JP2008166263A - アーク放電を識別する方法、アーク放電識別装置およびプラズマ給電部 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマにおいて発生したアーク放電を識別するためにプラズマプロセスの特性量KGを監視し、アーク放電の識別後に第1の時間t1待機し、続いて特性量KGを再度検査する、プラズマプロセスにおけるアーク放電を識別する方法であって、第1の時間t1の経過後にアーク放電が識別されない場合には、アーク放電を抑制する第1の対抗措置を実施する。
【選択図】図1
Description
Claims (24)
- プラズマにおいて発生したアーク放電を識別するためにプラズマプロセスの特性量(KG)を監視し、アーク放電の識別後に第1の時間(t1)待機し、続いて前記特性量(KG)を再度検査する、プラズマプロセスにおけるアーク放電を識別する方法において、
前記第1の時間(t1)の経過後にアーク放電が識別されない場合には、アーク放電を抑制する第1の対抗措置を実施することを特徴とする、プラズマプロセスにおけるアーク放電を識別する方法。 - プラズマ給電部(1)の動作を制御するために使用する、請求項1記載の方法。
- 前記プラズマプロセスの電気的な特性量(KG)を監視する、請求項1または2記載の方法。
- 前記第1の対抗措置を第2の時間(t2)の間に実施する、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- 前記第2の時間(t2)は0.1μsから10μsである、請求項4記載の方法。
- 前記第1の対抗措置としてプラズマ給電部(1)の遮断または極性反転を実施する、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- 前記第1の時間(t1)の経過後にさらにアーク放電が識別される場合には、アーク放電を抑制する第2の対抗措置を実施する、請求項1から6までのいずれか1項記載の方法。
- 前記第2の対抗措置を第3の時間(t3)の間に実施する、請求項7記載の方法。
- 前記第2の対抗措置としてプラズマ給電部(1)の遮断または極性反転を実施する、請求項7または8記載の方法。
- 前記第3の時間(t3)は前記第2の時間(t2)よりも長く、有利には10μsより長い、請求項8または9記載の方法。
- 前記第1の時間(t1)の間に、さらに識別されたアーク放電への反応を行わない、請求項1から10までのいずれか1項記載の方法。
- アーク放電の識別後の第4の時間(t4)の間は別の第1の対抗措置を実施せず、該第4の時間(t4)は有利には前記第1の時間(t1)よりも長い、請求項1から11までのいずれか1項記載の方法。
- プラズマプロセスの特性量(KG)に基づいて該プラズマプロセスにおけるアーク放電を識別するアーク放電識別装置(3)であって、
−アーク放電の識別時に監視信号(MS)を形成および出力するために構成されている、前記特性量を監視する監視ユニット(5)と、
−前記監視信号(MS)の形成以降に経過した時間(t)を検出および出力するために構成されているタイマユニット(6)と、
−前記アーク放電を抑制するためのそれぞれの対抗措置を制御するための少なくとも1つの制御信号(SS1,SS2)を前記監視信号(MS)および前記経過した時間(t)に依存して形成するために構成されている制御ユニット(7)とを有する、アーク放電識別装置(3)において、
前記制御ユニット(7)は、前記監視ユニット(5)が前記アーク放電の識別に関して第1の所定の時間(t1)の経過後に前記監視信号(MS)をもはや出力しない場合には、第1の対抗措置を指示する第1の制御信号(SS1)を形成するよう構成されていることを特徴とする、アーク放電識別装置(3)。 - 前記制御ユニット(7)は前記第1の制御信号(SS1)を第2の時間(t2)の間に出力する、請求項13記載のアーク放電識別装置(3)。
- 前記第2の時間(t2)は調整可能であり、例えば0.1μsから10μsである、請求項14記載のアーク放電識別装置(3)。
- 制御ユニット(7)は、前記監視ユニット(5)が前記アーク放電の識別に関して前記監視信号(MS)を前記第1の時間(t1)の経過後にさらに出力する場合には、第2の対抗措置のための第2の制御信号(SS2)を形成する、請求項13から15までのいずれか1項記載のアーク放電識別装置(3)。
- 前記制御ユニット(7)は前記第2の制御信号(SS2)を第3の時間(t3)の間に出力する、請求項16記載のアーク放電識別装置(3)。
- 前記第3の時間(t3)は調整可能であり、例えば前記第2の時間(t2)よりも長い時間に調整可能である、請求項17記載のアーク放電識別装置(3)。
- 前記制御ユニット(7)は、前記アーク放電の識別後に第4の時間(t4)が経過する前は前記第1の制御信号(SS1)を新たに形成しない、請求項13から18までのいずれか1項記載のアーク放電識別装置(3)。
- 前記第4の時間(t4)は調整可能であり、例えば前記第3の時間(t3)よりも長い時間に調整可能である、請求項19記載のアーク放電識別装置(3)。
- 前記監視ユニット(5)は前記プラズマプロセスの電気的な特性量(KG)を監視する、請求項13から20までのいずれか1項記載のアーク放電識別装置(3)。
- プラズマプロセスの給電のためのプラズマ給電部(1)において、
請求項13から21までのいずれか1項記載のアーク放電識別装置(3)が設けられており、プラズマ給電部が前記アーク放電識別装置(3)の制御ユニット(7)によって制御されることを特徴とする、プラズマ給電部(1)。 - アーク放電を抑制する第1の対抗措置として、前記制御ユニット(7)の第1の制御信号(SS1)に応じて、所定の時間(t2)の間に遮断または極性反転される、請求項22記載のプラズマ給電部(1)。
- アーク放電を抑制する第2の対抗措置として、前記制御ユニット(7)の第2の制御信号(SS2)に応じて、別の所定の時間(t3)の間に遮断または極性反転される、請求項22または23記載のプラズマ給電部(1)。
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Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE102004015090A1 (de) | 2004-03-25 | 2005-11-03 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Bogenentladungserkennungseinrichtung |
DE502005006550D1 (de) * | 2005-12-22 | 2009-03-12 | Huettinger Elektronik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Arcerkennung in einem Plasmaprozess |
DE502006005363D1 (de) * | 2006-11-23 | 2009-12-24 | Huettinger Elektronik Gmbh | Verfahren zum Erkennen einer Bogenentladung in einem Plasmaprozess und Bogenentladungserkennungsvorrichtung |
