JP2008194815A - フェリチンを基板上に二次元配列させる方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】フェリチン15を基板上11に二次元配列させる方法であって、前記フェリチン15は外周面に配列番号1で示されるアミノ酸配列を有し、前記基板の表面は親水性を有しており、前記方法は、溶媒、前記フェリチン15、および2mM以上100mM以下の酢安を有する溶液を前記基板上に展開する展開工程、および前記基板上に展開した溶液から溶媒を除去する除去工程を包含する。
【選択図】図2
Description
を包含する。
展開工程では、溶媒、前記フェリチン、および2mM以上100mM以下の酢安を有する溶液を前記基板上に展開する。
次に、除去工程について説明する。除去工程では、基板上に展開した溶液から溶媒を除去する。代表的には溶液は緩衝液であるため、溶媒は当該緩衝液の大部分を占める水である。そこで、ここでは基板上から水を除去する方法を説明する。
以下、本発明を実施例と共にさらに詳細に説明する。
まず、以下にapoCNHB-Fer0の合成・精製手順を示す。
2.形質転換済の大腸菌コロニーを15ml滅菌済コーニングチューブに入れた1 ml のLB培地(50mg/ml アンピシリンを含む)で振盪培養(装置:TAITEC Bio Shaker BR-40LF、設定温度:37℃、培養時間:5〜7時間、振盪速度120rpm)した。
上記CNHB-Fer0大量発現・精製により得られたタンパク質溶液(CNHB-Fer0を含む溶液)は濃度未知である。
得られたapoCNHB-Fer0が、コア合成に適した純度であるかどうかについて、以下の手順により検定した。
以下のように、二次元配列作製に用いるIn酸化物をapoCNHB-Fer0の内部に合成した。
以下のように、二次元配列作製に用いるFe酸化物をapoCNHB-Fer0の内部に合成した。
二次元配列化には、コアを内部に持つ高純度(単量体純度99.5%以上)なCNHB-Fer0(以後、CNHB-Fer0 (X)と表記、XはInまたはFe)が望まれる。
二次元配列化には、コア形成率90%以上のCNHB-Fer0(X)が必要である。90%以下の場合は、以下の手順でコア形成率を高める工程を実施する。そこで、以下のようにして、密度勾配遠心により二次元配列化に用いるCNHB-Fer0(X)溶液からapo CNHB-Fer0を除去した。
二次元配列化には、表面が親水性を有する基板が必要である。
UV/O3洗浄(紫外線/オゾンによる洗浄)により、表面の有機物を取り除き、基板表面を親水化する手順を以下に示す。
熱酸化シリコン基板上にカーボンを真空蒸着し、大気プラズマ処理により基板表面を親水化する手順を以下に示す。
熱酸化シリコン基板をAPTES蒸気に晒し基板表面をAPTESで修飾する手順を以下に示す。
以上の準備1〜7が終了後、フェリチンを以下の手順(以下、「サンドウィッチ法」と呼ぶことがある)に従って二次元配列させた。
0.5mg/ml CNHB-Fer0(In)、2 mM 酢安、および熱酸化シリコン基板を用い、得られたフェリチンの二次元配列の様子を示す写真を図3に示す。
0.5mg/ml CNHB-Fer0(In)、10 mM酢安、および熱酸化シリコン基板を用い、得られたフェリチンの二次元配列の様子を示す写真を図4に示す。
0.5mg/ml CNHB-Fer0(In)、20 mM酢安、および熱酸化シリコン基板を用い、得られたフェリチンの二次元配列の様子を示す写真を図5に示す。
0.5mg/ml CNHB-Fer0(In)、50 mM酢安、および熱酸化シリコン基板を用い、得られたフェリチンの二次元配列の様子を示す写真を図6に示す。
0.5mg/ml CNHB-Fer0(In)、100 mM酢安、および熱酸化シリコン基板を用い、得られたフェリチンの二次元配列の様子を示す写真を図7に示す。
