JP2008159773A - 比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】バラツキが5%以内にある比抵抗値を有する円板状シリコン電極素板および単数または複数のリング状シリコン電極素板を、前記円板状シリコン電極素板を中心部とし、前記円板状シリコン電極素板の周囲に単数または複数のリング状シリコン電極素板を同心円状に嵌め込んでなる比抵抗値の面内バラツキが小さい複合シリコン電極板およびその製造方法。
【選択図】なし
Description
特に、比抵抗値が10Ω・cm以上の比抵抗値を有する単結晶シリコン電極板、多結晶シリコン電極板および柱状晶シリコン電極板ではドーパントの含有量による比抵抗値の差が大きく影響するようになり、この従来の単結晶シリコン電極板または多結晶シリコン電極板を用いてウエハを一層均一にプラズマエッチングすることは難しい。
(イ)円板状シリコン電極要素板および単数または複数のリング状シリコン電極要素板の比抵抗値のうちで最大の比抵抗値をRmax、最小の比抵抗値をRminとすると、[(Rmax−Rmin)/Rmax×100](以下、バラツキという)が5%以内にある比抵抗値を有する円板状シリコン電極要素板および単数または複数のリング状シリコン電極要素板を選んで用意し、前記円板状シリコン電極要素板を中心部とし、前記円板状シリコン電極要素板の周囲に単数または複数のリング状シリコン電極要素板を同心円状に嵌め込むことにより得られた複合シリコン電極板は、比抵抗値の面内バラツキが5%以内となり、この複合シリコン電極板を使用してウエハをプラズマエッチングすると、エッチングレートのバラツキが少ない均一なプラズマエッチングすることができる、
(ロ)前記円板状シリコン電極要素板および単数または複数のリング状シリコン電極要素板は、比抵抗値:10〜100Ω・cmの単結晶シリコンインゴット、多結晶シリコンインゴットまたは柱状晶シリコンインゴットから作製することが好ましい、などの研究結果が得られたのである。
(1)バラツキが5%以内にある比抵抗値を有する円板状シリコン電極要素板および単数または複数のリング状シリコン電極要素板を、前記円板状シリコン電極要素板を中心部とし、前記円板状シリコン電極要素板の周囲に単数または複数のリング状シリコン電極要素板を同心円状に嵌め込んでなる比抵抗値の面内バラツキが小さい複合シリコン電極板、
(2)前記円板状シリコン電極要素板および単数または複数のリング状シリコン電極要素板は、10〜100Ω・cmの比抵抗値を有する前記(1)記載の比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板、
(3)前記円板状シリコン電極要素板および単数または複数のリング状シリコン電極要素板は、単結晶シリコンからなる前記(1)または(2)記載の比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板、
(4)前記円板状シリコン電極要素板および単数または複数のリング状シリコン電極要素板は、多結晶シリコンからなる前記(1)または(2)記載の比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板、
(5)前記円板状シリコン電極要素板および単数または複数のリング状シリコン電極要素板は、柱状晶シリコンからなる前記(1)または(2)記載の比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板、
(6)バラツキが5%以内にある比抵抗値を有する円板状シリコン電極要素板および単数または複数のリング状シリコン電極要素板を用意し、前記円板状シリコン電極要素板を中心部とし、前記円板状シリコン電極要素板の周囲に単数または複数のリング状シリコン電極要素板を同心円状に嵌め込む比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板の製造方法、
(7)前記円板状シリコン電極要素板および単数または複数のリング状シリコン電極要素板は、10〜100Ω・cmの比抵抗値を有する前記(6)記載の比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板の製造方法、
(8)前記円板状シリコン電極要素板および単数または複数のリング状シリコン電極要素板は、単結晶シリコンからなる前記(6)または(7)記載の比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板の製造方法、
(9)前記円板状シリコン電極要素板および単数または複数のリング状シリコン電極要素板は、多結晶シリコンからなる前記(6)または(7)記載の比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板の製造方法、
(10)前記円板状シリコン電極要素板および単数または複数のリング状シリコン電極要素板は、柱状晶シリコンからなる前記(6)または(7)記載の比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板の製造方法、に特徴を有するものである。
円板状シリコン電極要素板11は図1(a)の断面図に示されるように外周面は円錐状傾斜面15を有している。さらに、この円板状シリコン電極要素板11が嵌合する中間リング状シリコン電極要素板12の内周面および外周面は、図1(b)に示されるように、共に円錐状傾斜面15を有している。さらに前記中間リング状シリコン電極要素板12が嵌合する最外周リング状シリコン電極要素板13の内周面は、図1(c)に示されるように、円錐状傾斜面15を有している。