US7795817B2 (en) * | 2006-11-24 | 2010-09-14 | Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Controlled plasma power supply |
DE502006009308D1 (de) * | 2006-12-14 | 2011-05-26 | Huettinger Elektronik Gmbh | Bogenentladungs-Erkennungseinrichtung, Plasma-Leistungsversorgung und Verfahren zum Erkennen von Bogenentladungen |
ATE493749T1 (de) | 2007-03-08 | 2011-01-15 | Huettinger Elektronik Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum unterdrücken von bogenentladungen beim betreiben eines plasmaprozesses |
PL2648209T3 (pl) * | 2009-02-17 | 2018-06-29 | Solvix Gmbh | Urządzenie zasilające do obróbki plazmowej |
CN102096458B (zh) * | 2010-12-08 | 2013-05-08 | 深圳市航嘉驰源电气股份有限公司 | 数字电源及数字电源系统 |
EP3035365A1 (en) | 2014-12-19 | 2016-06-22 | TRUMPF Huettinger Sp. Z o. o. | Method of detecting an arc occurring during the power supply of a plasma process, control unit for a plasma power supply, and plasma power supply |
EP3054472A1 (en) | 2015-02-03 | 2016-08-10 | TRUMPF Huettinger Sp. Z o. o. | Arc treatment device and method therefor |
CN109256759B (zh) | 2017-07-14 | 2021-04-16 | 台达电子工业股份有限公司 | 电弧抑制装置与电弧抑制方法 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1088338A (ja) * | 1996-09-11 | 1998-04-07 | Sony Corp | アークカウント装置 |
JP2002235170A (ja) * | 2001-02-05 | 2002-08-23 | Shibaura Mechatronics Corp | スパッタリング用電源装置 |
JP2002294445A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Shibaura Mechatronics Corp | スパッタリング装置 |
JP2005526184A (ja) * | 2002-05-17 | 2005-09-02 | アプライド、フィルム、コーパレイシャン | スパッタ・デポジション工程を制御するためのシステムおよび方法 |
Family Cites Families (77)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4031464A (en) * | 1976-03-01 | 1977-06-21 | Control Data Corporation | Line power distortion detector |
US4396478A (en) * | 1981-06-15 | 1983-08-02 | Aizenshtein Anatoly G | Method of control of chemico-thermal treatment of workpieces in glow discharge and a device for carrying out the method |
US4625283A (en) * | 1982-05-07 | 1986-11-25 | Cooper Industries, Inc. | Method and apparatus for digitally measuring alternating current |
JPS59111231A (ja) * | 1982-12-16 | 1984-06-27 | Japan Atom Energy Res Inst | ア−ク放電異常検出方式 |
US4629940A (en) * | 1984-03-02 | 1986-12-16 | The Perkin-Elmer Corporation | Plasma emission source |
US4694402A (en) * | 1985-05-28 | 1987-09-15 | Basic Measuring Instruments | Waveform disturbance detection apparatus and method |
US4936960A (en) * | 1989-01-03 | 1990-06-26 | Advanced Energy Industries, Inc. | Method and apparatus for recovery from low impedance condition during cathodic arc processes |
US5241152A (en) * | 1990-03-23 | 1993-08-31 | Anderson Glen L | Circuit for detecting and diverting an electrical arc in a glow discharge apparatus |
DE4127504A1 (de) | 1991-08-20 | 1993-02-25 | Leybold Ag | Einrichtung zur unterdrueckung von lichtboegen |
CH689767A5 (de) | 1992-03-24 | 1999-10-15 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zur Werkstueckbehandlung in einer Vakuumatmosphaere und Vakuumbehandlungsanlage. |
US5729145A (en) * | 1992-07-30 | 1998-03-17 | Siemens Energy & Automation, Inc. | Method and apparatus for detecting arcing in AC power systems by monitoring high frequency noise |
