JP2008176276A - ドライフィルムおよびマイクロレンズとその製法 - Google Patents

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Abstract

【課題】乾燥後の感放射線性樹脂組成物のタック性が乏しくても、カバーフィルムの粘着力により、感放射線性樹脂組成物とカバーフィルムの密着性が良好であり、また容易にカバーフィルムを剥離できるドライフィルムレジストを提供すること。
【解決手段】ベースフィルム上に厚さ2〜200μmの感放射線性樹脂組成物層を有する積層フィルムと、フィルム上に自己粘着性樹脂層を有するカバーフィルムとが、感放射線性樹脂組成物層と自己粘着性樹脂層とが直接接触するように積層されているドライフィルム。
【選択図】なし

Description

本発明はドライフィルムおよびマイクロレンズとその製法ならびにマイクロレンズを具備する液晶表示素子に関する。
表示素子の中でも、特に液晶表示素子は、低消費電力、高い信頼性、幅広いサイズに対応できる柔軟性、その高精彩な表示特性、薄型軽量などの優れた特徴から、フラットパネルディスプレイの中で最も広く使用されているが、パソコン、ワープロなどのOA機器、液晶テレビ、携帯電話、プロジェクターなどの普及に伴い、近年その性能に対する要求がますます厳しくなっている。これらの要求に応えるものとして、特許文献1〜5に、マイクロレンズアレイを設け、開口部に外光またはバックライトの光を集光させることにより、液晶表示素子の輝度やコントラストを向上させる方法が提案されている。これらの方法では多くの場合、マイクロレンズが存在する集光層から液晶画素開口部への焦点距離が非常に短いため、マイクロレンズを形成する材料と平坦化膜との屈折率差を大きくとり、かつレンズの曲率半径を精密に制御する必要がある。
このような液晶表示素子用のマイクロレンズを形成する方法としては、ガラス基板をドライエッチングして凹みを形成させ、これに高屈折率の紫外線硬化型樹脂で埋める方法、レンズパターンを形成したのち加熱処理することによって、パターンをメルトフローさせ、そのままレンズとして利用する方法、感放射線性樹脂組成物からパターンを形成してメルトフローさせることにより、所定形状のマスクを作製し、このマスクを介しドライエッチングして、下地に所定のレンズ形状を転写させる方法等が挙げられる。しかし、このような方法では何れの場合も、マイクロレンズの形成プロセスが煩雑で高コストであり、工業的に十分とはいえなかった。
そこで、マイクロレンズに要求される諸特性、例えば、膜厚、解像度、パターン形状、透明性、耐熱性、耐溶剤性等を満足でき、また保存安定性が良好であり、かつ簡便な方法でマイクロレンズを形成しうる感放射線性樹脂組成物の開発が強く求められている。
また、感放射線性樹脂組成物を用いた液晶表示素子用のマイクロレンズを形成する方法には、その多くが樹脂組成物に有機溶剤を含んでおり、その組成物をスピンコート法やディッピング法、スプレー法などの手法によって、基材に組成物層を積層させるものである。それらの手法では、所定の膜厚を得るための条件出しに要する時間が必要であったり、溶剤の揮発など環境面でも問題が見られたりしていた。よって、従来のマイクロレンズの製造方法と比較して、フィルムを基材に積層し所定量の放射線を照射した後に現像するだけで、短時間、かつ低コストである感放射線性樹脂組成物ドライフィルムを用いたマイクロレンズの製造方法の開発の要請もある。
感放射線性樹脂組成物のドライフィルムを作製する場合、乾燥後の感放射線性樹脂組成物のタック性が重要となってくる。もし、タック性が乏しい場合、カバーフィルムとの張り合わせが上手くいかず、カバーフィルムが剥がれてしまう可能性がある。
以上に記したように、簡便なドライフィルム法を用いて高精彩なマイクロレンズを高い歩留まりで大量に作製する手法の開発が強く求められているが、ドライフィルム法を用いたときに乾燥後の感放射線性樹脂組成物のタック性が問題となっている。
特開2003−255318号公報 特開2001−154181号公報 特開2001−117114号公報 特開平11−109417号公報 特開平10−268305号公報
本発明は、従来技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的とするところは、乾燥後の感放射線性樹脂組成物のタック性が乏しくても、カバーフィルムの粘着力により、感放射線性樹脂組成物とカバーフィルムの密着性が良好であり、また容易にカバーフィルムを剥離できるドライフィルムを提供することにある。
本発明の他の目的および利点は以下の説明から明らかになろう。
上記課題を解決するために、本発明は、ベースフィルム上に厚さ2〜200μmの感放射線性樹脂組成物層を有する積層フィルムと、フィルム上に自己粘着性樹脂層を有するカバーフィルムとが、感放射線性樹脂組成物層と自己粘着性樹脂層とが直接接触するように積層されていることを特徴とするドライフィルムを提供する。
以下に本発明について詳述する。
感放射線性ドライフィルム1は、図1に示すように、ベースフィルム2の上に感放射線性樹脂組成物層3が積層され、更にその上に自己粘着樹脂層を有するカバーフィルムを積層した構造をなし、一体化されて形成されている。
使用の際は、自己粘着樹脂層を有するカバーフィルムを剥離し、感放射線性樹脂組成物層3側の表面を基板表面(図示せず)にあて、感放射線性ドライフィルム1を基板上に熱圧着する。次いでベースフィルム2が積層された状態で感放射線性樹脂組成物層3を選択的に露光させる。露光後、ベースフィルム2を剥がし、現像を行って感放射線性樹脂組成物層3の未露光部を選択的に除去し、感放射線性樹脂層のパターンを形成する。
ポストベークにより感放射線性樹脂組成物層のパターンをメルトフローさせて、液晶表示素子用のレンズ形状を得る。
本発明に用いられるカバーフィルムとしては、自己粘着性樹脂層をPMMA(ポリメタメタクリレート)板と23℃で張り合わせた時の粘着力が0.01N/50mm幅以上0.30N/50mm幅以下のものを用いることで、感放射線性樹脂層との密着性がよく、また容易に剥離できる感放射線性ドライフィルムを得ることが出来る。粘着力が0.01N/50mm幅未満だと、感放射性樹脂組成物層との密着性が不足する傾向があり、また、0.30N/50mm幅超だとカバーフィルムを剥離した際、感放射性樹脂組成物層にハガレが生じ易くなる。
カバーフィルムの材料として、ポリエチレン(PE)を用いることにより、ドライフィルムに柔軟性を持たせることが出来る。
カバーフィルムの厚さは、特に限定されるものではないが、5〜200μm程度とするのが好ましい。
自己粘着性を有するカバーフィルムとしては、例えばPEフィルム「トレテック7721」(東レフィルム加工(株)製、60μm厚)などが市販品として入手でき、好適に用いられる。
ベースフィルムの厚さは、特に限定されるものではないが、5〜125μm程度とするのが好ましい。
ベースフィルムの厚さ、種類は特に限定されるものではない。ベースフィルムとしては、例えばPETフィルム「R340G16」(三菱化学ポリエステルフィルム(株)製、16μm厚、表面平坦性 SRz 97nm、SRmax 305m)、「E2」(帝人デュポンフィルム(株)製SRz 151nm、SRmax 480nm)、「X83」(帝人デュポンフィルム(株)製SRz 196nm、SRmax 630nm)、ダイアホイル「R310」(三菱化学ポリエステルフィルム(株)製、16μm厚、表面平坦性SRz 165nm、SRmax 530nm)、コスモシャイン「A4100」(東洋紡(株)製、50μm厚、表面平坦性SRz 218nm、SRmax 1111nm)、ダイアホイル「T100B25」(三菱化学ポリエステルフィルム(株)製、25μm厚、表面平坦性SRz 2157nm、SRmax 3816nm)および「T100G38」(三菱化学ポリエステルフィルム(株)製、38μm厚)などが市販品として好適に用いられる。
感放射線性樹脂組成物は、好ましくは、(A)アルカリ可溶性共重合体、(B)重合性不飽和化合物および光重合開始剤を含有する。
−(A)アルカリ可溶性共重合体−
本発明における(A)成分は、マイクロレンズを製造する際に、その現像処理工程において用いられる現像液、特に好ましくはアルカリ現像液に対して可溶性を有し、可視光波長の光が良好に透過するものであれば、特に限定されるものではないが、(a)1個以上の酸性官能基を有する重合性不飽和化合物(以下、「(a)重合性不飽和化合物」という。)5〜60重量%、および(b)他の重合性不飽和化合物40〜95重量%(ただし、(a)+(b)=100重量%)からなるアルカリ可溶性共重合体(以下、「(A)共重合体」という。)が好ましく、さらには、(b)他の重合性不飽和化合物としてN位−置換マレイミドを含有するアルカリ可溶性共重合体を含有することが好ましい。
(a)重合性不飽和化合物において、酸性官能基としては、例えば、カルボキシル基、スルホン酸基などを挙げることができ、特に好ましくはカルボキシル基である。
カルボキシル基を有する(a)重合性不飽和化合物(以下、「(a1)重合性不飽和化合物」という。)としては、例えば、(メタ)アクリル酸、クロトン酸や、アクリル酸またはクロトン酸のα−位がハロアルキル基、アルコキシル基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基などの置換基で置換された化合物などの不飽和モノカルボン酸類;マレイン酸、無水マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸などの不飽和ジカルボン酸またはその酸無水物類;上記不飽和ジカルボン酸中の一方のカルボキシル基の水素原子がメチル基、エチル基、n−プロピル基、i−プロピル基、n−ブチル基、sec−ブチル基、t−ブチル基、フェニル基、o−トリル基、m−トリル基、p−トリル基などの置換基で置換されたハーフエステル類;上記不飽和ジカルボン酸中の一方のカルボキシル基がアミド基に変換されたハーフアミド類;2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとコハク酸とのモノエステル化物、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとマレイン酸とのモノエステル化物、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートとヘキサヒドロフタル酸とのモノエステル化物(以下、「2−モノ(ヘキサヒドロフタロイルオキシ)エチル(メタ)アクリレート」と表記する。)などのカルボキシル基含有(メタ)アクリル酸エステル類などを挙げることができる。