大外径:120mm、小外径:118mmの寸法を有し上面から下面に向かって傾斜している外周面を有し、比抵抗値:36.0Ω・cmを有する単結晶シリコンからなる円板状シリコン電極要素板を用意し、
さらに大外径:180mm、小外径:178mmの寸法を有し上面から下面に向かって傾斜している外周面、並びに大内径:120mm、小内径:118mmを有し上面から下面に向かって傾斜している内周面を有し、比抵抗値:36.1Ω・cmを有する単結晶シリコンからなる中間シリコンリング中間リング状シリコン電極要素板を用意し、
さらに外径:300mmを有し、かつ大内径:180mm、小内径:178mmの寸法を有し内周面が上面から下面に向かって傾斜している内周面を有する比抵抗値:36.3Ω・cmを有する単結晶シリコンからなる最外周シリコンリングを用意した。
これらを円板状シリコン電極要素板、中間リング状シリコン電極要素板および最外周リング状シリコン電極要素板を嵌め込んで厚さ:5mmを有する複合シリコン素板を作製し、この複合シリコン素板に内径:0.5mmの貫通細孔を孔間ピッチ:8mmとなるようにダイヤモンドドリルを用いて加工し、本発明複合シリコン電極板1を作製した。この本発明複合シリコン電極板1の比抵抗値の面内バラツキは0.8%であった。
大外径:120mm、小外径:118mmの寸法を有し上面から下面に向かって傾斜している外周面を有し、比抵抗値:33.8Ω・cmを有する多結晶シリコンからなる円板状シリコン電極要素板を用意し、
さらに大外径:180mm、小外径:178mmの寸法を有し上面から下面に向かって傾斜している外周面、並びに大内径:120mm、小内径:118mmを有し上面から下面に向かって傾斜している内周面を有し、比抵抗値:34.3Ω・cmを有する多結晶シリコンからなる中間シリコンリング中間リング状シリコン電極要素板を用意し、
さらに外径:300mmを有し、かつ大内径:180mm、小内径:178mmの寸法を有する内周面が上面から下面に向かって傾斜している内周面を有する比抵抗値:34.1Ω・cmを有する多結晶シリコンからなる最外周シリコンリングを用意した。
これらを円板状シリコン電極要素板、中間リング状シリコン電極要素板および最外周リング状シリコン電極要素板を嵌め込んで厚さ:5mmを有する複合シリコン素板を作製し、この複合シリコン素板に内径:0.5mmの貫通細孔を孔間ピッチ:8mmとなるようにダイヤモンドドリルを用いて加工し、本発明複合シリコン電極板2を作製した。この本発明複合シリコン電極板2の比抵抗値の面内バラツキは1.5%であった。
大外径:120mm、小外径:118mmの寸法を有する上面から下面に向かって傾斜している外周面を有し、比抵抗値:34.0Ω・cmを有する柱状晶シリコンからなる円板状シリコン電極要素板を用意し、
さらに大外径:180mm、小外径:178mmの寸法を有し上面から下面に向かって傾斜している外周面、並びに大内径:120mm、小内径:118mmの寸法を有し上面から下面に向かって傾斜している内周面を有し、比抵抗値:33.5Ω・cmを有する柱状晶シリコンからなる中間シリコンリング中間リング状シリコン電極要素板を用意し、
さらに外径:300mmを有し、かつ大内径:180mm、小内径:178mmの寸法を有する内周面が上面から下面に向かって傾斜している内周面を有する比抵抗値:34.9Ω・cmを有する柱状晶シリコンからなる最外周シリコンリングを用意した。
これらを円板状シリコン電極要素板、中間リング状シリコン電極要素板および最外周リング状シリコン電極要素板を嵌め込んで厚さ:5mmを有する複合シリコン素板を作製し、この複合シリコン素板に内径:0.5mmの貫通細孔を孔間ピッチ:8mmとなるようにダイヤモンドドリルを用いて加工し、本発明複合シリコン電極板3を作製した。この本発明複合シリコン電極板3の比抵抗値の面内バラツキは4.0%であった。
大外径:120mm、小外径:118mmの寸法を有し上面から下面に向かって傾斜している外周面を有し、比抵抗値:34.5Ω・cmを有する単結晶シリコンからなる円板状シリコン電極要素板を用意し、
さらに大外径:180mm、小外径:178mmの寸法を有し上面から下面に向かって傾斜している外周面、並びに大内径:120mm、小内径:118mmを有し上面から下面に向かって傾斜している内周面を有し、比抵抗値:35.2Ω・cmを有する単結晶シリコンからなる中間シリコンリング中間リング状シリコン電極要素板を用意し、
さらに外径:300mmを有し、かつ大内径:180mm、小内径:178mmの寸法を有し内周面が上面から下面に向かって傾斜している内周面を有する比抵抗値:36.6Ω・cmを有する単結晶シリコンからなる最外周シリコンリングを用意した。
これらを円板状シリコン電極要素板、中間リング状シリコン電極要素板および最外周リング状シリコン電極要素板を嵌め込んで厚さ:5mmを有する複合シリコン素板を作製し、この複合シリコン素板に内径:0.5mmの貫通細孔を孔間ピッチ:8mmとなるようにダイヤモンドドリルを用いて加工し、本発明複合シリコン電極板1を作製した。この比較複合シリコン電極板1の比抵抗値の面内バラツキは5.73%であった。
通常の単結晶シリコンインゴットを輪切りにして外径:300mm、厚さ:5mmの寸法を有する円板を作製し、この円板に内径:0.5mmの貫通細孔を孔間ピッチ:8mmとなるようにダイヤモンドドリルを用いて加工し、従来シリコン電極板1を作製した。この従来シリコン電極板の比抵抗値の面内バラツキは10%であった。
チャンバー内圧力:10-1Torr、
エッチングガス組成:90sccmCHF3 +4sccmO2 +150sccmHe、
