JP2008166713A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008166713A5 JP2008166713A5 JP2007272232A JP2007272232A JP2008166713A5 JP 2008166713 A5 JP2008166713 A5 JP 2008166713A5 JP 2007272232 A JP2007272232 A JP 2007272232A JP 2007272232 A JP2007272232 A JP 2007272232A JP 2008166713 A5 JP2008166713 A5 JP 2008166713A5
- Authority
- JP
- Japan
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP06022046A EP1914800A1 (en) | 2006-10-20 | 2006-10-20 | Method of manufacturing a semiconductor device with multiple dielectrics |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008166713A JP2008166713A (ja) | 2008-07-17 |
JP2008166713A5 true JP2008166713A5 (ja) | 2011-10-06 |
Family
ID=37845236
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2007272232A Pending JP2008166713A (ja) | 2006-10-20 | 2007-10-19 | 複数の誘電体を備えた半導体装置の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20080096383A1 (ja) |
EP (1) | EP1914800A1 (ja) |
JP (1) | JP2008166713A (ja) |
Families Citing this family (16)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7994036B2 (en) * | 2008-07-01 | 2011-08-09 | Panasonic Corporation | Semiconductor device and fabrication method for the same |
JP4647682B2 (ja) * | 2008-11-12 | 2011-03-09 | パナソニック株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
JP5127694B2 (ja) * | 2008-12-26 | 2013-01-23 | パナソニック株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
JP2010199156A (ja) * | 2009-02-23 | 2010-09-09 | Panasonic Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP5375362B2 (ja) * | 2009-06-24 | 2013-12-25 | 富士通セミコンダクター株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US20110006378A1 (en) * | 2009-07-07 | 2011-01-13 | Sematech, Inc. | Semiconductor Manufacturing Method Using Maskless Capping Layer Removal |
CN102498542B (zh) * | 2009-09-04 | 2016-05-11 | 住友化学株式会社 | 半导体基板、场效应晶体管、集成电路和半导体基板的制造方法 |
US7943458B2 (en) * | 2009-10-06 | 2011-05-17 | International Business Machines Corporation | Methods for obtaining gate stacks with tunable threshold voltage and scaling |
JP2013084637A (ja) * | 2010-02-23 | 2013-05-09 | Panasonic Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP5449026B2 (ja) * | 2010-05-24 | 2014-03-19 | パナソニック株式会社 | 半導体装置及びその製造方法 |
JP5548550B2 (ja) | 2010-07-30 | 2014-07-16 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
US8440537B1 (en) * | 2011-11-11 | 2013-05-14 | Intermolecular, Inc. | Adsorption site blocking method for co-doping ALD films |
JP6328131B2 (ja) * | 2012-11-20 | 2018-05-23 | コーニンクレッカ フィリップス エヌ ヴェKoninklijke Philips N.V. | 容量性マイクロマシントランスデューサ及びその製造方法 |
JP5866319B2 (ja) * | 2013-07-24 | 2016-02-17 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置の製造方法 |
JP5579313B2 (ja) * | 2013-08-21 | 2014-08-27 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
JP6783463B2 (ja) * | 2016-11-11 | 2020-11-11 | 国立研究開発法人物質・材料研究機構 | ダイヤモンド半導体装置、それを用いたロジック装置、及びダイヤモンド半導体装置の製造方法 |
Family Cites Families (21)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100248506B1 (ko) * | 1997-08-30 | 2000-03-15 | 윤종용 | 트랜지스터의 특성 개선을 위한 반도체 장치 제조 방법 |
US6737716B1 (en) * | 1999-01-29 | 2004-05-18 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Semiconductor device and method of manufacturing the same |