これらの(a1)重合性不飽和化合物のうち、(メタ)アクリル酸、2−モノ(ヘキサヒドロフタロイルオキシ)エチル(メタ)アクリレート、ω−カルボキシポリカクロラクトンモノ(メタ)アクリレートなどが好ましい。
本発明において、(a)重合性不飽和化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。特に、(メタ)アクリル酸と2−モノ(ヘキサヒドロフタロイルオキシ)エチル(メタ)アクリレートとを併用することが好ましい。
(A)共重合体中に占める(a)重合性不飽和化合物の含有率は、好ましくは5〜60重量%であり、さらに好ましくは10〜50重量%であり、特に好ましくは15〜40重量%である。(a)重合性不飽和化合物の含有率が5重量%未満であると、得られる共重合体がアルカリ現像液に溶解し難くなって現像後に膜残りを生じ、十分な解像度を得ることが困難となるおそれがあり、一方60重量%を超えると、得られる共重合体のアルカリ現像液に対する溶解性が大きくなりすぎて、放射線照射部の膜減りが大きくなる傾向がある。
(b)他の重合性不飽和化合物は、主として(A)共重合体の機械的特性をコントロールする目的で使用されるものである。
(b)他の重合性不飽和化合物としては、N位−置換マレイミド(以下、「(b−1)重合性不飽和化合物」という。)を、(A)共重合体中、5〜40重量%含有することが好ましく、10〜35重量%含有することがより好ましい。
(b−1)重合性不飽和化合物としては、例えば、N−フェニルマレイミド、N−o−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−m−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−p−ヒドロキシフェニルマレイミド、N−ベンジルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド、N−スクシンイミジル−3−マレイミドベンゾエート、N−スクシンイミジル−4−マレイミドブチレート、N−スクシンイミジル−6−マレイミドカプロエート、N−スクシンイミジル−3−マレイミドプロピオネート、N−(アクリジニル)マレイミド等を挙げることができる。
これらの(b−1)重合性不飽和化合物のうち、N−フェニルマレイミド、N−シクロヘキシルマレイミド等が好ましい。(A)共重合体において、(b−1)重合性不飽和化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
N位−置換マレイミド以外の(b)他の重合性不飽和化合物(以下、「(b−2)重合性不飽和化合物」という。)としては、例えば、(メタ)アクリル酸エステル類、不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類、不飽和カルボン酸グリシジルエステル類、上記(a)重合性不飽和化合物について例示した不飽和ジカルボン酸のジエステル類、芳香族ビニル化合物、共役ジオレフィン類、ニトリル基含有不飽和化合物、塩素含有不飽和化合物、アミド結合含有不飽和化合物、不飽和イミド類、不飽和エーテル類、脂肪酸ビニルエステル類、脂環式炭化水素含有不飽和化合物、重合体分子鎖の末端にモノ(メタ)アクリロイル基を有するマクロモノマー類などを挙げることができる。
上記(メタ)アクリル酸エステル類としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、n−プロピル(メタ)アクリレート、i−プロピル(メタ)アクリレート、n−ブチル(メタ)アクリレート、sec−ブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、i−ブチル(メタ)アクリレート、n−ペンチル(メタ)アクリレート、ネオペンチル(メタ)アクリレート、4−i−ペンチルヘキシル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、3−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、4−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−メトキシエチル(メタ)アクリレート、2−フェノキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシジエチレングルコール(メタ)アクリレート、メトキシトリエチレングルコール(メタ)アクリレート、メトキシプロピレングルコール(メタ)アクリレート、メトキシジプロピレングルコール(メタ)アクリレート、ジシクロペンタジエニル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、アリル(メタ)アクリレート、プロパルギル(メタ)アクリレート、フェニル(メタ)アクリレート、ナフチル(メタ)アクリレート、アントラセニル(メタ)アクリレート、アントラキノニル(メタ)アクリレート、ピペロニル(メタ)アクリレート、サリチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、フェネチル(メタ)アクリレート、クレシル(メタ)アクリレート、グリシジル(メタ)アクリレート、トリフェニルメチル(メタ)アクリレート、クミル(メタ)アクリレート、2,2,2−トリフルオロエチル(メタ)アクリレート、ペンタフルオロエチル(メタ)アクリレート、ヘプタフルオロ−n−プロピル(メタ)アクリレート、ヘプタフルオロ−i−プロピル(メタ)アクリレート、2−(N,N−ジメチルアミノ)エチル(メタ)アクリレート、3−(N,N−ジメチルアミノ)プロピル(メタ)アクリレート、フリル(メタ)アクリレート、フルフリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、α−(メタ)アクリロイロキシ−γ−ブチロラクトン、β−(メタ)アクリロイロキシ−γ−ブチロラクトンなどを挙げることができる。
上記不飽和カルボン酸アミノアルキルエステル類としては、例えば、2−アミノエチル(メタ)アクリレート、2−ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、2−アミノプロピル(メタ)アクリレート、2−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレート、3−アミノプロピル(メタ)アクリレート、3−ジメチルアミノプロピル(メタ)アクリレートなどを挙げることができる。
上記不飽和カルボン酸グリシジルエステル類としては、例えば、グリシジル(メタ)アクリレートを挙げることができる。
上記不飽和ジカルボン酸のジエステル類としては、例えば、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチルなどを挙げることができる。
上記芳香族ビニル化合物としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン、o−メチルスチレン、m−メチルスチレン、p−メチルスチレン、p−メトキシスチレン、安息香酸ビニルなどを挙げることができる。
上記共役ジオレフィン類としては、例えば、1,3−ブタジエン、イソプレン、2,3−ジメチル−1,3−ブタジエンなどを挙げることができる。
上記ニトリル基含有不飽和化合物としては、例えば、(メタ)アクリロニトリル、シアン化ビニリデン、α−クロロアクリロニトリルなどを挙げることができる。
上記塩素含有不飽和化合物としては、例えば、塩化ビニル、塩化ビニリデンなどを挙げることができる。
上記アミド結合含有不飽和化合物としては、例えば、(メタ)アクリルアミド、マレイン酸ジアミド、フマル酸ジアミド、α−クロロアクリルアミド、N−2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミドなどを挙げることができる。
上記不飽和イミド類としては、例えば、マレイミドを挙げることができる。
上記不飽和エーテル類としては、例えば、ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテルなどを挙げることができる。
上記脂肪酸ビニルエステル類としては、例えば、酢酸ビニル、酪酸ビニル、プロピロン酸ビニルなどを挙げることができる。
上記脂環式炭化水素基含有不飽和化合物としては、例えば、シクロペンチル(メタ)アクリレート、1−メチルシクロペンチル(メタ)アクリレート、2−メチルシクロペンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、1−メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−メチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、2−ジシクロペンタニルオキシエチル(メタ)アクリレートなどを挙げることができる。
上記マクロモノマー類としては、例えば、ポリスチレン、ポリメチル(メタ)アクリレート、ポリ−n−ブチル(メタ)アクリレート、ポリシロキサンなどの重合体分子鎖の末端にモノ(メタ)アクリロイル基を有する化合物などを挙げることができる。
これらの(b−2)重合性不飽和化合物のうち、メチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、グリセロールモノ(メタ)アクリレート、スチレン、α−メチルスチレン、ベンジル(メタ)アクリレート、イソボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、1,3−ブタジエン、イソプレン等が好ましい。
本発明において、(b−2)重合性不飽和化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができるが、(A)共重合体の具体例としては、
(メタ)アクリル酸/メチル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート/ベンジル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/スチレン/イソプレン/トリシクロデカニル(メタ)アクリレート/2−モノ(ヘキサヒドロキシフタロイルオキシ)エチル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/スチレン/1,3‐ブタジエン/トリシクロデカニル(メタ)アクリレート/2−モノ(ヘキサヒドロキシフタロイルオキシ)エチル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル酸/ベンジル(メタ)アクリレート/2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート共重合体、(メタ)アクリル酸/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレート/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体、(メタ)アクリル酸/ω−カルボキシポリカクロラクトンモノ(メタ)アクリレート/スチレン/ベンジル(メタ)アクリレート/グリセロールモノ(メタ)アクリレート/N−フェニルマレイミド共重合体
