JP2008156742A - 導電性耐食材料及びその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】チタン(Ti)、硼素(B)、及び窒素(N)を、それぞれ0.05≦[Ti]≦0.40、0.20≦[B]≦0.40、0.35≦[N]≦0.55という原子比(ただし[Ti]+[B]+[N]=1)で含有する導電性耐食材料3である。また、少なくとも表面がチタン又はチタン合金からなる基材2の表面に、窒化硼素粉末を付着させ、加熱する導電性耐食材料3の製造方法である。また、少なくとも表面がチタン又はチタン合金からなる基板2の表面をホウ化し、加熱する導電性耐食材料3の製造方法である。さらに、金属基板2にTiB2粉末を溶射してTiB2粒子からなるTiB2層を形成し、該TiB2層を窒化する導電性耐食材料3の製造方法である。
【選択図】図4
Description
例えば固体高分子電解質型の燃料電池は、図1に示すような単セル構造9を有している。同図に示すごとく、単セル構造9においては、固体高分子電解質膜91を挟むように正極92及び負極93が積層形成されており、さらに、正極92、固体高分子電解質膜91、及び負極93の積層体を挟むように、1対のセパレータ94、95が積層形成されている。セパレータ94、95には、それぞれ酸素ガス(空気)供給通路用の溝96、及び水素ガス供給通路用の溝97が形成されている。燃料電池は、通常、このような単セル構造9が複数積層されて構成されている。
また、燃料電池のセパレータ94、95は、負極93において発生する水素イオンや、正極92側に供給される酸素に曝される。これらの水素イオンや酸素によりセパレータ94、95が腐食すると導電性が低下して燃料電池の内部抵抗が増大するおそれがある。そのため、セパレータ94、95には、水素イオンや酸素に対して優れた耐腐食性を有することが要求される。
即ち、例えば表面に貴金属めっきが施されたステンレス鋼、チタン、又はチタン合金の薄板からなるセパレータがある(特許文献1参照)。
また、Ti等からなる金属材料層と、該金属材料層を覆うTi、Ti合金等の窒化物からなる保護層とを備えたセパレータがある(特許文献2参照)。
また、チタン基材の製造中にAlB12等の硼素源を添加してTiB系硼化物粒子を析出させて作製したセパレータ用チタン系材料がある(特許文献3参照)。
また、特許文献2に記載のセパレータは、耐腐食性が不十分であり、水素イオン等によって比較的容易に腐食して接触抵抗が増大しまうおそれがある。
また、特許文献3に記載のセパレータ用チタン系材料は、TiB系硼化物が分散された基材からなるが、かかる基材は圧延性及び成形性に問題がある。そのため、薄板材を作製することが困難であったり、セパレータ形状に成形することが困難になる。また、成形時又は燃料電池の運転中にTiB系硼化物が基材から脱離し易く、その脱離部分から腐食が進行するおそれがある。また、圧延性及び成形性を向上させるために硼化物の量を減らすこともできるが、この場合には、表面に露出する硼化物が少なくなり、導電性を有する部分と他部材との接触面積が小さくなるおそれがある。その結果、接触抵抗が増加するおそれがある。
チタン(Ti)、硼素(B)、及び窒素(N)を、それぞれ0.05≦[Ti]≦0.40、0.20≦[B]≦0.40、0.35≦[N]≦0.55という原子比(ただし[Ti]+[B]+[N]=1)で含有することを特徴とする導電性耐食材料にある(請求項1)。
少なくとも表面がチタン又はチタン合金からなる基材の表面に窒化硼素粉末を付着させる付着工程と、
上記窒化硼素粉末が付着した上記基材を非酸化性ガス雰囲気下又は真空中で温度500℃〜1650℃で加熱することにより、上記基材上に皮膜状の上記導電性耐食材料を形成する加熱工程とを有することを特徴とする導電性耐食材料の製造方法にある(請求項4)。
上記付着工程においては、上記基材の表面に窒化硼素粉末を付着させる。上記加熱工程においては、上記窒化硼素粉末が表面に付着した上記基材を上記特定の条件で加熱する。その結果、上記基材上に皮膜状の上記導電性耐食材料を形成することができる。
上記基材上に形成された上記導電性耐食材料は、導電性に優れると共に耐腐食性にも優れている。そのため、上記導電性耐食材料が表面に形成された上記基材は、接触抵抗が小さく、例えば燃料電池用の金属セパレータ等に好適であり、燃料電池の内部抵抗を小さくすることができる。また、上記導電性耐食材料は耐腐食性に優れているため、上記導電性耐食材料が表面に形成された上記基材を燃料電池用のセパレータとして用いると、燃料電池に供給される酸(水素イオン)や酸素等によって腐食され難くなる。そのため、腐食によって接触抵抗が増大することを防止することができる。このように、上記導電性耐食材料が表面に形成された上記基材は、燃料電池用金属セパレータ等に好適であり、該燃料電池用金属セパレータを実装した燃料電池は、長期間安定した性能を発揮することができる。