US5718813A (en) * | 1992-12-30 | 1998-02-17 | Advanced Energy Industries, Inc. | Enhanced reactive DC sputtering system |
EP0662241A1 (en) | 1993-04-28 | 1995-07-12 | Applied Materials, Inc. | Method and apparatus for etchback endpoint detection |
US5698082A (en) * | 1993-08-04 | 1997-12-16 | Balzers Und Leybold | Method and apparatus for coating substrates in a vacuum chamber, with a system for the detection and suppression of undesirable arcing |
DE4326100B4 (de) | 1993-08-04 | 2006-03-23 | Unaxis Deutschland Holding Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zum Beschichten von Substraten in einer Vakuumkammer, mit einer Einrichtung zur Erkennung und Unterdrückung von unerwünschten Lichtbögen |
JPH07191764A (ja) * | 1993-12-27 | 1995-07-28 | Fujitsu Ltd | 高周波電源装置及びプラズマ発生装置 |
DE4420951C2 (de) * | 1994-06-16 | 1998-01-22 | Leybold Ag | Einrichtung zum Erfassen von Mikroüberschlägen in Zerstäubungsanlagen |
DE4441206C2 (de) * | 1994-11-19 | 1996-09-26 | Leybold Ag | Einrichtung für die Unterdrückung von Überschlägen in Kathoden-Zerstäubungseinrichtungen |
JPH08167500A (ja) | 1994-12-15 | 1996-06-25 | Jeol Ltd | 高周波プラズマ発生装置用電源 |
JP2733454B2 (ja) | 1995-02-16 | 1998-03-30 | 株式会社京三製作所 | 成膜装置用異常放電抑制装置 |
WO1996031899A1 (en) * | 1995-04-07 | 1996-10-10 | Advanced Energy Industries, Inc. | Adjustable energy quantum thin film plasma processing system |
US5576939A (en) * | 1995-05-05 | 1996-11-19 | Drummond; Geoffrey N. | Enhanced thin film DC plasma power supply |
JPH09170079A (ja) | 1995-12-18 | 1997-06-30 | Asahi Glass Co Ltd | スパッタリング方法および装置 |
US5917286A (en) * | 1996-05-08 | 1999-06-29 | Advanced Energy Industries, Inc. | Pulsed direct current power supply configurations for generating plasmas |
US5804975A (en) * | 1996-09-18 | 1998-09-08 | Lucent Technologies Inc. | Detecting breakdown in dielectric layers |
DE19651615C1 (de) * | 1996-12-12 | 1997-07-10 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zum Aufbringen von Kohlenstoffschichten durch reaktives Magnetron-Sputtern |
WO1998037257A1 (fr) * | 1997-02-20 | 1998-08-27 | Shibaura Mechatronics Corporation | Bloc d'alimentation pour dispositif de pulverisation cathodique |
US5993615A (en) * | 1997-06-19 | 1999-11-30 | International Business Machines Corporation | Method and apparatus for detecting arcs |
KR100610413B1 (ko) * | 1997-09-17 | 2006-08-09 | 동경 엘렉트론 주식회사 | Rf 플라즈마 시스템에서 아크를 검출하고 방지하기 위한디바이스 및 방법 |
JP2001516963A (ja) * | 1997-09-17 | 2001-10-02 | 東京エレクトロン株式会社 | ガスプラズマ処理を監視しかつ管理するためのシステムおよび方法 |
EP1023819A4 (en) * | 1997-10-14 | 2007-10-17 | Advanced Energy Ind Inc | SYSTEM FOR PLASMA IGNITION BY QUICK VOLTAGE RISE |
US5889391A (en) * | 1997-11-07 | 1999-03-30 | Sierra Applied Sciences, Inc. | Power supply having combined regulator and pulsing circuits |
US5929717A (en) * | 1998-01-09 | 1999-07-27 | Lam Research Corporation | Method of and apparatus for minimizing plasma instability in an RF processor |
US6162332A (en) * | 1998-05-07 | 2000-12-19 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. | Method and apparatus for preventing arcing in sputter chamber |
CN1196811C (zh) * | 1998-05-08 | 2005-04-13 | 三菱电机株式会社 | 放电表面处理装置 |