等を挙げることができる。
(A)共重合体中に占める(b)他の重合性不飽和化合物の含有率は、好ましくは40〜95重量%であり、さらに好ましくは50〜90重量%であり、特に好ましくは60〜75重量%である。
(A)共重合体のポリスチレン換算重量平均分子量(以下、「Mw」という。)は、好ましくは2,000〜100,000、さらに好ましくは5,000〜50,000である。(A)共重合体のMwが2,000未満であると、アルカリ現像性、残膜率、パターン形状、耐熱性などが低下する傾向があり、一方100,000を超えると、感度やパターン形状が低下する傾向がある。
また、(A)共重合体のMwとポリスチレン換算数平均分子量(以下、「Mn」という。)との比(Mw/Mn)は、好ましくは1.0〜5.0、より好ましくは1.0〜3.0である。
(A)共重合体は、(a)重合性不飽和化合物と(b)他の重合性不飽和化合物を、適当な溶剤中で重合することによって製造することができる。
上記重合に用いられる溶剤としては、例えば、
メタノール、エタノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類;テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、ジオキサンなどのエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエチレングリコールアルキルエーテル類;エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテルなどのジエチレングリコールアルキルエーテル類;
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテルなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテル類;プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテルアセテートなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類;プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールエチルモノエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノ−n−プロピルエーテルプロピオネート、プロピレングリコールモノ−n−ブチルエーテルプロピオネートなどのプロピレングリコールモノアルキルエーテルプロピオネート類;トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素類;メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、4−ヒドロキシ−4−メチル−2−ペンタノンなどのケトン類;
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸n−プロピル、酢酸n−ブチル、ヒドロキシ酢酸メチル、ヒドロキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸n−プロピル、ヒドロキシ酢酸n−ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸n−プロピル、乳酸n−ブチル、3−ヒドロキシプロピオン酸メチル、3−ヒドロキシプロピオン酸エチル、3−ヒドロキシプロピオン酸n−プロピル、3−ヒドロキシプロピオン酸n−ブチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−ヒドロキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−ヒドロキシ−3−メチルブタン酸メチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸n−プロピル、メトキシ酢酸n−ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸n−プロピル、エトキシ酢酸n−ブチル、n−プロポキシ酢酸メチル、n−プロポキシ酢酸エチル、n−プロポキシ酢酸n−プロピル、n−プロポキシ酢酸n−ブチル、n−ブトキシ酢酸メチル、n−ブトキシ酢酸エチル、n−ブトキシ酢酸n−プロピル、n−ブトキシ酢酸n−ブチル、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸n−プロピル、2−メトキシプロピオン酸n−ブチル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−エトキシプロピオン酸n−プロピル、2−エトキシプロピオン酸n−ブチル、2−n−プロポキシプロピオン酸メチル、2−n−プロポキシプロピオン酸エチル、2−n−プロポキシプロピオン酸n−プロピル、2−n−プロポキシプロピオン酸n−ブチル、2−n−ブトキシプロピオン酸メチル、2−n−ブトキシプロピオン酸エチル、2−n−ブトキシプロピオン酸n−プロピル、2−n−ブトキシプロピオン酸n−ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸n−プロピル、3−メトキシプロピオン酸n−ブチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸n−プロピル、3−エトキシプロピオン酸n−ブチル、3−n−プロポキシプロピオン酸メチル、3−n−プロポキシプロピオン酸エチル、3−n−プロポキシプロピオン酸n−プロピル、3−n−プロポキシプロピオン酸n−ブチル、3−n−ブトキシプロピオン酸メチル、3−n−ブトキシプロピオン酸エチル、3−n−ブトキシプロピオン酸n−プロピル、3−n−ブトキシプロピオン酸n−ブチルなどの他のエステル類
などを挙げることができる。
これらの溶剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
上記ラジカル重合開始剤としては、例えば、2,2’−アゾビスイソブチロニトリル、2,2’−アゾビス(2,4−ジメチルバレロニトリル)、2,2’−アゾビス(4−メトキシ−2,4−ジメチルバレロニトリル)などのアゾ化合物;ベンゾイルペルオキシド、ラウロイルペルオキシド、t−ブチルペルオキシピバレート、1,1’−ビス(t−ブチルペルオキシ)シクロヘキサンなどの有機過酸化物や、過酸化水素などを挙げることができる。ラジカル重合開始剤として過酸化物を用いる場合には、還元剤を併用してレドックス型開始剤としてもよい。
本発明において、(A)共重合体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
−(B)重合性不飽和化合物−
本発明における(B)重合性不飽和化合物は、(C)光重合開始剤の存在下における放射線の照射により重合する化合物である。
(B)重合性不飽和化合物としては、例えば、1個のエチレン性不飽和結合を有する化合物、2個のエチレン性不飽和結合を有する化合物、3個以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物などを挙げることができる。
上記1個のエチレン性不飽和結合を有する化合物としては、例えば、1価アルコールのモノ(メタ)アクリレート類、好ましくは、下記式(1)で表わされる化合物を挙げることができる。
Figure 2008176276
〔式(1)中、lは0〜8の整数であり、Rは水素原子または炭素数1〜9の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示す。〕
式(1)で表わされる化合物の具体例としては、商品名で、アロニックスM−101(l=約2、R=H)、同M−102(l=約4、R=H)、同M−111〔l=約1、R=n−C19(n−ノニル基、以下同様。)〕、
同M−113(l=約4、R=n−C19)、
同M−114(l=約8、R=n−C19)、
同M−117(l=2.5、R=n−C19)〔以上、東亜合成化学工業(株)製〕、KAYARAD R−564(l=約2.3、R=H)〔日本化薬(株)製〕などを挙げることができる。
また、式(1)で表わされる化合物以外の1個のエチレン性不飽和結合を有する化合物としては、商品名で、KAYARAD TC−110S、同 TC−120S〔以上、日本化薬(株)製〕、V−158、V−2311〔以上、大阪有機化学工業(株)製〕などを挙げることができる。
また、上記以外の1個のエチレン性不飽和結合を有する化合物として、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチルなどの不飽和カルボン酸ジエステルなど、(A)共重合体における(a)重合性不飽和化合物、および(b)他の重合性不飽和化合物について例示した化合物と同様のものを使用することができる。
次に、上記2個のエチレン性不飽和結合を有する化合物としては、例えば、2価アルコールのジ(メタ)アクリレート類、好ましくは、下記式(2)で表わされる化合物、下記式(3)で表わされる化合物、下記式(4)で表わされる化合物などを挙げることができる。
Figure 2008176276
〔式(2)中、nおよびmはそれぞれ0〜8の整数であり、各Rは相互に独立に水素原子またはメチル基を示す。〕
式(2)で表わされる化合物の具体例としては、商品名で、アロニックスM−210(n=約2、m=約2、R=CH)〔東亜合成化学工業(株)製〕、KAYARAD R−551(n+m=約4、R=CH)、同 R−712(n+m=約4、R=H)〔以上、日本化薬(株)製〕などを挙げることができる。
Figure 2008176276
〔式(3)中、Rは炭素数2〜8の直鎖状もしくは分岐状のアルキレン基を示し、pは1〜10の整数である。〕
式(3)で表わされる化合物の具体例として、商品名で、アロニックスM−220〔R=−(CH)−、p=約3〕、同M−225〔R=−(CH)−、p=約7〕、同M−270〔R=−(CH)−、p=約12〕、同M−240〔R=−CHCH−、p=約4〕、同M−245〔R=−CHCH−、p=約9〕〔以上、東亜合成化学工業(株)製〕、