少なくとも表面がチタン又はチタン合金からなる基板の表面をホウ化することにより、上記基板の表面に、少なくともTiとBとを含有するTi硼化物層を形成するホウ化工程と、
上記Ti硼化物層を窒化することにより、上記基板上に皮膜状の上記導電性耐食材料を形成する窒化工程とを有することを特徴とする導電性耐食材料の製造方法にある(請求項12)。
上記ホウ化工程においては、少なくとも表面がチタン又はチタン合金からなる上記基板の表面をホウ化する。これにより、上記基板の表面に少なくともTiとBとを含有する上記Ti硼化物層を形成することができる。
また、上記窒化工程においては、上記基板上に形成された上記Ti硼化物層を窒化する。これにより、上記基板上に皮膜状の上記導電性耐食材料を形成することができる。
金属基板の表面の少なくとも一部にTiB2粉末を溶射することにより、TiB2粒子からなるTiB2層を形成する溶射工程と、
上記TiB2層を窒化することにより、上記金属基板上に皮膜状の上記導電性耐食材料を形成する窒化工程とを有することを特徴とする導電性耐食材料の製造方法にある(請求項18)。
上記溶射工程においては、上記金属基板の表面の少なくとも一部に、TiB2粉末を溶射する。上記窒化工程においては、上記金属基板の表面に溶射された上記TiB2粒子を窒化する。これにより、上記金属基板上に皮膜状の上記導電性耐食材料を形成することができる。
また、上記導電性材料が優れた導電性を有する理由としては、少なくともTiとBとNとからなる上記導電性耐食材料は、伝導帯に電子が存在しうる結晶構造をとるためであると考えられる。
第1の発明の導電性耐食材料は、チタン(Ti)、硼素(B)、及び窒素(N)を、それぞれ0.05≦[Ti]≦0.40、0.20≦[B]≦0.40、0.35≦[N]≦0.55という原子比(ただし[Ti]+[B]+[N]=1)で含有する。Ti、B、Nの各元素の原子比が上記の範囲から外れる場合には、上記導電性耐食材料の導電性や耐腐食性が低下するおそれがある。
この場合には、例えば上記第2〜第4の発明によって、上記導電性耐食材料を簡単に作製することができる。また、この場合には、導電性及び耐腐食性に優れた上記導電性耐食材料が表面に形成された上記基材を燃料電池用の金属セパレータ等に用いることができ、上記導電性耐食材料が有する優れた特性を十分に発揮させることができる。
この場合には、導電性及び耐腐食性に優れるという上記導電性耐食材料の優れた特徴を十分に生かすことができる。
上記第2の発明の製造方法においては、上記付着工程と上記加熱工程とを行うことにより、上記導電性耐食材料を作製する。
まず、上記付着工程においては、上記基材の表面に窒化硼素粉末を付着させる。
上記基材は、少なくともその表面がチタン又はチタン合金からなる。具体的には、例えばチタン、チタン合金、又はTi−SUSクラッド材からなる基材を用いることができる。また、ステンレス鋼、又はアルミニウム等の金属板の表面にチタン又はチタン合金がコーティングされた基材を用いることもできる。
また、上記付着工程及び上記加熱工程後に得られる上記導電性耐食材料が形成された基材にプレス加工等の塑性加工を施すことによって、上記溝を形成することもできる。
上記窒化硼素粉末の粒径が0.05μm未満の場合には、粉末の作製コストが高くなるおそれがある。一方、100μmを越える場合には、上記窒化硼素粉末を上記基材の表面に均一に付着させることが困難になるおそれがある。そのため、上記基材上に均一な厚みで皮膜状の上記導電性耐食材料を形成することが困難になるおそれがある。
上記窒化硼素粉末の粒径は、例えば走査型電子顕微鏡観察等によって測定できる。
この場合には、上記基材に上記窒化硼素粉末を簡単に付着させることができる。
上記溶媒としては、上記窒化硼素粉末を変質させず、かつ上記乾燥工程において容易に気化させることができる有機溶媒等を用いることができる。上記塗布工程における塗布方法としては、例えばスプレー等により吹き付ける方法がある。その他にも、ハケ等により塗布する方法や、印刷、上記窒化硼素分散液に上記基材を浸漬する方法等がある。
即ち、上記窒化硼素粉末に正又は負の静電気を帯電させ、該窒化硼素粉末とは正負が反対の静電気を基材に帯電させる。そして、例えば上記窒化硼素粉末を気流中に分散させ、分散した上記窒化硼素粉末を上記基材上に静電気力により付着させることができる。