高周波電力:2kW、
周波数:20kHz、
の条件で、ウエハ表面のSiO2 層のプラズマエッチングを行ない、エッチング開始から10分間経過した時点および200時間経過した時点でのウエハ表面のSiO2 層の最大エッチングの深さAおよび最小エッチングの深さBをそれぞれ測定し、その測定値から(A−B)/A×100(%)の値を求め、その結果を表1に示してウエハ表面のエッチング均一性を評価した。
Claims (10)
- バラツキが5%以内にある比抵抗値を有する円板状シリコン電極素板および単数または複数のリング状シリコン電極素板を、前記円板状シリコン電極素板を中心部とし、前記円板状シリコン電極素板の周囲に単数または複数のリング状シリコン電極素板を同心円状に嵌め込んでなることを特徴とする比抵抗値の面内バラツキが小さい複合シリコン電極板。
- 前記円板状シリコン電極素板および単数または複数のリング状シリコン電極素板は、10〜100Ω・cmの比抵抗値を有することを特徴とする請求項1記載の比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板。
- 前記円板状シリコン電極素板および単数または複数のリング状シリコン電極素板は、単結晶シリコンからなることを特徴とする請求項1または2記載の比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板。
- 前記円板状シリコン電極素板および単数または複数のリング状シリコン電極素板は、多結晶シリコンからなることを特徴とする請求項1または2記載の比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板。
- 前記円板状シリコン電極素板および単数または複数のリング状シリコン電極素板は、柱状晶シリコンからなることを特徴とする請求項1または2記載の比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板。
- バラツキが5%以内にある比抵抗値を有する円板状シリコン電極素板および単数または複数のリング状シリコン電極素板を用意し、前記円板状シリコン電極素板を中心部とし、前記円板状シリコン電極素板の周囲に単数または複数のリング状シリコン電極素板を同心円状に嵌め込むことを特徴とする比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板の製造方法。
- 前記円板状シリコン電極素板および単数または複数のリング状シリコン電極素板は、10〜100Ω・cmの比抵抗値を有することを特徴とする請求項6記載の比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板の製造方法。
- 前記円板状シリコン電極素板および単数または複数のリング状シリコン電極素板は、単結晶シリコンからなることを特徴とする請求項6または7記載の比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板の製造方法。
- 前記円板状シリコン電極素板および単数または複数のリング状シリコン電極素板は、多結晶シリコンからなることを特徴とする請求項6または7記載の比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板の製造方法。
- 前記円板状シリコン電極素板および単数または複数のリング状シリコン電極素板は、柱状晶シリコンからなることを特徴とする請求項6または7記載の比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP4849247B2 JP4849247B2 (ja) | 2012-01-11 |
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JP2006346046A Active JP4849247B2 (ja) | 2006-12-22 | 2006-12-22 | 比抵抗値の面内バラツキの小さい複合シリコン電極およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008251639A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Mitsubishi Materials Corp | プラズマエッチング用フォーカスリングおよびシールドリング |
JP2012160571A (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-23 | Mitsubishi Materials Corp | プラズマエッチング用シリコン電極板 |
WO2015025463A1 (ja) * | 2013-08-21 | 2015-02-26 | 信越半導体株式会社 | シリコン単結晶材料の製造方法及びシリコン単結晶材料 |
JP2015191970A (ja) * | 2014-03-27 | 2015-11-02 | 三菱マテリアル株式会社 | プラズマ処理装置用電極板及びその製造方法 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06283469A (ja) * | 1993-03-25 | 1994-10-07 | Toshiba Ceramics Co Ltd | エッチング用電極板 |
JPH1017393A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-20 | Nisshinbo Ind Inc | プラズマエッチング電極及びその製造方法 |