KAYARAD HDDA〔R=−(CH)−、p=1〕、
同 NPGDA〔R=−CHC(CHCH−、p=1〕、
同 TPGDA〔R=−CHCH(CH)−、p=1〕、
同 PEG400DA〔R=−CHCH−、p=約8〕、
同 MANDA〔R=−CHC(CHCH−、p=1〕、
同 R−167〔R=−CHCH(OH)CHO(CH)O CHCH(OH)CH-、p=1〕〔以上、日本化薬(株)製〕、ライトアクリレート1.9−NDA〔R=−(CH)−、p=1〕などを挙げることができる。
Figure 2008176276
〔式(4)中、各Rは相互に独立に水素原子またはメチル基を示し、Mは2価アルコールの残基を示し、Nは2塩基酸の残基を示し、qは0または1である。〕
式(4)で表わされる化合物の具体例としては、商品名で、アロニックスM−6100、同M−6200、同M−6250、同M−6300、同M−6400、同M−6500〔以上、東亜合成化学工業(株)製〕、ライトエステルEG(q=0、M=−CHCH−、R=CH)、同2EG(q=1、M=−(CHCH)−、N=−O−、R=CH)、同1.4BG(q=0、M=−(CH−、R=CH)、同1.6HX(q=0、M=−(CH−、R=CH)、同1.9ND(q=0、M=−(CH−、R=CH)、同G−101P(q=0、M=−CHCH(OH)CH−、R=CH)、ライトアクリレート3EG−A(q=2、M=−(CHCH)−、N=−O−、R=H)、同4EG−A(q=約3、M=−(CHCH)−、N=−O−、R=H)、同9EG−A(q=約8、M=−(CHCH)−、N=−O−、R=H)、同14EG−A(q=約13、M=−(CHCH)−、N=−O−、R=H)、同1.6HX−A(q=0、M=−(CH−、R=H)、同1.9ND−A(q=0、M=−(CH−、R=H)〔以上、共栄社化学(株)製〕などを挙げることができる。
さらに、上記以外の2個のエチレン性不飽和結合を有する化合物として、下記式(5−1)で表される化合物〔商品名KAYARAD HX−220、日本化薬(株)製〕、式(5−2)で表される化合物〔商品名KAYARAD HX−620、日本化薬(株)製〕や、商品名で、R−604〔日本化薬(株)製〕、V−260、V−312、V−335HP〔以上、大阪有機化学工業(株)製〕などを挙げることができる。
Figure 2008176276
〔式(5−1)中、rおよびsはそれぞれ0〜2の整数で、r+s=2である。〕
〔式(5−2)中、tおよびuはそれぞれ0〜4の整数で、t+u=4である。〕
次に、上記3個以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物としては、例えば、3価以上のアルコールのポリ(メタ)アクリレート類、好ましくは、下記式(6)で表わされる化合物、下記式(7)で表わされる化合物、下記式(8)で表わされる化合物、下記式(9)で表わされる化合物などを挙げることができる。
Figure 2008176276
〔式(6)中、vは0〜8の整数であり、Rは水素原子、水酸基またはメチル基を示す。〕
Figure 2008176276
〔式(7)中、Rは酸素原子またはメチレン基を示す。〕
Figure 2008176276
〔式(8)中、各Rは相互に独立に水素原子またはメチル基を示し、Xは3価アルコールの残基を示し、Yは2塩基酸の残基を示し、wは0〜15の整数である。〕
Figure 2008176276
〔式(9)中、AはCH=CHCO−を示し、xは1または2であり、aは2〜6の整数、bは0〜4の整数で、a+b=6である。〕
式(6)で表わされる化合物の具体例としては、商品名で、アロニックスM−305(v=0、R=OH)、同M−309(v=0、R=CH)、同M−310(v=約1、R=CH)、同M−320(v=約2、R=CH)、同M−450(v=0、R=CHCHCOO)、同M−402(v=0、R=(CHCHCOOCH(RCHO)CCH−O−、Ra=“H”または“COCH=CH”)〔以上、東亜合成化学工業(株)製〕、KAYARAD TMPTA(v=0、R=CH)〔日本化薬(株)製〕、V−295(v=0、R=CH)、V−300(v=0、R=OH)〔以上、大阪有機化学工業(株)製〕などを挙げることができる。
また、式(7)で表わされる化合物の具体例としては、商品名で、アロニックスM−400〔東亜合成化学工業(株)製〕などを挙げることができる。
また、式(8)で表わされる化合物の具体例としては、商品名で、アロニックスM−7100、同M−8030、同M−8060、同M−8100、同M−9050〔以上、東亜合成化学工業(株)製〕、KAYARAD T−1420(T)(X=C(CHCH)−、Y=−(CHOCH)−)、日本化薬(株)製〕などを挙げることができる。
また、式(9)で表わされる化合物の具体例としては、商品名で、KAYARAD DPCA−20(x=約1、a=約2、b=約4)、同 DPCA−30(x=約1、a=約3、b=約3)、同 DPCA−60(x=約1、a=約6、b=約0)、同 DPCA−120(x=約2、a=約6、b=約0)〔以上、日本化薬(株)製〕、V−360、V−GPT、V−3PA、V−400〔以上、大阪有機化学工業(株)製〕などを挙げることができる。
これらの(B)重合性不飽和化合物のうち、2個のエチレン性不飽和結合を有する化合物および3個以上のエチレン性不飽和結合を有する化合物が好ましく、さらに好ましくは、式(4)で示される化合物、式(8)で示される化合物などである。
本発明において、(B)重合性不飽和化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
本発明における(B)重合性不飽和化合物の使用量は、(A)共重合体100重量部に対して、好ましくは30〜150重量部、さらに好ましくは50〜100重量部である。(B)重合性不飽和化合物の使用量が30重量部未満であると、放射線の照射時の感度が低下しやすく、一方150重量部を超えると、(A)共重合体との相溶性が悪くなり、塗膜表面に膜荒れを生じるおそれがある。
−(C)光重合開始剤−
本発明における(C)成分は、放射線の照射により、(B)重合性不飽和化合物の重合を開始しうる活性種例えば、ラジカルなどを生じる光重合開始剤からなる。
このような(C)光重合開始剤としては、例えば、ベンジル、ジアセチルなどのα−ジケトン類;ベンゾインなどのアシロイン類;ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのアシロインエーテル類;チオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、チオキサントン−4−スルホン酸などのチオキサントン類;ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン類;アセトフェノン、p−ジメチルアミノアセトフェノン、α,α’−ジメトキシアセトキシベンゾフェノン、2,2’−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、p−メトキシアセトフェノンなどのアセトフェノン類;アントラキノン、1,4−ナフトキノンなどのキノン類;フェナシルクロライド、トリブロモメチルフェニルスルホン、トリス(トリクロロメチル)−s−トリアジンなどのハロゲン化合物;ジ−t−ブチルペルオキシドなどの過酸化物;2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドなどのアシルフォスフィンオキサイド類;1−(9−エチル−6−ベンゾイル−9.H.−カルバゾール−3−イル)−ノナン−1,2−ノナン−2−オキシム−O−ベンゾアート、1−(9−エチル−6−ベンゾイル−9.H.−カルバゾール−3−イル)−ノナン−1,2−ノナン−2−オキシム−O−アセタート、1−(9−エチル−6−ベンゾイル−9.H.−カルバゾール−3−イル)−ペンタン−1,2−ペンタン−2−オキシム−O−アセタート、1−(9−エチル−6−ベンゾイル−9.H.−カルバゾール−3−イル)−オクタン−1−オンオキシム−O−アセタート、1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−ベンゾアート、1−〔9−エチル−6−(2−メチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−アセタート、1−〔9−エチル−6−(1,3,5−トリメチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−ベンゾアート、1−〔9−ブチル−6−(2−エチルベンゾイル)−9.H.−カルバゾール−3−イル〕−エタン−1−オンオキシム−O−ベンゾアート、1,2−オクタジオン−1−〔4−(フェニルチオ)フェニル〕−2−(O−ベンゾイルオキシム)、1,2−ブタンジオン−1−〔4−(フェニルチオ)フェニル〕−2−(O−ベンゾイルオキシム)、1,2−ブタンジオン−1−〔4−(フェニルチオ)フェニル〕−2−(O−アセチルオキシム)、1,2−オクタジオン−1−〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−(O−ベンゾイルオキシム)、1,2−オクタジオン−1−〔4−(フェニルチオ)フェニル〕−2−〔O−(4―メチルベンゾイルオキシム)〕などのO−アシルオキシム類などを挙げることができる。
また、(C)光重合開始剤の市販品としては、商品名で、イルガキュア184、同500、同651、同907、同369、同379、同CG24−61(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製)、ルシリンLR8728、ルシリンTPO(以上、BASF社製)、ダロキュア1116、同1173(以上、メルク社製)、ユベクリルp36(UCB社製)などを挙げることができる。
これらの(C)光重合開始剤のうち、好ましくは、2−メチル〔4−(メチルチオ)フェニル〕−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)ブタン−1−オンなどのアセトフェノン類や、フェナシルクロライド、トリブロモメチルフェニルスルホン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイドなどである。
(C)光重合開始剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができ、また1種以上の放射線増感剤と併用することもできる。