また、上記第2の発明においては、上記乾燥工程を行わずに上記塗布工程に続いて上記加熱工程を行うこともできる。
上記加熱温度が500℃未満の場合には、上記導電性耐食材料の生成が不十分になるか、ほとんどなくなってしまうおそれがある。また、この場合には、基材と上記導電性耐食材料からなる上記皮膜との密着性が不十分になるおそれがある。一方1650℃を越える場合には、チタンの融点(約1670℃)に近くなり、上記基材の表面又は上記基材全体が変形してしまうおそれがある。上記加熱温度の上限は、上記基材に用いられる材料に依存し、その融点よりも低い温度で決定できる。
この場合には、上記導電性耐食材料の生成量を短時間で充分に確保することができると共に、基材の変形を最小限に抑えることができる。そのため、製造コストの増加を抑制することができる。加熱温度が700℃未満の場合には、充分量の上記導電性耐食材料を生成するための加熱時間が長くなり、製造コストが増大してしまうおそれがある。一方、1100℃を越える場合には、使用する基材によっては液相が生成して上記基材が大きく変形するおそれがある。加熱温度の上限は、上記基材の材質に依存し、その融点よりも低い温度で決定される。より好ましくは、上記加熱工程の加熱温度は、工業的に設定が容易な800〜1000℃がよい。
また、上記加熱工程後の上記基材を窒素気流中で加熱することが好ましい(請求項9)。
これらの場合には、上記窒化工程におけるガス窒化によって、N元素を補うことができる。そのため、上記導電性耐食材料の化学的安定性が向上し、耐腐食性をより向上させることができる。また、窒素ガスを用いた場合には、ガスの取り扱いが容易になるため、より簡便に窒化を行うことができる。
上記加熱温度が700℃未満の場合には、N元素を短時間で十分に補うことができず、処理時間が長くなり、製造コストの増大につながるおそれがある。一方、1100℃を越える場合には、使用する基材によっては、液相が生成して上記基材が大きく変形するおそれがある。上記加熱温度の上限は、上記基材の材質に依存し、その融点よりも低い温度で決定される。より好ましくは、上記窒化工程における加熱温度は、工業的に設定が容易な800℃〜1000℃がよい。
この場合には、導電性及び耐腐食性に優れた導電性耐食材料が表面に形成された上記基材の特徴を十分に生かすことができる。
本発明の製造方法においては、上記ホウ化工程と上記窒化工程とを行うことにより、上記導電性耐食材料を作製する。
まず、上記ホウ化工程においては、少なくとも表面がチタン又はチタン合金からなる基板の表面をホウ化する。これにより、上記基板上に例えばTiB2及び/又はTiB等からなるTi硼化物層を形成する。
上記基板としては、具体的には、例えばチタン、チタン合金、又はTi−SUSクラッド材等からなる基板を用いることができる。また、ステンレス鋼、又はアルミニウム等の金属板の表面にチタン又はチタン合金がコーティングされた基板を用いることもできる。
この場合には、上記基板の表面を簡単かつ迅速にホウ化させることができる。また、上記Ti硼化物層を均一に形成することができる。さらに、溶融塩電解法においては、揮発性で取り扱いが困難なジボラン等の硼素化合物を使用することなくホウ化を行うことができるため、安全にホウ化工程を行うことができる。
上記溶融塩電解法においては、具体的には、例えば上記硼化物系溶融塩浴中に上記基板を浸漬し、該溶融塩浴中で上記基板を電極として電解を行うことによって、上記基板の表面をホウ化させることができる。上記硼化物系溶融塩としては、例えばB2O3、ホウ砂、及び炭化硼素等を用いることができる。
さらに、上記窒化工程においては、上記Tiホウ化物層が形成された上記基板を窒素気流中で加熱することが好ましい(請求項15)。
これらの場合には、上記Tiホウ化物層の窒化を行うことができる。また、窒素ガスを用いた場合には、ガスの取り扱いが容易になるため、より簡便に窒化を行うことができる。
上記加熱温度が700℃未満の場合には、窒化が進行し難くなり、上記導電性耐食材料の生成が不十分になるおそれがある。一方1100℃を越える場合には、使用する基材の材質によっては液相が生成して、上記基板の表面又は上記基板全体が変形してしまうおそれがある。上記加熱温度の上限は、上記基板に用いられる材料に依存し、その融点よりも低い温度で決定できる。より好ましくは、上記窒化工程の加熱温度は工業的に設定が容易な800℃〜1000℃がよい。
この場合には、上記ホウ化工程及び上記窒化工程を行って形成される皮膜状の上記導電性耐食材料において、Tiが安定な4価に近い状態になりやすくなる。そのため、導電性を維持しつつ耐腐食性をより向上させることができる。