US6271132B1 (en) * | 1999-05-03 | 2001-08-07 | Advanced Micro Devices, Inc. | Self-aligned source and drain extensions fabricated in a damascene contact and gate process |
JP2001060630A (ja) * | 1999-08-23 | 2001-03-06 | Nec Corp | 半導体装置の製造方法 |
JP3851752B2 (ja) * | 2000-03-27 | 2006-11-29 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
KR100399356B1 (ko) * | 2001-04-11 | 2003-09-26 | 삼성전자주식회사 | 듀얼 게이트를 가지는 씨모스형 반도체 장치 형성 방법 |
US6797599B2 (en) * | 2001-08-31 | 2004-09-28 | Texas Instruments Incorporated | Gate structure and method |
JP4034627B2 (ja) * | 2001-09-28 | 2008-01-16 | テキサス インスツルメンツ インコーポレイテツド | 集積回路及びその製造方法 |
KR100437462B1 (ko) * | 2001-10-04 | 2004-06-23 | 삼성전자주식회사 | 저전압 모스 트랜지스터 및 고전압 모스 트랜지스터를갖는 반도체소자의 제조방법 |
JP2003347420A (ja) * | 2002-05-23 | 2003-12-05 | Nec Electronics Corp | 半導体装置及びその製造方法 |
JP4524995B2 (ja) * | 2003-03-25 | 2010-08-18 | ルネサスエレクトロニクス株式会社 | 半導体装置 |
US6972224B2 (en) * | 2003-03-27 | 2005-12-06 | Freescale Semiconductor, Inc. | Method for fabricating dual-metal gate device |
JP3793190B2 (ja) * | 2003-09-19 | 2006-07-05 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法 |
TWI258811B (en) * | 2003-11-12 | 2006-07-21 | Samsung Electronics Co Ltd | Semiconductor devices having different gate dielectrics and methods for manufacturing the same |
US7247578B2 (en) * | 2003-12-30 | 2007-07-24 | Intel Corporation | Method of varying etch selectivities of a film |
JP4011024B2 (ja) * | 2004-01-30 | 2007-11-21 | 株式会社ルネサステクノロジ | 半導体装置およびその製造方法 |
US7105889B2 (en) * | 2004-06-04 | 2006-09-12 | International Business Machines Corporation | Selective implementation of barrier layers to achieve threshold voltage control in CMOS device fabrication with high k dielectrics |
US7592678B2 (en) * | 2004-06-17 | 2009-09-22 | Infineon Technologies Ag | CMOS transistors with dual high-k gate dielectric and methods of manufacture thereof |
US7087476B2 (en) * | 2004-07-28 | 2006-08-08 | Intel Corporation | Using different gate dielectrics with NMOS and PMOS transistors of a complementary metal oxide semiconductor integrated circuit |
JP2006245317A (ja) * | 2005-03-03 | 2006-09-14 | Fujitsu Ltd | 半導体装置およびその製造方法 |
US7544553B2 (en) * | 2005-03-30 | 2009-06-09 | Infineon Technologies Ag | Integration scheme for fully silicided gate |
-
2006
- 2006-10-20 EP EP06022046A patent/EP1914800A1/en not_active Withdrawn
-
2007
- 2007-10-18 US US11/874,443 patent/US20080096383A1/en not_active Abandoned
- 2007-10-19 JP JP2007272232A patent/JP2008166713A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
BR112014019477A2 (ja) | ||
JP2008166713A5 (ja) | ||
CN300801041S (zh) | 显示器(c) | |
CN300783976S (zh) | 药品包装外盒(海福康) | |
CN300728870S (zh) | 椅子(17) | |
CN300901151S (zh) | 书签(071521) | |
CN300781061S (zh) | 包装袋(6) | |
CN300775173S (zh) | 包装袋(兆丰和豆瓣1) | |
CN300772836S (zh) | 电脑机箱面板 | |
CN300771931S (zh) | 转角下轴 | |
CN300730637S (zh) | 烛台(169) | |
CN300730598S (zh) | 型材(ymgr56801) | |
CN300730520S (zh) | 热水器控制器 | |
CN300730498S (zh) | 牙刷挂具(三) | |
CN300730378S (zh) | 背柜(f-02-a) | |
CN300730347S (zh) | 瓶贴(38) | |
CN300727828S (zh) | 标价机(h-2000) | |
CN300730249S (zh) | 修正带(7247) | |
CN300730066S (zh) | 显示器(ul-1929w) | |
CN300729974S (zh) | 灯具电器箱(gbh-p04-70) | |
CN300729873S (zh) | 金属轮毂(365) | |
CN300729593S (zh) | 食品包装袋(蒸薯坊2) | |
CN300729456S (zh) | 包装箱(柴油机零配件) | |
CN300728077S (zh) | 玩具(浴缸) | |
CN300730278S (zh) | 笔(1880) |