(C)光重合開始剤の使用量は、(B)重合性不飽和化合物100重量部に対して、好ましくは0.01〜100重量部、より好ましくは0.01〜50重量部、さらに好ましくは0.5〜40重量部である。(C)光重合開始剤の使用量が0.01重量部未満であると、感度が低下する傾向があり、一方100重量部を超えると、(A)共重合体や(B)重合性不飽和化合物との相溶性が悪くなったり、得られる樹脂組成物の保存安定性が低下する傾向がある。
−(D)シランカップリング剤−
感放射線性樹脂組成物には、(D)シランカップリング剤を添加することができる。
(D)成分は、基板との接着性を向上させるための接着助剤として働くものである。
このような(D)成分としては、例えば、カルボキシル基、メタクリロイル基、ビニル基、イソシアネート基、エポキシ基などの反応性置換基を有するシランカップリング剤が好ましく、より具体的には、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアナートプロピルトリエトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、β−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシランなどを挙げることができる。
これらのシランカップリング剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
シランカップリング剤の添加量は、(A)共重合体100重量部に対して、好ましくは0.1〜30重量部、さらに好ましくは1〜20重量部である。
−添加剤−
感放射線性樹脂組成物には、加熱により重合するが、放射線の照射によっては重合しない(E)熱重合性化合物を添加することができる。
このような(E)熱重合性化合物としては、好ましくは80〜250℃、さらに好ましくは80〜160℃、特に好ましくは100〜150℃で熱重合するものが望ましい。
レンズ形成用感放射線性樹脂組成物において、特に加熱処理の温度を160℃以下としてレンズを形成する場合には、(E)熱重合性化合物を添加することが好ましい。
(E)熱重合性化合物は、一般的には単量体であるが、その分子量は特に制限されず、オリゴマー程度の分子量を有していてもよい。
(E)熱重合性化合物としては、分子内に熱重合性の官能基、例えば、エポキシ基、エピスルフィド基、オキセタニル基などを、1個以上あるいは1種以上有する化合物を挙げることができる。ただし、後述する接着助剤のうち、エポキシ基を有する官能性シランカップリング剤も、エポキシ基を有する熱重合性化合物に含まれる。
(E)熱重合性化合物のうち、エポキシ基を1個有する化合物としては、例えば、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、n−プロピルグリシジルエーテル、i−プロピルグリシジルエーテル、n−ブチルグリシジルエーテル、sec−ブチルグリシジルエーテル、t−ブチルグリシジルエーテルなどのアルキルグリシジルエーテル類;エチレングリコールモノグリシジルエーテル、プロピレングリコールモノグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールモノグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールモノグリシジルエーテルなどのアルキレングリコールモノグリシジルエーテル類;ポリエチレングリコールモノグリシジルエーテル、ポリプロピレンモノグリシジルエーテルなどのポリアルキレングリコールモノグリシジルエーテル類;フェニルグリシジルエーテル、o−トリルグリシジルエーテル、m−トリルグリシジルエーテル、p−トリルグリシジルエーテル、o−エチルフェニルグリシジルエーテル、m−エチルグリシジルエーテル、p−エチルフェニルグリシジルエーテルなどのアリールグリシジルエーテル類などのグリシジル基を有する化合物や、
〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕メチルエーテル、〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕エチルエーテル、〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕n−プロピルエーテル、〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕i−プロピルエーテル、〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕n−ブチルエーテル、〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕sec−ブチルエーテル、〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕t−ブチルエーテルなどの〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕アルキルエーテル類;エチレングリコールモノ〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕エーテル、プロピレングリコールモノ〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕エーテル、1,4−ブタンジオールモノ〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕エーテル、1,6−ヘキサンジオールモノ〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕エーテルなどのアルキレングリコールモノ〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕エーテル類;ポリエチレングリコールモノ〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕エーテル、ポリプロピレングリコールモノ〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕エーテルなどのポリアルキレングリコールモノ〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕エーテル類;〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕フェニルエーテル、〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕o−トリルエーテル、〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕m−トリルエーテル、〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕p−トリルエーテル、〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕o−エチルフェニルエーテル、〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕m−エチルフェニルエーテル、〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕p−エチルフェニルエーテルなどの〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕アリールエーテル類などの3,4−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物
などを挙げることができる。
また、エポキシ基を2個以上有する化合物としては、例えば、
ビスフェノールAジグリシジルエーテル、ビスフェノールFジグリシジルエーテル、ビスフェノールSジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールFジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールADジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールAジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールFジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールSジグリシジルエーテルなどのビスフェノール化合物のジグリシジルエーテル類;
エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテルなどの多価アルコールのポリグリシジルエーテル類;
ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルなどのポリアルキレングリコールジグリシジルエーテル類;
エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサイド(例えば、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなど)を付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類;
ビスフェノールA型エポキシ樹脂;ビスフェノールF型エポキシ樹脂;フェノールノボラック型エポキシ樹脂;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂;ポリフェノール型エポキシ樹脂;他の脂環族エポキシ樹脂、他の脂肪族ポリグリシジルエーテル、高級多価脂肪酸のポリグリシジルエステル類;エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油や、