この場合には、導電性及び耐腐食性に優れた導電性耐食材料が表面に形成された上記基板の特徴を十分に生かすことができる。
上記第4の発明の製造方法においては、上記溶射工程と上記窒化工程とを行うことにより、上記導電性耐食材料を作製する。
まず、上記溶射工程においては、上記金属基板の表面の少なくとも一部にTiB2粉末を溶射する。これにより、上記金属基板上にTiB2粒子からなるTiB2層を形成する。
上記金属基板としては、具体的には、例えばチタン、チタン合金、Ti−SUSクラッド材、ステンレス鋼、アルミニウム、及びアルミニウム合金等からなる各種金属基板を用いることもできる。
さらに、上記窒化工程においては、上記TiB2層が形成された上記金属基板を窒素気流中で加熱することが好ましい(請求項20)。
これらの場合には、簡単に上記TiB2層の窒化を行うことができる。また、連続的に窒化を行うことにより生産性が向上するという効果を得ることができる。また、窒素ガスを用いた場合には、ガスの取り扱いが容易になるため、より簡便に窒化を行うことができる。
上記加熱温度が700℃未満の場合には、窒化が進行し難くなり、上記導電性耐食材料の生成が不十分になるおそれがある。また、1100℃を越える場合には、含有する元素によって液相が生成して上記金属基板が大きく変形するおそれがある。上記加熱温度の上限は、上記基板に用いられる材料に依存し、その融点よりも低い温度で決定できる。より好ましくは、工業的に設定が容易な800℃〜1000℃がよい。
この場合には、導電性及び耐腐食性に優れた導電性耐食材料が表面に形成された上記金属基板の特徴を十分に生かすことができる。
次に、本発明の実施例について、図2〜図14を用いて説明する。
本例においては、基板上に形成された導電性耐食材料を作製する例である。即ち、表面に皮膜状の導電性耐食材料が形成された基材を作製し、その耐腐食性及び導電性を評価する。本例において作製する導電性耐食材料が形成された基材は、燃料電池用金属セパレータとして用いられるものである。金属セパレータは、通常その表面に酸素ガス(空気)又は水素ガス等の通路となる溝が形成されている(図1参照)が、本例においては、耐腐食性及び導電性の評価の便宜のため、図4に示すごとく、溝が形成されていない板状の基材2上に導電性耐食材料3を作製する。
本例においては、付着工程と加熱工程とを行うことにより、図4に示すごとく、基材2の表面に皮膜状の導電性耐食材料3を形成する。
付着工程においては、基材2の表面に窒化硼素粉末31を付着させる(図2及び図3参照)。また、加熱工程においては、窒化硼素粉末31が付着した基材2を非酸化性ガス雰囲気下又は真空中で温度500℃〜1650℃で加熱する。これにより、基材2上に皮膜状の導電性耐食材料3を形成する(図4参照)。
まず、チタンからなる板状の基材2を準備した(図2参照)。
また、平均粒径10μmの窒化硼素粉末、及びノルマルヘキサン60wt%とイソプロパノール(IPA)40wt%との混合溶媒を準備した。
次に、混合溶媒80重量部に対して、窒化硼素粉末を20重量部添加して混合し、窒化硼素分散液を作製した。この窒化硼素分散液を基材2の表面にスプレーにより塗布した(塗布工程)。その後、基材を温度80℃の恒温炉内で乾燥させることにより、図3に示すごとく、窒化硼素粉末31を基材2の表面に付着させた(乾燥工程)。この窒化硼素粉末31が付着した基材2を試料C1とする。
具体的には、試料E2は、加熱工程において、窒化硼素粉末が付着した基材(試料C1)を温度1000℃で20分間加熱して作製した。
試料E3は、加熱工程において、窒化硼素粉末が付着した基材(試料C1)を温度900℃で20分間加熱して作製した。
試料E4は、加熱工程において、窒化硼素粉末が付着した基材(試料C1)を温度850℃で20分間加熱して作製した。
各測定サンプル(試料E2、試料E3、及び試料E4)の腐食試験は、図8及び図9に示す腐食電流測定装置4を用いて行った。
同図に示すごとく、腐食電流測定装置4は、第1本体部41と第2本体部42と有する。各測定サンプル1は第1本体部41と第2本体部42との間に狭装される。第1本体部41は、断面が略凸形状であり、その突出部分の上端から下端を貫く円筒状の空洞部421(内寸直径:34mm、長さ:30mm)を有している。また、空洞部421の上端には、蓋部43が取り付けられている。
