JP2008177239A - 基板搬送装置及び縦型熱処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】大口径の基板wの上方又は下方に移動される支持部17と、該支持部17に設けられ基板wの周縁部を掴んで支持する掴み機構28とを有する基板搬送装置において、上記支持部17に、基板の上面中央部又は下面中央部を撓まないように空気層を介して非接触で吸引保持する非接触吸引保持部30を1つ又は複数設け、該非接触吸引保持部30は、上記基板の上面又は下面に対向する平面円形の本体31と、該本体に形成され中央に向って深くなるように傾斜した傾斜面32aを有する凹部32と、該凹部32の中央に設けられ上記傾斜面に沿って流れるように気体を放射状に噴出することにより負圧を発生させるための複数の気体噴出ノズル33と、上記凹部32の周縁部に適宜間隔で形成された気体逃げ溝34とを備えている。
【選択図】図3
Description
w 半導体ウエハ(基板)
3 熱処理炉
6 蓋体
9 ボート(保持具)
13 リング状支持板
14 フープ(収納容器)
17 フォーク(支持部)
18 ウエハ搬送装置(基板搬送装置)
28 上掴み機構
30 非接触吸引保持部
31 本体
32 凹部
32a 傾斜面
33 気体噴出ノズル
34 気体逃げ溝
37 位置合せ部
39 変位センサ
40 姿勢制御機構
44 基準プレート
50 空気層
70 支持部
80 下掴み機構
U 非接触吸引保持ユニット
Claims (8)
- 大口径の基板の上方又は下方に移動される支持部と、該支持部に設けられ基板の周縁部を掴んで支持する掴み機構とを有する基板搬送装置において、上記支持部に、基板の上面中央部又は下面中央部を撓まないように空気層を介して非接触で吸引保持する非接触吸引保持部を1つ又は複数設け、該非接触吸引保持部は、上記基板の上面又は下面に対向する平面円形の本体と、該本体に形成され中央に向って深くなるように傾斜した傾斜面を有する凹部と、該凹部の中央に設けられ上記傾斜面に沿って流れるように気体を放射状に噴出することにより負圧を発生させるための複数の気体噴出ノズルと、上記凹部の周縁部に適宜間隔で形成された気体逃げ溝とを備えたことを特徴とする基板搬送装置。
- 上記支持部は、基板の上面の接線方向に気体を吹付けて基板を回転させる回転用吹出しノズルと、基板に設けられた位置合せマークを検出して基板の位置合せを行う位置合せ部とを有していることを特徴とする請求項1記載の基板搬送装置。
- 上記支持部は、基板の傾きを光学的に検出するための変位センサと、該変位センサからの検出信号に基いて支持部を基板と平行にする姿勢制御機構とを有していることを特徴とする請求項1又は2記載の基板搬送装置。
- 上記支持部の下方に設けられた基準プレートと、該基準プレートに設けられ基板の傾きを光学的に検出する変位センサと、該変位センサからの検出信号に基いて支持部を基板と平行にする姿勢制御機構とを有していることを特徴とする請求項1又は2記載の基板搬送装置。
- 下部に炉口を有する熱処理炉と、その炉口を密閉する蓋体と、該蓋体上に設けられ多数枚の大口径の基板をリング状支持板を介して上下方向に所定間隔で保持する保持具と、前記蓋体を昇降させて保持具を熱処理炉に搬入搬出する昇降機構と、複数枚の基板を所定間隔で収納する収納容器と前記保持具との間で、基板を略水平状態で上掴みに支持して搬送する基板搬送装置とを備え、上記搬送装置は、上記基板の上方又は下方に移動される支持部と、該支持部に設けられ基板の周縁部を掴んで支持する掴み機構とを有する基板搬送装置において、上記支持部に、基板の上面中央部又は下面中央部を撓まないように空気層を介して非接触で吸引保持する非接触吸引保持部を1つ又は複数設け、該非接触吸引保持部は、上記基板の上面又は下面に対向する平面円形の本体と、該本体に形成され中央に向って深くなるように傾斜した傾斜面を有する凹部と、該凹部の中央に設けられ上記傾斜面に沿って流れるように気体を放射状に噴出することにより負圧を発生させるための複数の気体噴出ノズルと、上記凹部の周縁部に適宜間隔で形成された気体逃げ溝とを備えたことを特徴とする縦型熱処理装置。
- 上記支持部は、基板の上面の接線方向に気体を吹付けて基板を回転させる回転用吹出しノズルと、基板に設けられた位置合せマークを検出して基板の位置合せを行う位置合せ部とを有していることを特徴とする請求項5記載の縦型熱処理装置。
- 上記支持部は、基板の傾きを光学的に検出するための変位センサと、該変位センサからの検出信号に基いて支持部を基板と平行にする姿勢制御機構とを有していることを特徴とする請求項5又は6記載の縦型熱処理装置。
- 上記支持部の下方に設けられた基準プレートと、該基準プレートに設けられ、基板の傾きを光学的に検出する変位センサと、該変位センサからの検出信号に基いて支持部を基板と平行にするための姿勢制御機構とを有していることを特徴とする請求項5又は6記載の縦型熱処理装置。
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