JP3036514B2 (ja) | 1998-06-26 | 2000-04-24 | 松下電器産業株式会社 | ガスレーザ発振装置 |
US6574239B1 (en) * | 1998-10-07 | 2003-06-03 | Eric Morgan Dowling | Virtual connection of a remote unit to a server |
JP3478327B2 (ja) | 1998-10-19 | 2003-12-15 | 日立プラント建設株式会社 | 電気集塵装置の火花検出装置 |
DE19848636C2 (de) * | 1998-10-22 | 2001-07-26 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Überwachung einer Wechselspannungs-Entladung an einer Doppelelektrode |
JP4434359B2 (ja) * | 1999-05-19 | 2010-03-17 | 東芝モバイルディスプレイ株式会社 | 平面表示装置及びその製造方法 |
US6213050B1 (en) * | 1998-12-01 | 2001-04-10 | Silicon Genesis Corporation | Enhanced plasma mode and computer system for plasma immersion ion implantation |
DE19937859C2 (de) * | 1999-08-13 | 2003-06-18 | Huettinger Elektronik Gmbh | Elektrische Versorgungseinheit für Plasmaanlagen |
DE19949394A1 (de) * | 1999-10-13 | 2001-04-19 | Balzers Process Systems Gmbh | Elektrische Versorgungseinheit und Verfahren zur Reduktion der Funkenbildung beim Sputtern |
TW505939B (en) * | 2000-03-28 | 2002-10-11 | Kumamoto Technopolis Foundatio | Apparatus for detecting plasma anomalous discharge and method of detecting the same |
US6472822B1 (en) * | 2000-04-28 | 2002-10-29 | Applied Materials, Inc. | Pulsed RF power delivery for plasma processing |
DE10034895C2 (de) | 2000-07-18 | 2002-11-14 | Fraunhofer Ges Forschung | Verfahren zur Erkennung von Überschlägen in gepulst betriebenen Plasmen |
DE10119058C2 (de) | 2001-04-18 | 2003-05-08 | Logitex Reinstmedientechnik Gm | Vorrichtung zum Detektieren von Instabilitäten eines hochfrequent angeregten Plasmas, insbesondere von Arcing Ereignissen |
WO2003037047A1 (fr) | 2001-10-22 | 2003-05-01 | Shibaura Mechatronics Corporation | Procede permettant d'evaluer un arc de dispositif de decharge luminescente et suppresseur de decharge d'arc haute frequence |
JP3689732B2 (ja) * | 2001-12-05 | 2005-08-31 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置の監視装置 |
US20030160024A1 (en) * | 2002-02-27 | 2003-08-28 | Tadayashi Kawaguchi | Plasma processing method and apparatus |
US6736944B2 (en) * | 2002-04-12 | 2004-05-18 | Schneider Automation Inc. | Apparatus and method for arc detection |
US7988833B2 (en) * | 2002-04-12 | 2011-08-02 | Schneider Electric USA, Inc. | System and method for detecting non-cathode arcing in a plasma generation apparatus |
JP4443404B2 (ja) * | 2002-05-31 | 2010-03-31 | 芝浦メカトロニクス株式会社 | 放電用電源、スパッタリング用電源及びスパッタリング装置 |
US6859042B2 (en) * | 2002-06-07 | 2005-02-22 | Hendry Mechanical Works | Arc detection by non-causal signal correlation |
US20040031699A1 (en) * | 2002-08-19 | 2004-02-19 | Applied Materials, Inc. | Method for performing real time arcing detection |
US6806651B1 (en) * | 2003-04-22 | 2004-10-19 | Zond, Inc. | High-density plasma source |
US6791274B1 (en) * | 2003-07-15 | 2004-09-14 | Advanced Energy Industries, Inc. | RF power control device for RF plasma applications |
US6967305B2 (en) * | 2003-08-18 | 2005-11-22 | Mks Instruments, Inc. | Control of plasma transitions in sputter processing systems |
JP2005077248A (ja) | 2003-08-29 | 2005-03-24 | Daihen Corp | 高周波電源装置 |
US7304438B2 (en) | 2003-09-22 | 2007-12-04 | Mks Instruments, Inc. | Method and apparatus for preventing instabilities in radio-frequency plasma processing |