0.25mg/ml CNHB-Fer0(In)、20 mM酢安、および熱酸化シリコン基板を用い、得られたフェリチンの二次元配列の様子を示す写真を図8に示す。
1.0 mg/ml CNHB-Fer0(In)、20 mM酢安、および熱酸化シリコン基板を用い、得られたフェリチンの二次元配列の様子を示す写真を図9に示す。
0.5mg/ml CNHB-Fer0(Fe)、2 mM酢安、および熱酸化シリコン基板を用い、得られたフェリチンの二次元配列の様子を示す写真を図10に示す。
0.5mg/ml CNHB-Fer0(Fe)、10 mM酢安、および熱酸化シリコン基板を用い、得られたフェリチンの二次元配列の様子を示す写真を図11に示す。
0.5mg/ml CNHB-Fer0(Fe)、20 mM酢安、および熱酸化シリコン基板を用い、得られたフェリチンの二次元配列の様子を示す写真を図12に示す。
0.5mg/ml CNHB-Fer0(Fe)、100 mM酢安、および熱酸化シリコン基板を用い、得られたフェリチンの二次元配列の様子を示す写真を図13に示す。
0.5 mg/ml CNHB-Fer0(In)、10 mM酢安、およびAPTES修飾基板を用い、得られたフェリチンの二次元配列の様子を示す写真を図14に示す。
0.5mg/ml CNHB-Fer0(In)、500 mM 酢安、および熱酸化シリコン基板を用い、得られた基板上のフェリチンの様子を示す写真を図15に示す。
0.5mg/ml CNHB-Fer0(In)、純水、および熱酸化シリコン基板を用い、得られた基板上のフェリチンの様子を示す写真を図16に示す。
0.5mg/ml CNHB-Fer0(In)、1 mM Tris、および熱酸化シリコン基板を用い、得られた基板上のフェリチンの様子を示す写真を図17に示す。
0.5mg/ml CNHB-Fer0(Fe)、1 mM Tris、および熱酸化シリコン基板を用い、得られた基板上のフェリチンの様子を示す写真を図18に示す。
0.5mg/ml Fer0(In)、20mM酢安、および熱酸化シリコン基板を用い、得られたフェリチンの二次元配列の様子を示す写真を図19に示す。
0.5mg/ml Fer0(In)、12.5 mM PIPES、および熱酸化シリコン基板を用い、得られた基板上のフェリチンの様子を示す写真を図20に示す。
0.5mg/ml Fer0(Fe)、12.5 mM PIPES、および熱酸化シリコン基板を用い、得られた基板上のフェリチンの様子を示す写真を図21に示す。
0.5mg/ml Fer0(Fe)、50 mM PIPES、および熱酸化シリコン基板を用い、得られた基板上のフェリチンの様子を示す写真を図22に示す。
0.5mg/ml Fer0(Fe)、12.5 mM PIPES、および親水化カーボン基板を用い、得られた基板上のフェリチンの様子を示す写真を図23に示す。
0.5mg/ml Fer0(Fe)/50 mM PIPES/親水化カーボン基板を用い、得られた基板上のフェリチンの様子を示す写真を図24に示す。
15 フェリチン
配列番号2の<223>:アミノ末端にアミノ末端メチオニンと12残基からなるアミノ酸とが付加された改変ウマ由来フェリチン
配列番号3の<223>: タンパク質発現用プラスミドベクター
Claims (1)
- フェリチンを基板上に二次元配列させる方法であって、
前記フェリチンは外周面に配列番号1で示されるアミノ酸配列を有し、
前記基板の表面は親水性を有しており、
前記方法は、
溶媒、前記フェリチン、および2mM以上100mM以下の酢安を有する溶液を前記基板上に展開する展開工程、および
前記基板上に展開した溶液から溶媒を除去する除去工程
を包含する。
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