腐食試験においては、まず、第1本体部41と第2本体部42との間に各測定サンプル1を狭装した。これにより、第1本体部41の空洞部421の内壁と測定サンプル1とによってコップ状の測定セル425が形成される。次いで、蓋部43を開け、測定セル425内に電解液を注入し、さらにこの電解液中に棒状の白金参照極45と円盤状の白金対電極44とを配置した。なお、電解液は、希硫酸(pH4)にCl-を10ppm及びF-を5ppm添加して作製した。
次に、恒温手段(図示略)により電解液の温度を80℃に調整し、対電極44と測定サンプル1間に0.26Vの電圧を印加した。そして電圧の印加を開始してから100時間までの電流(腐食電流)を測定した。得られた腐食電流値を測定サンプルにおける電解液との接触面積で除することにより、腐食電流密度(μAcm-2)を算出した。電圧印加時間(腐食時間)と腐食電流密度との関係を図10〜図12に示す。なお、図10は、試料E2の結果を示し、図11は、試料E3の結果を示し、図12は、試料E4の結果を示す。
(接触抵抗測定試験)
まず、図13に示すごとく、各測定サンプル1とカーボンペーパー5とを積層状態で2枚の金メッキ銅板61、62間に挟み込んだ。次いで、定電流DC電源7により、金メッキ銅板61、62間に1Aの定常電流を流し、さらにロードセル(図示略)により、2枚の金メッキ銅板61、62間に空気圧1.47MPaの荷重Fを負荷した。そして、荷重Fの負荷を開始してから60秒後における電位差Vを測定した。この電位差Vから電気抵抗値を算出し、これを接触抵抗値とした。
試料E3及び試料E4については、それぞれ、腐食試験を行っていないサンプル、腐食試験を50時間行ったサンプル、及び100時間行ったサンプルについて、接触抵抗を測定した。
これらの結果を図14に示す。
この試料C2については、腐食試験を行っていないサンプル、又は腐食試験を100時間行ったサンプルについて、接触抵抗を測定した。
試料C3については、腐食試験を行っていないサンプル、又は腐食試験を25時間行ったサンプルについて、接触抵抗を測定した。
試料C4については、腐食試験を行っていないサンプル、又は腐食試験を100時間行ったサンプルについて、接触抵抗を測定した。
以上の結果(試料C2〜試料C4)を図14に示す。
これに対し、試料E2、試料E3、及び試料E4は、100時間の腐食試験後においても100mΩcm2以下という非常に低い接触抵抗値を示した。また、100時間程度で、接触抵抗の上昇率が非常に小さくなっており、試料E2、試料E3、及び試料E4は、安定して低い接触抵抗値を示すことがわかる。
本例は、実施例1と同様にして基材上に皮膜状の導電性耐食材料を形成し、該導電性耐食材料についてX線回折測定を行う例である。
まず、実施例1と同様にして、基材上に導電性耐食材料を形成した。
具体的には、まず、基材として厚さ0.6mmのTi板(JIS1種)を準備した。
次に、実施例1と同様にして、ノルマルヘキサンとイソプロパノールとの混合溶媒を作製し、さらにこの混合溶媒重80重量部に対して、窒化硼素粉末を20重量部添加して混合し、窒化硼素分散液を作製した。窒化硼素粉末は、六方晶の結晶構造を有する窒化硼素(h−BN)からなるものを用いた。この窒化硼素分散液を基材の表面にスプレーにより塗布し(塗布工程)、その後、基材を温度80℃の恒温炉内で数分間乾燥させた(乾燥工程)。次いで、窒化硼素粉末が付着した基材を高純度Ar気流中で温度1000℃で2時間加熱した(加熱工程)。その後、水及びアセトンで洗浄することにより、表面に付着した不純物を除去した。このようにして表面に導電性耐食材料からなる皮膜が形成された基材を得た。これを試料E5とする。
具体的には、試料E6は、加熱工程において、窒化硼素粉末が付着した基材を温度900℃で2時間加熱して作製した。
試料E7は、加熱工程において、窒化硼素粉末が付着した基材(試料C1)を温度800℃で2時間加熱して作製した。
本例は、Ti系粉末と窒化硼素粉末とを用いて粉末状の導電性耐食材料を作製する例である。本例においては、混合工程(付着工程)と加熱工程とを行うことにより、導電性耐食材料を作製する。
混合工程においては、少なくともTiを含有するTi系粉末と、窒化硼素粉末とを混合して混合粉末を作製する。この混合工程においては、基材(Ti系粉末)の表面に窒化硼素粉末を付着させることができる。そのため、混合工程は、実施例1及び実施例2における付着工程に相当する。また、加熱工程においては、混合粉末を非酸化性ガス雰囲気下で温度500℃〜1650℃で加熱することにより、導電性耐食材料を得る。
次に、混合粉末をAr気流中で温度1000℃で2時間加熱した(加熱工程)。このようにして、粉末状の導電性耐食材料を得た。これを試料E8とする。