US7796368B2 (en) * | 2003-11-27 | 2010-09-14 | Daihen Corporation | High-frequency power supply system |
US7016172B2 (en) * | 2003-12-20 | 2006-03-21 | Lear Corporation | Method of detecting an arc and protecting the load against said arc |
DE102004015090A1 (de) * | 2004-03-25 | 2005-11-03 | Hüttinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Bogenentladungserkennungseinrichtung |
US6943317B1 (en) * | 2004-07-02 | 2005-09-13 | Advanced Energy Industries, Inc. | Apparatus and method for fast arc extinction with early shunting of arc current in plasma |
US7081598B2 (en) * | 2004-08-24 | 2006-07-25 | Advanced Energy Industries, Inc. | DC-DC converter with over-voltage protection circuit |
US7408750B2 (en) * | 2004-09-09 | 2008-08-05 | Sensata Technologies Massachusetts, Inc. | Methods of detecting arc faults characterized by consecutive periods of arcing |
US20060100824A1 (en) * | 2004-10-27 | 2006-05-11 | Tokyo Electron Limited | Plasma processing apparatus, abnormal discharge detecting method for the same, program for implementing the method, and storage medium storing the program |
US7262606B2 (en) * | 2005-03-26 | 2007-08-28 | Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Method of arc detection |
EP1705687B1 (de) | 2005-03-26 | 2007-05-09 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Verfahren zur Arcerkennung |
US7305311B2 (en) | 2005-04-22 | 2007-12-04 | Advanced Energy Industries, Inc. | Arc detection and handling in radio frequency power applications |
EP1720195B1 (de) * | 2005-05-06 | 2012-12-12 | HÜTTINGER Elektronik GmbH + Co. KG | Arcunterdrückungsanordnung |
DE502005006550D1 (de) * | 2005-12-22 | 2009-03-12 | Huettinger Elektronik Gmbh | Verfahren und Vorrichtung zur Arcerkennung in einem Plasmaprozess |
DE102006002333A1 (de) | 2006-01-18 | 2007-07-19 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren und Vorrichtung zum Löschen von Bogenentladungen |
US7445695B2 (en) * | 2006-04-28 | 2008-11-04 | Advanced Energy Industries Inc. | Method and system for conditioning a vapor deposition target |
US7795817B2 (en) * | 2006-11-24 | 2010-09-14 | Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Controlled plasma power supply |
DE502006009308D1 (de) * | 2006-12-14 | 2011-05-26 | Huettinger Elektronik Gmbh | Bogenentladungs-Erkennungseinrichtung, Plasma-Leistungsversorgung und Verfahren zum Erkennen von Bogenentladungen |
ATE493749T1 (de) * | 2007-03-08 | 2011-01-15 | Huettinger Elektronik Gmbh | Verfahren und vorrichtung zum unterdrücken von bogenentladungen beim betreiben eines plasmaprozesses |
-
2006
- 2006-11-28 EP EP06024603.0A patent/EP1928009B1/de active Active
-
2007
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1088338A (ja) * | 1996-09-11 | 1998-04-07 | Sony Corp | アークカウント装置 |
JP2002235170A (ja) * | 2001-02-05 | 2002-08-23 | Shibaura Mechatronics Corp | スパッタリング用電源装置 |
JP2002294445A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Shibaura Mechatronics Corp | スパッタリング装置 |
JP2005526184A (ja) * | 2002-05-17 | 2005-09-02 | アプライド、フィルム、コーパレイシャン | スパッタ・デポジション工程を制御するためのシステムおよび方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
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