以下、商品名で、ビスフェノールA型エポキシ樹脂として、エピコート825、同828、同834、同1001、同1002、同1003、同1004、同1007、同1009、同1010、同8000、同8034〔以上、ジャパンエポキシレジン(株)製〕など;ビスフェノールF型エポキシ樹脂として、エピコート807〔ジャパンエポキシレジン(株)製〕など;フェノールノボラック型エポキシ樹脂として、エピコート152、同154、同157S65〔以上、ジャパンエポキシレジン(株)製〕、EPPN201、同202(以上、日本化薬(株)製)など;クレゾールノボラック型エポキシ樹脂として、EOCN102、同103S、同104S、同1020、同1025、同1027〔以上、日本化薬(株)製〕、エピコート180S75〔ジャパンエポキシレジン(株)製〕など;ポリフェノール型エポキシ樹脂として、エピコート1032H60、同XY−4000〔以上、ジャパンエポキシレジン(株)製〕など;他の脂環族エポキシ樹脂として、CY−175、同177、同179、アラルダイトCY−182、同192、184〔以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製〕、ERL−4206、同−4221、同−4234、同−4299(以上、U.C.C社製)、ショーダイン509〔昭和電工(株)製〕、エピクロン200、同400〔以上、大日本インキ(株)製〕、エピコート871、同872〔以上、ジャパンエポキシレジン(株)製〕、ED−5661、同−5662〔以上、セラニーズコーティング社製〕など;他の脂肪族ポリグリシジルエーテルとして、エポライト100MF〔共栄社化学(株)製〕、エピオールTMP〔日本油脂(株)製〕などのほか、
2個以上の3,4−エポキシシクロヘキシル基を有する化合物として、3,4−エポキシシクロヘキサンカルボン酸の〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕エステル、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサンメタジオキサン、ビス〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕アジペート、ビス〔(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル)メチル〕アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサンカルボン酸の(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル)エステル、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのビス〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕エーテル、エチレングリコールのビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボン酸)エステル、3,4−エポキシシクロヘキサンカルボン酸の〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕エステルとカプロラクトンとの反応生成物など;
エポキシ基と3,4−エポキシシクロヘキシル基とを有する化合物として、1,2:8,9−ジエポキシリモネンなど
などを挙げることができる。
また、エピスルフィド基を有する化合物としては、例えば、上記エポキシ基を1個または2個以上有する化合物中のエポキシ基を、例えば「J.Org.Chem.,Vol.28,p.229(1963)」に示された方法に準拠して、エピスルフィド基に変換した化合物などを挙げることができる。
また、オキセタニル基を1個有する化合物としては、例えば、3−メチル−3−メトキシメチルオキセタン、3−エチル−3−メトキシメチルオキセタン、3−メチル−3−エトキシメチルオキセタン、3−エチル−3−エトキシメチルオキセタン、3−メチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−エチル−3−ヒドロキシメチルオキセタン、3−メチル−3−フェノキシメチルオキセタン、3−エチル−3−フェノキシメチルオキセタン、3−メチル−3−ベンジルオキシメチルオキセタン、3−エチル−3−ベンジルオキシメチルオキセタン、3−メチル−3−〔(2−エチルヘキシルオキシ)メチル〕オキセタン、3−エチル−3−〔(2−エチルヘキシルオキシ)メチル〕オキセタン、3−メチル−3−(N−n−ブチルアミドメトキシ)オキセタン、3−エチル−3−(N−n−ブチルアミドメトキシ)オキセタンを挙げることができる。
また、オキセタニル基を2個以上有する化合物としては、例えば、
3,7−ビス(3−オキセタニル)−5−オキサノナン、3,3’−〔1,3−(2−メチレニル)プロパンジイルビス(オキシメチレン)〕ビス(3−エチルオキセタン)、1,4−ビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル〕ベンゼン、ビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕テレフタレート、1,2−ビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル〕エタン、1,3−ビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシメチル〕プロパン、エチレングリコールビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル、ジエチレングリコールビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル、トリエチレングリコールビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル、テトラエチレングリコールビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル、ジシクロペンテニルビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレンビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル、トリメチロールプロパントリス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル、1,4−ビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ〕ブタン、1,6−ビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メトキシ〕ヘキサン、ペンタエリスリトールトリス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル、ポリエチレングリコールビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル、
ジペンタエリスリトールヘキサキス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテルとカプロラクトンとの反応生成物、ジペンタエリスリトールペンタキス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテルとカプロラクトンとの反応生成物、ジトリメチロールプロパンテトラキス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテル、ビスフェノールAビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテルとエチレンオキサイドとの反応生成物、ビスフェノールAビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテルとプロピレンオキサイドとの反応生成物、水添ビスフェノールAビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテルとエチレンオキサイドとの反応生成物、水添ビスフェノールAビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテルとプロピレンオキサイドとの反応生成物、ビスフェノールFビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕エーテルとエチレンオキサイドとの反応生成物
などを挙げることができる。
これらの(E)熱重合性化合物のうち、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、3,4−エポキシシクロヘキサンカルボン酸の〔(3,4−エポキシシクロヘキシル)メチル〕エステル、ビス〔(3−エチル−3−オキセタニル)メチル〕テレフタレートなどが好ましい。
上記(E)熱重合性化合物は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
(E)熱重合性化合物の添加量は、(A)共重合体100重量部に対して、好ましくは100重量部以下、さらに好ましくは50重量部以下である。(E)熱重合性化合物の添加量が100重量部を超えると、得られる樹脂組成物の現像性が損なわれるおそれがある。
本発明の感放射線性樹脂組成物には、プレベーク時の熱かぶりによる現像性の低下を抑えるために、熱重合禁止剤を添加することができる。
このような熱重合禁止剤としては、例えば、ピロガロール、ベンゾキノン、ヒドロキノン、メチレンブルー、t−ブチルカテコール、メチルヒドロキノン、n−アミルキノン、n−アミロイロキシヒドロキノン、n−ブチルフェノール、フェノール、ヒドロキノンモノ−n−プロピルエーテル、4,4’−〔1−{4−(1−[4−ヒドロキシフェニル]−1−メチルエチル)フェニル}エチリデン〕ジフェノール、1,1,3−トリス(2,5−ジメチル−4−ヒドロキシフェニル)−3−フェニルプロパンなどを挙げることができる。
これらの熱重合禁止剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
熱重合禁止剤の添加量は、(E)熱重合性化合物100重量部に対して、好ましくは5重量部以下、さらに好ましくは3重量部以下である。
また、感放射線性樹脂組成物には、塗布性、消泡性、レベリング性などを向上させるために、界面活性剤を添加することができる。
このような界面活性剤としては、例えば、フッ素系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤などを挙げることができる。
上記フッ素系界面活性剤としては、商品名で、例えば、FTX−212D、同−218、同−208D(以上、ネオス社製)、BM−1000、同−1100(以上、BM CHEMIE社製)、メガファックF142D、同F172、同F173、同F183〔以上、大日本インキ化学工業(株)製〕、フロラードFC−135、同FC−170C、同FC−430、同FC−431〔以上、住友スリーエム(株)製〕、サーフロンS−112、同S−113、同S−131、同S−141,同S−145、同S−382,同SC−101、同SC−102、同SC−103、同SC−104、同SC−105、同SC−106〔以上、旭硝子(株)製〕などを挙げることができる。
