膜7が直接接することがなくなり、また、この酸化膜9は窒化膜7よりも熱伝導率が低いため、ヒューズ切断時のレーザー光の漏れにより加熱された窒化膜経由の熱の伝導を抑えることができる。結果、切断を所望しない隣接するヒューズ回路の誤切断を防止することができる。本発明は、特にレーザートリミングにおいて高い置換精度が要求される冗長回路を有する半導体装置に有効である。この冗長回路は、DRAM等のメモリとともに設けることができる。
ビアプラグ4と窒化膜7との間に介在する酸化膜9の厚み(基板平面方向の厚み)は、十分に熱伝導を防止する観点から5nm以上が好ましく、10nm以上がより好ましい。また、この酸化膜の厚みは、製造および構造上の観点から、30nm以下が好ましく、20nm以下がより好ましい。
図9及び図14に示すヒューズ構造は、ヒューズ(トリミング配線5)直下のビアプラグ4が埋め込まれているスルーホールにおいて、その内壁面に対して窒化膜7が後退して窪みが形成され、その窪み内に酸化膜9が埋め込まれた構造を有しているため好ましい。ビアプラグ4と窒化膜7との間に介在する酸化膜の厚み(基板平面方向の厚み)が大きくなるため、窒化膜経由の熱伝導をより効果的に防止することができる。
以下、本発明の製造方法の一実施形態を説明する。
まず、素子分離101と、この素子分離により互いに絶縁分離された拡散層1が形成されたシリコン基板100を用意する。
このシリコン基板100上にCVD法によるシリコン酸化膜からなる層間絶縁膜110を形成する。次いで、この層間絶縁膜に、リソグラフィー技術とドライエッチング技術により、拡散層1に達するコンタクトホールを形成する。
次に、これらのコンタクトホールに導電性材料を埋めこむように成膜し、余剰の導電膜をCMP又はエッチバックにより除去してコンタクトプラグ2を形成する。
次に、通常の配線形成方法に従って、コンタクトプラグ2に電気的に接続されるヒューズ回路配線3を形成する。
次に、全面に、シリコン酸化膜からなる層間絶縁膜120、シリコン窒化膜7、及びシリコン酸化膜からなる層間絶縁膜130を積層する。本発明における窒化膜の厚みは、例えば5〜100nmの範囲に設定でき、窒化膜の形成目的に応じて10〜80nmの範囲に設定することができる。本実施形態では、容量絶縁膜(T2O5膜等)を形成する場合に設けられるストッパ膜として例えば厚み40〜60nmの範囲に設定でき、ここでは厚み50nmのシリコン窒化膜を形成する。
次に、リソグラフィー技術とドライエッチング技術により、層間絶縁膜130、シリコン窒化膜7及び層間絶縁膜120を貫通し、ヒューズ回路配線3に達するスルーホール131を形成する。このスルーホール131内において窒化膜7が露出する。
以上の工程により図4に示す構造が形成される。以下、スルーホール内の窒化膜露出部付近の拡大断面図(図5〜図13)を用いて説明する。
図5は、図4に示す構造におけるスルーホール内の窒化膜露出部付近の拡大断面図である。図5に示す構造を形成した後、等方性のプラズマエッチングまたはウェットエッチングにより、スルーホール131内に露出する窒化膜7を露出面側から除去してスルーホール内壁面に対して窒化膜7を後退させる。結果、図6に示すように、スルーホール内壁面に窪み132が形成される。
次に、窪み132を埋め込むように、CVD法によりスルーホール内壁面上にシリコン酸化膜9を形成する(図7)。シリコン酸化膜に代えてシリコン酸窒化膜を用いることができるが、より高い効果が得られるシリコン酸化膜が好ましい。続いて、異方性ドライエッチングにより酸化膜9をエッチバックし、スルーホール131の底部の酸化膜を除去して開口させる(図8)。
次に、スルーホール131内にタングステンやアルミニウムなどの導電性材料を埋め込むように成膜し、余剰の導電膜をCMP又はエッチバックにより除去してビアプラグ4を形成する(図9)。以上の工程により、窒化膜7とビアプラグ4の間に酸化膜9が介在する構造が形成される。
