JP2008192907A - シリコンエピタキシャル膜を有するsos基板の形成法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】サファイア単結晶基板100を用意し、この基板の第1主面102上に、常圧CVD法により堆積した第1のシリコンエピタキシャル膜を形成する。次に、この膜上に、減圧CVD法により堆積した第2のシリコンエピタキシャル膜を形成する。次いで、第2のシリコンエピタキシャル膜の表面から、Si+イオンのイオン注入を行い、第1及び第2のシリコンエピタキシャル膜をアモルファス状態化させ、その後、水素雰囲気中でアニール処理することにより、固相エピタキシャル再成長させる。次に、熱酸化法で酸化処理することにより、固相エピタキシャル再成長した第2のシリコンエピタキシャル膜106”を、シリコン酸化膜110に変化するまで酸化処理する。そして、このシリコン酸化膜をエッチング除去し、固相エピタキシャル再成長した第1のシリコンエピタキシャル膜104”のみから成るSOS基板120を得る。
【選択図】図2
Description
図1(A)〜図1(D)及び図2(A)〜図2(C)に、この発明の実施形態を説明するための、シリコンエピタキシャル膜を有するSOS基板の作製工程フローの概要を示す。各図は、この発明に基づくSOS基板作製のための主な工程における主要部の断面を示している。
102:第1主面
104:第1のシリコンエピタキシャル膜
104’:アモルファス状態化した第1のシリコンエピタキシャル膜
104”:固相エピタキシャル再成長した第1のシリコンエピタキシャル膜
106:第2のシリコンエピタキシャル膜
106’:アモルファス状態化した第2のシリコンエピタキシャル膜
106”:固相エピタキシャル再成長した第2のシリコンエピタキシャル膜
108:Si+イオンのイオン注入
110:シリコン酸化膜
120:SOS基板
Claims (2)
- サファイヤ単結晶基板上に直接シリコンエピタキシャル膜を形成したSOS基板を作製するにあたり、
サファイア単結晶基板を用意する第1工程と、
前記サファイア単結晶基板の表面である第1主面上に、常圧CVD法により堆積した第1のシリコンエピタキシャル膜を形成する第2工程と、
前記第1のシリコンエピタキシャル膜上に、減圧CVD法により堆積した第2のシリコンエピタキシャル膜を形成する第3工程と、
前記第2のシリコンエピタキシャル膜の表面から、内部の前記第1のシリコンエピタキシャル膜方向に向かってSi+イオンのイオン注入を行い、前記第1及び第2のシリコンエピタキシャル膜をアモルファス状態化させる第4工程と、
前記アモルファス状態化した第1及び第2のシリコンエピタキシャル膜を、水素雰囲気中でアニール処理することにより、固相エピタキシャル再成長させる第5工程と、
前記固相エピタキシャル再成長した第2のシリコンエピタキシャル膜上にシリコン酸化膜を形成することにより、前記固相エピタキシャル再成長した第2のシリコンエピタキシャル膜が前記シリコン酸化膜に変化するまで熱酸化法で酸化処理する第6工程と、
該第6工程により形成した前記シリコン酸化膜をエッチング除去し、前記固相エピタキシャル再成長した第1のシリコンエピタキシャル膜のみから成るSOS基板を得る第7工程と
を含むことを特徴とするシリコンエピタキシャル膜を有するSOS基板の形成法。 - 前記第1工程として、前記サファイア単結晶基板の面方位が(1−102)面、又は、(0001)面のいずれか一方の面方位を有するサファイヤ単結晶基板を用意することを特徴とする請求項1に記載のシリコンエピタキシャル膜を有するSOS基板の形成法。
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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WO2011077608A1 (ja) * | 2009-12-25 | 2011-06-30 | パナソニック株式会社 | 半導体装置、高周波集積回路、高周波無線通信システムおよび半導体装置の製造方法 |
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