また、上記シリコーン系界面活性剤としては、商品名で、例えば、SH−28PA、同−190、同−193、SZ−6032、SF−8428、DC−57、同−190〔以上、東レ・ダウコーニング・シリコーン(株)製〕、KP341〔信越化学工業(株)製〕、エフトップEF301、同EF303、同EF352〔以上、新秋田化成(株)製〕などを挙げることができる。
また、上記ノニオン系界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル類;ポリオキシエチレンn−オクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンn−ノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアリールエーテル類;ポリオキシエチレンジラウレート、ポリオキシエチレンジステアレートなどのポリオキシエチレンジアルキルエステル類などを挙げることができる。
さらに、上記以外の界面活性剤として、商品名で、例えば、ポリフローNo.57、同No.90〔以上、共栄社化学(株)製〕などを挙げることができる。
これらの界面活性剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
界面活性剤の添加量は、(A)共重合体100重量部に対して、好ましくは5重量部以下、さらに好ましくは2重量部以下である。界面活性剤の添加量が5重量部を超えると、塗布時に塗膜の膜荒れが生じやすくなる傾向がある。
感放射線性樹脂組成物には、(A)共重合体のアルカリ現像液に対する溶解性を調節するために、溶解促進剤や溶解制御剤を添加することができる。すなわち、(A)共重合体のアルカリ現像液に対する溶解性が低すぎる場合は、その溶解性を高めて、アルカリ現像時の(A)共重合体の溶解速度を適度に増大させる作用を有する溶解促進剤を配合することができる。逆に、(A)共重合体のアルカリ現像液に対する溶解性が高すぎる場合は、その溶解性を制御し、アルカリ現像時の(A)共重合体の溶解速度を適度に減少させる作用を有する溶解制御剤を配合することができる。
上記溶解促進剤および溶解制御剤としては、特に限定されるものではないが、感放射線性樹脂組成物のプレベーク、露光、現像などの工程において化学変化しない化合物が好ましい。
溶解促進剤としては、例えば、ベンゼン環数が2〜6個程度の低分子量のフェノール性化合物を挙げることができ、より具体的には、ビスフェノール類、トリス(ヒドロキシフェニル)メタン類などを挙げることができる。
また、溶解制御剤としては、例えば、ナフタレン、フェナントレン、アントラセン、アセナフテンなどの芳香族炭化水素類;アセトフェノン、ベンゾフェノン、フェニルナフチルケトンなどのケトン類;メチルフェニルスルホン、ジフェニルスルホン、ジナフチルスルホンなどのスルホン類などを挙げることができる。
これらの溶解促進剤および溶解制御剤はそれぞれ、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
溶解促進剤および溶解制御剤の添加量は、使用される(A)共重合体の種類に応じて適宜調整することができるが、それぞれ(A)共重合体100重量部に対して、好ましくは50重量部以下、さらに好ましくは30重量部以下である。
感放射線性樹脂組成物には、アルカリ現像液に対する溶解性を微調整するために、カルボキシル基および/またはカルボン酸無水物基を有する化合物(以下、「カルボン酸系添加剤」という。)を添加することができる。
カルボン酸系添加剤としては、例えば、酢酸、プロピオン酸、n−酪酸、イソ酪酸、n−吉草酸、イソ吉草酸、安息香酸、けい皮酸などのモノカルボン酸類;乳酸、2−ヒドロキシ酪酸、3−ヒドロキシ酪酸、サリチル酸、m−ヒドロキシ安息香酸、p−ヒドロキシ安息香酸、o−ヒドロキシけい皮酸、m−ヒドロキシけい皮酸、p−ヒドロキシけい皮酸、5−ヒドロキシイソフタル酸、シリンギン酸などのヒドロキシモノカルボン酸類;シュウ酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、マレイン酸、イタコン酸、ヘキサヒドロフタル酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、1,2−シクロヘキサンジカルボン酸、1,2,4−シクロヘキサントリカルボン酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸、1,2,5,8−ナフタレンテトラカルボン酸などの多価カルボン酸類;無水イタコン酸、無水コハク酸、無水シトラコン酸、ドデセニルコハク酸無水物、無水トリカルバニル酸、無水マレイン酸、無水ヘキサヒドロフタル酸、無水メチルテトラヒドロフタル酸、無水ハイミック酸、無水フタル酸、無水ピロメリット酸、無水トリメリット酸、1,2,3,4−ブタンテトラカルボン酸二無水物、1,2,3,4−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、3,4,3’,4’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、エチレングリコールビス(トリメリテート)二無水物、グリセリントリス(トリメリテート)三無水物などの酸無水物類を挙げることができる。
これらのカルボン酸系添加剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
カルボン酸系添加剤の添加量は、(A)共重合体100重量部に対して、好ましくは10重量部以下、さらに好ましくは5重量部以下である。
本発明の感放射線性樹脂組成物には、感放射線性樹脂組成物層の膜質を柔らかくしてドライフィルムをカットする際に異物が発生するのを低減するため、可塑剤を添加することができる。
可塑剤としては、例えばジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ビス(2−エチルヘキシル)フタレート、ジ−n−オクチルフタレート、ジイソデイシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジイソノニルフタレート、エチルフタリルチルグリコレートなどのフタル酸エステル類、トリス(2−エチルヘキシル)トリメリテートなどのトリメリット酸エステル類、ジメチルアジペート、ジブチルアジペート、ジソブチルアジペート、ビス(2−エチルヘキシル)アジペート、ジイソノニルアジペート、ジイソデシルアジペート、ビス(ブチルジグリコール)アジペート、ビス(2−エチルヘキシル)アゼレート、ジメチルセバケート、ビス(2−エチルヘキシル)セバケート、ジエチルサクシアネート等の脂肪族二塩基酸エステル類、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリス(2−エチルヘキシル)ホスフェート、トリス(ブトキシエチル)ホスフェート、トリフェイニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、クレジルジフェイニルホスフェート、2−エチルヘキシルジフェニルホスフェート等の正リン酸エステル類、メチルアセチルリシノレート等のリシノール酸エステル類、グリセリルトリアセテート、2−エチルヘキシルアセテート等の酢酸エステル類、N−ブチルベンゼンスルホンアミド等のスルホンアミド類、その他ポリ(1,3−ブタンジオールアジペート)、エポキシ化大豆油等や、以下商品名で、アジピン酸系ポリエステル類としてD663(以上、(株)ジェイプラス製)を、ジグリセリン脂肪酸エステル類として、L−71−D、S−71−D、O−71−D、XO−71等、蒸留ジグリセリン脂肪酸エステル類として、DL−100、DM−100、DS−100A、DO−100V、DO−100等、蒸留トリグリセリン脂肪酸エステル類として、TRL−100、TRO−100、TRP−100、TRS−100等、ポリグリセリン脂肪酸エステル類として、J−4081V、J−0021、L−021、J−0081HV、J−0381V、C−781、PR−100、PR−300等(以上、理研ビタミン(株)製)を挙げることが出来る。
これらの可塑剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
可塑剤の添加量は、(A)共重合体100重量部に対して、好ましくは100重量部以下、さらに好ましくは50重量部以下である。この場合、可塑剤の添加量が100重量部を超えると、得られる樹脂組成物の現像性が損なわれるおそれがある。
さらに、感放射線性樹脂組成物には、充填材、着色剤、粘度調整剤などを、感放射線性樹脂組成物の本来の特性を損なわない範囲、好ましくは合計添加量が、得られる組成物全体の50重量%以下となる範囲で添加することもできる。
上記充填材としては、例えば、シリカ、アルミナ、タルク、ベントナイト、ジルコニウムシリケート、粉末ガラスなどを挙げることができる。
これらの充填材は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
また、上記着色剤としては、例えば、アルミナ白、クレー、炭酸バリウム、硫酸バリウムなどの体質顔料;亜鉛華、鉛白、黄鉛、鉛丹、群青、紺青、酸化チタン、クロム酸亜鉛、ベンガラ、カーボンブラックなどの無機顔料;ブリリアントカーミン6B、パーマネントレッド6B、パーマネントレッドR、ベンジジンイエロー、フタロシアニンブルー、フタロシアニングリーンなどの有機顔料;マゼンタ、ローダミンなどの塩基性染料;ダイレクトスカーレット、ダイレクトオレンジなどの直接染料;ローセリン、メタニルイエローなどの酸性染料などを挙げることができる。
これらの着色剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
また、上記粘度調整剤としては、例えば、ベントナイト、シリカゲル、アルミニウム粉末などを挙げることができる。
これらの粘度調整剤は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
感放射線性樹脂組成物は、(A)共重合体、(B)重合性不飽和化合物、(C)光重合開始剤および必要に応じて使用される添加剤を均一に混合し、また基板上への塗布作業を容易とする目的で、有機溶媒で希釈して、液状組成物とすることが好ましい。
上記有機溶媒としては、感放射線性樹脂組成物を構成する各成分を均一に溶解ないし分散させることができ、該各成分と反応せず、適度の揮発性を有するものが好ましい。