次に、通常の配線形成方法に従ってAl等からなるトリミング配線5を形成し、その上にパッシベーション膜6を形成して、図14に示す構造が得られる。
なお、図14において、トリミング配線5と層間絶縁膜の間にはAlとSiとの相互反応を抑制するために、Ti/TiNからなるバリア膜5aが設けられている。また、トリミング配線5の上には、リソグラフィー時の反射防止膜としてTi/TiNからなるキャップ膜5bが設けられている。
以下に、その他の製造例について説明する。
層間絶縁膜110、窒化膜7及び層間絶縁膜130の形成工程までは上記の方法と同様にして実施する。
次に、図10に示すように、リソグラフィー技術とドライエッチング技術により、層間絶縁膜130及びシリコン窒化膜7を貫通し、層間絶縁膜120上で停止するホール133を形成する。このホール133は、シリコン窒化膜7をストッパ膜として層間絶縁膜130をエッチングし、次いで、窒化膜7を選択的にエッチングすることで形成できる。
次に、CVD法によりホール133の内壁面上にシリコン酸化膜9を形成する(図11)。これにより、ホール内において露出する窒化膜7が酸化膜9により覆われる。
次に、異方性ドライエッチングにより酸化膜9をエッチバックし、さらにエッチング時間を延ばして、ヒューズ回路配線3に到達するまでエッチングして開口させる(図12)。これにより、スルーホール134が形成される。このスルーホール内において窒化膜7は酸化膜9で被覆されている。
次に、スルーホール134内に、タングステンやアルミニウムなどの導電性材料を埋め込むように成膜し、余剰の導電膜をCMPやエッチバックにより除去してビアプラグ4を形成する(図13)。以上の工程により、窒化膜7とビアプラグ4の間に酸化膜9が介在する構造が形成される。
次に、通常の配線形成方法に従ってトリミング配線5を形成し、その上にパッシベーション膜6を形成する。
1 拡散層
2 コンタクトプラグ
3 ヒューズ回路配線
4 ビアプラグ
5 トリミング配線(ヒューズ)
5a バリア膜
5b キャップ膜
6 パッシベーション膜
7 窒化膜
8 欠損部
9 酸化膜
100 シリコン基板
101 素子分離
110 層間絶縁膜
120 層間絶縁膜
130 層間絶縁膜
131 スルーホール
132 窪み
133 ホール
134 スルーホール
200 トリミング部
2 コンタクトプラグ
3 ヒューズ回路配線
4 ビアプラグ
5 トリミング配線(ヒューズ)
5a バリア膜
5b キャップ膜
6 パッシベーション膜
7 窒化膜
8 欠損部
9 酸化膜
100 シリコン基板
101 素子分離
110 層間絶縁膜
120 層間絶縁膜
130 層間絶縁膜
131 スルーホール
132 窪み
133 ホール
134 スルーホール
200 トリミング部
Claims (10)
- 半導体基板と、層間絶縁膜と、窒化膜と、
前記窒化膜と前記層間絶縁膜を貫通する第1ビアプラグ、及び前記第1ビアプラグに電気的に接続される第1のヒューズを有する第1の冗長回路と、
前記窒化膜と前記層間絶縁膜を貫通する第2ビアプラグ、及び前記第2ビアプラグに電気的に接続される第2のヒューズを有する第2の冗長回路とを有し、
前記第1ビアプラグと前記窒化膜との間、及び前記第2ビアプラグと前記窒化膜との間にそれぞれ酸化膜が介在する半導体装置。 - 前記第1のヒューズ及び前記第2のヒューズは、それぞれ前記第1ビアプラグ及び第2ビアプラグの直上に配置され、且つ互いに隣接して配置されている請求項1に記載の半導体装置。
- 半導体基板と、
互いに絶縁分離された第1の拡散層および第2の拡散層と、
前記第1の拡散層に、第1の層間絶縁膜を貫通する第1コンタクトプラグを介して電気的に接続された第1の下層配線と、
前記第2の拡散層に、前記第1の層間絶縁膜を貫通する第2コンタクトプラグを介して電気的に接続された第2の下層配線と、
前記第1の下層配線に、第2の層間絶縁膜および窒化膜を貫通する第1ビアプラグを介して電気的に接続された第1の上層配線と、