さらに、実施例1の試料E1〜試料E4、及び実施例2の試料E5〜試料E7と同様に、試料E8は、2θ=29.1±0.1°、41.7±0.1°、42.2±0.1°にそれぞれピークを示し、2θ=46.4±0.1°、48.9±0.1°には回折ピークを示さなかった。よって、試料E8は、2θ=29.1±0.1°、41.7±0.1°、42.2±0.1°、46.4±0.1°、48.9±0.1°にピークを示すTiBではないと考えられる。
一般に、X線回折線においては、結晶の配向によってピーク強度が変化し、ピークが消失したかのようにみえる場合がある。しかし、本例においては、粉末状の導電性耐食材料を作製し、この粉末試料(試料E8)についてXRD測定を行っている。そのため、試料E8におけるX線回折のピーク強度は、配向の影響をほとんどうけない。このことは、試料E8のX線回折パターン(図22〜図24参照)におけるα−Ti由来のピークがASTM(米国材料試験協会;American Society for Testing and Materials)に登録されているα−Ti粉末のX線回折パターン(図示略)と非常に近い強度比になっていることからわかる。
本例においては、図25に示すごとく、ホウ化工程と、窒化工程とを行うことにより、基板2上に皮膜状の導電性耐食材料3を作製する。
図25(c)に示すごとく、本例においては少なくともチタン、硼素、及び窒素を含有する導電性耐食材料3が形成されたチタン又はチタン合金からなる基板2を作製する。この基板2は、例えば燃料電池用金属セパレータとして用いることができる。
窒化工程においては、図25(b)及び(c)に示すごとく、Ti硼化物層21を窒化する。これにより、基板2の表面に皮膜状の導電性耐食材料3を形成する。
まず、図25(a)に示すごとく、基板2として、厚さ0.6mmのTi板(JIS1種)を準備した。
次に、K2O10wt%とB2O390wt%とからなる混合溶融塩を準備した。この混合溶融塩は、温度950℃〜1000℃に調整されている。この混合溶融塩中に上記基板2を浸漬すると共に、混合溶融塩中で基板2を陰極とし、φ13mmの黒鉛棒を正極として10分間電解を行った(ホウ化工程)。なお、電解時の電流密度は、約0.1A/cm2とした。
これにより、図1(b)に示すごとく、基板2の表面がホウ化されて、基板2の表面に、少なくともTiとBとを含有するTi硼化物層21を形成した。このTi硼化物層21は、TiB2及びTiB等からなると考えられる。
次いで、基板に付着した溶融塩を温水で溶解洗浄した。
これにより、図25(b)及び(c)に示すごとく、基板2上に形成されたTiホウ化物層21が窒化され、基板2の表面に、少なくともチタン、硼素、及び窒素を含有する皮膜状の導電性耐食材料3を形成した。このようにして作製した導電性耐食材料3が形成された基板2を試料E9とする。
試料E10は、Ti板の代わりに、Ti合金板を用いた点を除いては、上記試料E1と同様にして作製した。Ti合金板としては、Tiを約90質量%、Alを6質量%、及びVを4質量%含有する厚さ0.6mmの合金板を用いた。
まず、試料E9の比較用として、3種類の基板(試料C5〜試料C7)を作製した。
試料C5は、厚さ0.6mmのチタン板(JIS1種)である。これは、試料E9の作製に用いた基板と同様のチタン板である。
その作製にあたっては、まず、試料E9と同様のJIS1種のチタン板を準備した。次いで、このチタン板を加熱炉内に配置し、上記窒化工程と同様に、窒素ガス気流(流速0.5L/min)中で温度1000℃で2時間加熱した。このようにして、チタン板の表面を窒化してなる基板(試料C6)を得た。試料C6においては、チタン板の表面が窒化されて、表面にTiNからなる層が形成されていると考えられる。
その作製にあたっては、まず、試料E9と同様のJIS1種のチタン板を準備した。次いで、上記ホウ化工程と同様にして、K2O10wt%とB2O390wt%とからなる混合溶融塩(温度950〜1000℃)中にチタン板を浸漬し、混合溶融塩中で、チタン板を陰極とし、φ13mmの黒鉛棒を正極として用いて10分間電解(電流密度約0.1A/cm2)を行った。このようにして、チタン板の表面をホウ化してなる基板(試料C7)を得た。試料C7においては、チタン板の表面がホウ化されて、表面にTiB2及び又はTiBからなる層が形成されていると考えられる。
試料C8は、厚さ0.6mmのTi合金板である。これは、Tiを約90質量%、Alを6質量%、及びVを4質量%を含有する、試料E10の作製に用いた基板と同様の合金板である。