このような有機溶媒としては、例えば、上記(A)共重合体を製造する重合について例示した溶剤と同様の有機溶媒のほか、N−メチルホルムアミド、N,N−ジメチルホルムアミド、N−メチルホルムアニリド、N−メチルアセトアミド、N,N−ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、アセトニルアセトン、イソホロン、カプロン酸、カプリル酸、1−オクタノール、1−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、シュウ酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン、エチレングリコールモノフェニルエーテルアセテートなどの高沸点溶媒を挙げることができる。
これらの有機溶媒のうち、溶解性、各成分との反応性および塗膜形成の容易性から、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルなどの多価アルコールのアルキルエーテル類;エチレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどの多価アルコールのアルキルエーテルアセテート類;乳酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチルなどの他のエステル類;ジアセトンアルコールなどのケトン類などが好ましい。
上記有機溶媒は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができる。
有機溶媒の使用量は、感放射線性樹脂組成物の具体的な用途、塗布方法などに応じて適宜選定することができる。
感放射線性樹脂組成物を調製する際には、充填材や顔料を添加しない場合は、通常の方法で撹拌混合するだけでよく、充填材や顔料を添加する場合は、ディゾルバー、ホモジナイザー、3本ロールミルなどの分散機を用いて分散混合させればよい。また、感放射線性樹脂組成物は、必要に応じて、調製後にメッシュ、メンブレンフィルターなどによりろ過して使用に供してもよい。
以下に実施例および比較例を示して、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
カバーフィルムの粘着力は、以下に記す方法によって評価した。
<180℃引き剥がし法>
PMMA板に50mm幅の試料を圧着し、室温にて20分後に測定を行った。使用したカバーフィルムを下記表1に示す。
Figure 2008176276
合成例1
フラスコを窒素置換したのち、ラジカル重合開始剤として2,2’−アゾビスイソブチロニトリル3g、溶剤として3−メトキシプロピオン酸メチル100gを仕込み、ラジカル重合開始剤が溶解するまで撹拌した。その後、メタクリル酸19g、2−モノ(ヘキサヒドロフタロイルオキシ)エチルメタクリレート30g、スチレン15gおよびトリシクロデカニルメタクリレート46gを仕込んでゆるやかに撹拌を始め、さらにイソプレン5gを加えた。その後、反応溶液の温度を80℃に上昇させ、この温度で4時間重合を行ない、メタクリル酸/2−モノ(ヘキサヒドロフタロイルオキシ)エチルメタクリレート/スチレン/トリシクロデカニルメタクリレート/イソプレンの共重合体(共重合重量比=19/30/15/46/5、Mw=13,000、Mn=8,000)を得た。この共重合体を、共重合体(A−1)とする。
合成例2
合成例1と同様に、メタクリル酸/スチレン/ベンジルメタクリレート/グリセロールモノメタクリレート/N−フェニルマレイミドを共重合(共重合重量比=15/15/35/10/25、Mw=7,000、Mn=4,000)させ、共重合体(A−2)を得た。
実施例1
上記共重合体(A−1)および(A−2)を用い下記表2に示す組成の感放射線性レジスト組成物の溶液を調製した。これを(S−1)とする。
Figure 2008176276
ドライフィルムの作製およびカバーフィルムの剥離、転写、露光は以下のごとく行った。
ポリエチレンテレフタレート(PET)製のフィルムであるコスモシャイン「A4100−50」(東洋紡(株)製)上に、アプリケーターを用いて表1の感放射線性樹脂組成物(S−1)を均一に塗布し、塗膜を100℃で5分間加熱し、厚さ20μmの感放射線性樹脂組成物層を形成し、その上から自己粘着樹脂層を有するポリエチレン(PE)製のフィルムであるトレテック7721(フィルムA・東レフィルム加工(株)製)を感放射線性樹脂組成物層と自己粘着樹脂層が接触するように、室温で圧着法にて密着させ、ドライフィルムを作製した。次に、カバーフィルムを剥離し、感放射線性樹脂組成物層の表面をガラス基板の表面に当接し、熱圧着法で感放射線性ドライフィルムをガラス基板に転写した。
次いで、得られた基板に所定パターンのマスクを介して、波長365nmにおける強度が200W/mの紫外線を5秒間露光した。その後、基板上の感放射線性ドライフィルムからベースフィルムを剥離除去し、0.5重量%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により、25℃で2分間現像したのち、純水で1分間洗浄して、パターンを形成し、膜厚18.7μmのパターン状薄膜を得た。得られたパターン上薄膜の表面粗度を下記の要領で評価を行った。その後、塗膜を150℃のオーブン中で60分間ベークしてメルトおよび硬化させることにより、マイクロレンズを形成した。カバーフィルムの密着性及び剥離性評価と得られたマイクロレンズ形状評価は、下記の要領で評価を行い、結果を下記表8に示した。
−カバーフィルムの密着性評価−
カバーフィルムと感放射線樹脂組成物層の密着性について外観を目視し、指で軽くこすった時にはがれないものを○、はがれたものを×とした。
−カバーフィルムの剥離性評価−
剥離した際、感放射線樹脂組成物層がまったくカバーフィルム側についてこない場合を○とし、ついてきた場合を×とした。
−レンズ形状の評価−
ポストベーク後のマイクロレンズを形成した薄膜について、ライン/スペース=50μm/50μmあるいは30μm/30μmのパターンを透過型電子顕微鏡で観察し、図2のいずれの形状に該当するかを評価した。(a)のような半球形状でレンズ形状が良好な場合を○とし、(b)のようにメルト不足によりレンズ形状とならず逆皿形状である場合を△とし、(c)のように全くメルトせず角張っている形状の場合を×とした。
実施例2
下記表3に示す組成の感放射線性レジスト組成物の溶液を調製した。これを(S−2)とする。
実施例1に準じて(S−2)をベースフィルム上に塗工してカバーフィルムAを感放射線樹脂組成物層に圧着してドライフィルムを作製し、剥離、転写、露光、現像してパターニングし、加熱処理した。
Figure 2008176276
実施例3
下記表4に示す組成の感放射線性レジスト組成物の溶液を調製した。これを(S−3)とする。
実施例1に準じて(S−3)をベースフィルム上に塗工してカバーフィルムAを感放射線樹脂層に圧着してドライフィルムを作製し、剥離、転写、露光、現像してパターニングし、加熱処理した。
Figure 2008176276
実施例4
下記表5に示す組成の感放射線性レジスト組成物の溶液を調製した。これを(S−4)とする。
実施例1に準じて(S−4)をベースフィルム上に塗工してカバーフィルムAを感放射線樹脂層に圧着してドライフィルムを作製し、剥離、転写、露光、現像してパターニングし、加熱処理した。
Figure 2008176276
実施例5
下記表6に示す組成の感放射線性レジスト組成物の溶液を調製した。これを(S−5)とする。
実施例1に準じて(S−5)をベースフィルム上に塗工してカバーフィルムAを感放射線樹脂層に圧着してドライフィルムを作製し、剥離、転写、露光、現像してパターニングし、加熱処理した。
Figure 2008176276
実施例6
下記表7に示す組成の感放射線性レジスト組成物の溶液を調製した。これを(S−6)とする。
実施例1に準じて(S−6)をベースフィルム上に塗工してカバーフィルムAを感放射線樹脂層に圧着してドライフィルムを作製し、剥離、転写、露光、現像してパターニングし、加熱処理した。
Figure 2008176276
比較例1
実施例1に準じて(S−1)をベースフィルム上に塗工してカバーフィルムBを感放射線樹脂組成物層に圧着してドライフィルムを作製し、剥離、転写、露光、現像してパターニングし、加熱処理した。
比較例2
実施例1に準じて(S−1)をベースフィルム上に塗工してカバーフィルムCを感放射線樹脂組成物層に圧着してドライフィルムを作製し、剥離、転写、露光、現像してパターニングし、加熱処理した。
Figure 2008176276
本発明のドライフィルムの層構成の説明図。 レンズの断面形状を示す模式図。

Claims (10)

  1. ベースフィルム上に厚さ2〜200μmの感放射線性樹脂組成物層を有する積層フィルムと、フィルム上に自己粘着性樹脂層を有するカバーフィルムとが、感放射線性樹脂組成物層と自己粘着性樹脂層とが直接接触するように積層されていることを特徴とするドライフィルム。
  2. 感放射線性樹脂組成物が(A)アルカリ可溶性共重合体、(B)重合性不飽和化合物および(C)光重合開始剤を含有する請求項1に記載のドライフィルム。
  3. 感放射線性樹脂組成物がさらに可塑剤を含有する請求項2に記載のドライフィルム。
  4. (A)アルカリ可溶性共重合体が(a)酸性官能基を有する重合性不飽和化合物5〜60重量%と(b)他の重合性不飽和化合物40〜95重量%(但し、(a)+(b)=100重量%)の共重合体である請求項2または3に記載のドライフィルム。
  5. (A)アルカリ可溶性共重合体が、(b)他の重合性不飽和化合物としてN位−置換マレイミドを含有する共重合体を含有する請求項4に記載のドライフィルム。
  6. (A)アルカリ可溶性共重合体が、(b)他の重合性不飽和化合物としてN位−置換マレイミドを含有する共重合体と、N位−置換マレイミドを含有しない共重合の混合物である請求項5に記載のドライフィルム。
  7. マイクロレンズ形成用である請求項1〜6に記載のドライフィルム。
  8. 請求項7に記載のマイクロレンズ形成用ドライフィルムを用いて形成されたマイクロレンズ。
  9. 少なくとも下記(イ)〜(ニ)の工程を含むことを特徴とするマイクロレンズの形成方法。
    (イ)請求項7に記載のドライフィルムからカバーフィルムを剥し、感放射線性樹脂組成物層をガラス基板へ転写して膜を形成する工程。
    (ロ)該膜の少なくとも一部に放射線を照射する工程。
    (ハ)照射後の膜を現像する工程。
    (ニ)現像後の膜を加熱する工程。
  10. 請求項8に記載のマイクロレンズを具備する液晶表示素子。
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