前記第2の下層配線に、前記第2の層間絶縁膜および前記窒化膜を貫通する第2ビアプラグを介して電気的に接続された第2の上層配線とを有し、
前記第1ビアプラグと前記窒化膜との間、及び前記第2ビアプラグと前記窒化膜との間にそれぞれ酸化膜が介在する半導体装置。 - 前記第1の上層配線および前記第2の上層配線は、それぞれ前記第1ビアプラグ及び第2ビアプラグの直上に配置され、且つ互いに隣接している請求項3に記載の半導体装置。
- 前記第1の拡散層、前記第1コンタクトプラグ、前記第1の下層配線、前記第1ビアプラグ及び前記第1の上層配線は第1の冗長回路を構成し、前記第2の拡散層、前記第2コンタクトプラグ、前記第2の下層配線、前記第2ビアプラグ及び前記第2の上層配線は第2の冗長回路を構成し、前記第1の上層配線および第2の上層配線はそれぞれ前記第1の冗長回路および第2の冗長回路のヒューズを構成する請求項3又は4に記載の半導体装置。
- 前記窒化膜の下層側に第3の層間絶縁膜をさらに有し、
前記第2の層間絶縁膜が前記窒化膜の上層側に配置されている請求項3から5のいずれかに記載の半導体装置。 - 前記第1ビアプラグが埋め込まれているホール及び前記第2ビアプラグが埋め込まれているホールにおいて、当該ホール内壁面に対して、前記窒化膜が後退して窪みが形成され、その窪み内に酸化膜が埋め込まれている請求項1から6のいずれかに記載の半導体装置。
- 請求項3に記載の半導体装置の製造方法であって、
互いに絶縁分離された第1の拡散層および第2の拡散層が形成された半導体基板を用意する工程と、
第1の層間絶縁膜を形成する工程と、
前記第1の層間絶縁膜を貫通し、前記第1の拡散層および第2の拡散層にそれぞれ電気的に接続する第1コンタクトプラグ及び第2コンタクトプラグを形成する工程と、
前記第1コンタクトプラグ及び第2コンタクトプラグにそれぞれ電気的に接続する第1の下層配線および第2の下層配線を形成する工程と、
窒化膜を形成する工程と、
第2の層間絶縁膜を形成する工程と、
前記第1の下層配線および第2の下層配線のそれぞれの直上に、前記第2の層間絶縁膜および前記窒化膜を貫通し、内壁面に前記窒化膜が露出するホールを形成する工程と、
露出した窒化膜を覆うように、前記ホールの内壁面上に酸化膜を形成する工程と、
前記ホール底部を開口した後、このホール内に導電性材料を埋め込んで、前記第1の下層配線および第2の下層配線にそれぞれ電気的に接続する第1ビアプラグ及び第2ビアプラグを形成する工程と、
前記第1ビアプラグ及び第2ビアプラグにそれぞれ電気的に接続される第1の上層配線および第2の上層配線を形成する工程とを有する半導体装置の製造方法。 - 前記窒化膜を形成する前に、第3の層間絶縁膜を形成する工程をさらに有し、
前記第2の層間絶縁膜を前記窒化膜の形成後に形成する請求項8に記載の半導体装置の製造方法。 - 前記ホールを形成した後、前記ホール内に露出した窒化膜を、等方性エッチングによりホール内壁面に対して後退させて窪みを形成する工程をさらに有し、
前記酸化膜を形成する工程において、前記窪みを埋め込むようにホール内壁面上に酸化膜を形成する請求項8又は9に記載の半導体装置の製造方法。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7863177B2 (en) | 2008-10-22 | 2011-01-04 | Hynix Semiconductor Inc. | Fuse in a semiconductor device and method for fabricating the same |
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2007
- 2007-02-15 JP JP2007035127A patent/JP2008198939A/ja active Pending
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