その作製にあたっては、まず、試料E10と同様のTi合金板を準備した。次いで、このTi合金板を加熱炉内に配置し、上記窒化工程と同様に、窒素ガス気流(流速0.5L/min)中で温度1000℃で2時間加熱した。このようにして、チタン合金板の表面を窒化してなる基板(試料C9)を得た。試料C9においては、チタン合金板の表面が窒化されて、表面にTiNからなる層が形成されていると考えられる。
その作製にあたっては、まず、試料E10と同様のチタン合金板を準備した。次いで、上記ホウ化工程と同様にして、K2O10wt%とB2O390wt%とからなる混合溶融塩(温度950〜1000℃)中にチタン合金板を浸漬し、混合溶融塩中で、チタン合金板を陰極とし、φ13mmの黒鉛棒を正極として用いて10分間電解(電流密度約0.1A/cm2)を行った。このようにして、チタン合金板の表面をホウ化してなる基板(試料C10)を得た。試料C10においては、チタン合金板の表面がホウ化されて、表面にTiB2及び又はTiBからなる層が形成されていると考えられる。
そして、腐食試験前後の測定サンプル(試料E1、試料E2,及び試料C1〜試料C6)について、導電性の変化を調べるために、実施例1と同様の接触抵抗測定試験を行った。
その結果を図26及び図27に示す。
さらに、試料E9、試料E10、試料C5〜C7については、それぞれ腐食試験を行っていないサンプル、腐食試験を50時間、100時間、及び200時間行ったサンプルについて、接触抵抗を測定し、その経時変化を調べた。その結果を図28に示す。
図28は、片対数グラフであり、横軸は腐食時間(電圧印加時間)を示し、縦軸は接触抵抗を示す。
これに対し、試料E9は、図28に示すごとく、腐食試験が100時間に達した時点で、これ以降接触抵抗はほとんど増加していない。即ち、試料E9は、100時間でほぼ接触抵抗の増大はプラトーに達すると考えられる。
したがって、導電性耐食材料を有する試料E9は、試料C5〜C7に比べて、より耐腐食性に優れていることがわかる。
これに対し、試料E9及び試料E10においては、腐食試験100時間程度で接触抵抗はプラトーに達し、100時間以上行ってももはや接触抵抗はほとんど変化しなかった。
このように、試料E9及び試料E10は、導電性を示すと共に、優れた耐腐食性を示すことがわかる。
即ち、試料E9及び試料E10の表面に形成された導電性耐食材料は、TiとBとNとを含有しており、この導電性耐食材料においては、周期律表からも予想されるように、Tiが安定な4価に近い状態として存在できるため、上記のごとく、導電性を維持しつつと共に耐腐食性が向上すると考えられる。
そのため、試料E10の導電性耐食材料には、Ti、B、Nの他にAlとVとが含有され、導電性耐食材料におけるTiが安定な4価に近い状態に、より一層なりやすくなると考えられる。そのため、試料E10においては、上記のごとく、耐腐食性がより一層向上していたと考えられる。
また、試料E9及び試料E10の導電性耐食材料が、化学的な安定性を有しつつ優れた導電性を有する理由としては、少なくともTiとBとNとからなる上記導電性材料においては、伝導帯を有する結晶構造になっているためであると考えられる。
本例においては、図29に示すごとく、溶射工程と、窒化工程とを行うことにより金属基板2上に皮膜状の導電性耐食材料3を作製する。
図29(c)に示すごとく、本例においては、少なくともチタン、硼素、及び窒素を含有する導電性耐食材料3が形成されたチタンからなる金属基板2を作製する。この金属基板2は、例えば燃料電池用金属セパレータとして用いることができる。
窒化工程においては、図29(b)及び(c)に示すごとく、TiB2層21を窒化する。これにより、金属基板2の表面に皮膜状の導電性耐食材料3を形成する。
まず、図29(a)に示すごとく、金属基板2として、厚さ0.6mmのTi板(JIS1種)を準備した。
次に、金属基板2を約60℃に加熱し、プラズマ溶射により金属基板2の両表面にTiB2粉末を溶射した(溶射工程)。これにより、図29(b)に示すごとく、金属基板2の両表面にTiB2粒子からなるTiB2層21を形成した。TiB2粉末としては、一次粒子径1.0〜4.5μm、粒度10〜63μmのTiB2造粒粉を用いた。また、プラズマ溶射には、スルザーメテコ(株)製のプラズマ溶射装置(9MB)を用いて、溶射距離100mm、TiB2粉末の供給速度32.8g/min、Ar:N2=50:50(L/min)、電流500Aという条件でAr−N2溶射を行った。
これにより、図29(b)及び(c)に示すごとく、金属基板2上に形成されたTiB2層21が窒化され、基板2の表面に、少なくともチタン、硼素、及び窒素を含有する皮膜状の導電性耐食材料3を形成した。このようにして作製した導電性耐食材料3が形成された基板2を試料E11とする。