JPH1116888A (ja) * | 1997-06-24 | 1999-01-22 | Hitachi Ltd | エッチング装置及びその運転方法 |
JP2000286244A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Techno Quartz Kk | 構成部材の接合構造およびその接合方法並びに半導体製造装置用部材 |
JP2004315289A (ja) * | 2003-04-16 | 2004-11-11 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 単結晶の製造方法 |
WO2006088697A2 (en) * | 2005-02-15 | 2006-08-24 | Lam Research Corporation | Methods of making gas distribution members for plasma processing apparatuses |
JP2007158007A (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Mitsubishi Materials Corp | 比抵抗値の面内バラツキが少ないプラズマエッチング用単結晶シリコン電極板 |
JP2007273707A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Mitsubishi Materials Corp | ウエハとほぼ同じ寸法のシリコン電極板を用いてウエハ表面を均一にプラズマエッチングする方法。 |
-
2006
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Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH06283469A (ja) * | 1993-03-25 | 1994-10-07 | Toshiba Ceramics Co Ltd | エッチング用電極板 |
JPH1017393A (ja) * | 1996-06-28 | 1998-01-20 | Nisshinbo Ind Inc | プラズマエッチング電極及びその製造方法 |
JPH1116888A (ja) * | 1997-06-24 | 1999-01-22 | Hitachi Ltd | エッチング装置及びその運転方法 |
JP2000286244A (ja) * | 1999-03-31 | 2000-10-13 | Techno Quartz Kk | 構成部材の接合構造およびその接合方法並びに半導体製造装置用部材 |
JP2004315289A (ja) * | 2003-04-16 | 2004-11-11 | Shin Etsu Handotai Co Ltd | 単結晶の製造方法 |
WO2006088697A2 (en) * | 2005-02-15 | 2006-08-24 | Lam Research Corporation | Methods of making gas distribution members for plasma processing apparatuses |
JP2008537628A (ja) * | 2005-02-15 | 2008-09-18 | ラム リサーチ コーポレーション | プラズマ処理装置用ガス分配部材を製造する方法 |
JP2007158007A (ja) * | 2005-12-05 | 2007-06-21 | Mitsubishi Materials Corp | 比抵抗値の面内バラツキが少ないプラズマエッチング用単結晶シリコン電極板 |
JP2007273707A (ja) * | 2006-03-31 | 2007-10-18 | Mitsubishi Materials Corp | ウエハとほぼ同じ寸法のシリコン電極板を用いてウエハ表面を均一にプラズマエッチングする方法。 |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008251639A (ja) * | 2007-03-29 | 2008-10-16 | Mitsubishi Materials Corp | プラズマエッチング用フォーカスリングおよびシールドリング |
JP2012160571A (ja) * | 2011-01-31 | 2012-08-23 | Mitsubishi Materials Corp | プラズマエッチング用シリコン電極板 |
WO2015025463A1 (ja) * | 2013-08-21 | 2015-02-26 | 信越半導体株式会社 | シリコン単結晶材料の製造方法及びシリコン単結晶材料 |
JP2015040142A (ja) * | 2013-08-21 | 2015-03-02 | 信越半導体株式会社 | シリコン単結晶材料の製造方法及びシリコン単結晶材料 |
JP2015191970A (ja) * | 2014-03-27 | 2015-11-02 | 三菱マテリアル株式会社 | プラズマ処理装置用電極板及びその製造方法 |
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Publication number | Publication date |
---|---|
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