試料E12は、溶射工程における溶射条件をAr−N2溶射からAr−H2溶射に変更した点を除いては、上記試料E11と同様にして作製した。
具体的には、試料E12の作製時には、溶射工程において、溶射距離100mm、TiB2粉末の供給速度32.8g/min、Ar:H2=80:20(L/min)、電流600Aという条件でAr−H2溶射を行うことにより、金属基板の両面に上記TiB2層を形成した。その後、上記試料E11と同様に窒化工程を行って上記TiB2層を窒化させ、金属基板上に導電性耐食材料からなる皮膜を形成した。
まず、試料E11及び試料E12の比較用として、3種類の基板(試料C11〜試料C13)を作製した。
試料C11は、厚さ0.6mmのチタン板(JIS1種)である。これは、試料E11及び試料E12の作製に用いた基板と同様のチタン板である。
その作製にあたっては、まず、試料E11と同様のJIS1種のチタン板を準備した。次いで、このチタン板を加熱炉内に配置し、上記窒化工程と同様に、窒素ガス気流(流速0.5L/min)中で温度1000℃で2時間加熱した。このようにして、チタン板の表面を窒化してなる基板(試料C12)を得た。試料C12においては、チタン板の表面が窒化されて、表面にTiNからなる層が形成されていると考えられる。
その作製にあたっては、まず、試料E11と同様のJIS1種のチタン板を準備した。次いで、このチタン板を約60℃に加熱し、上記試料E11と同様の条件でプラズマ溶射(Ar−N2溶射)を行い、チタン板の両表面にTiB2粉末を溶射した。このようにして、チタン板の両表面にTiB2粒子からなるTiB2層を形成してなる基板(試料C13)を得た。
そして、腐食試験前後の測定サンプル(試料E11、試料E12,及び試料C11〜試料C13)について、導電性の変化を調べるために、実施例1と同様の接触抵抗測定試験を行った。
なお、図30は、方対数グラフであり、横軸は腐食時間(電圧印加時間)を示し、縦軸は接触抵抗を示す。
よって、試料E11及び試料E12は、導電性に優れ、耐腐食性にも優れていることがわかる。
したがって、導電性耐食材料を有する試料E11及び試料E12は、優れた導電性を示すと共に、試料C11〜C13に比べて耐腐食性に優れていることがわかる。
即ち、試料E11及び試料E12の表面に形成された導電性耐食材料は、TiとBとNとを含有しており、この導電性耐食材料においては、周期律表からも予想されるようにTiが安定な4価に近い状態として存在できるため、上記のごとく優れた導電性を有すると共に、腐食条件に曝しても優れた導電性を維持することができる。即ち導電性及び耐腐食性に優れている。
また、試料E11及び試料E12の導電性耐食材料が、上述のごとく化学的な安定性を有しつつ優れた導電性を有する理由としては、少なくともTiとBとNとからなる上記導電性材料は、伝導帯に電子が存在しうる結晶構造を有しているためであると考えられる。
本例においては、異なる製造方法で基板上に6種類の導電性耐食材料を作製し、その原子組成比を調べる共にその特性を評価する例である。
まず、実施例1と同様に、塗布工程及び乾燥工程からなる付着工程と、加熱工程とを行うことにより導電性耐食材料を作製した。
次に、実施例1と同様にして、ノルマルヘキサンとイソプロパノールとの混合溶媒を作製し、さらにこの混合溶媒重80重量部に対して、窒化硼素粉末を20重量部添加して混合し、窒化硼素分散液を作製した。窒化硼素粉末は、六方晶の結晶構造を有する窒化硼素(h−BN)からなるものを用いた。この窒化硼素分散液を基板の表面にスプレーにより塗布し(塗布工程)、その後、基板を温度80℃の恒温炉内で数分間乾燥させた(乾燥工程)。次いで、窒化硼素粉末が付着した基板を高純度Ar気流中で温度800℃で2時間加熱した(加熱工程)。その後、水及びアセトンで洗浄することにより、表面に付着した不純物を除去した。このようにして表面に導電性耐食材料からなる皮膜が形成された基板を得た。これを試料E13とする。
試料E14は、加熱工程において、窒化硼素粉末が付着した基材を温度900℃で20分間加熱して作製した。
試料E15は、加熱工程において、窒化硼素粉末が付着した基材を温度1000℃で20分間加熱して作製した。
具体的には、まず、金属基板として、株式会社神戸製鋼所製の厚さ0.6mmのTi板(JIS1種)を準備した。
次に、実施例5と同様にして、金属基板を約60℃に加熱し、プラズマ溶射により金属基板の両表面にTiB2粉末を溶射し、TiB2層21を形成した(溶射工程)。TiB2粉末としては、実施例5と同様の粉末を用いた。また、プラズマ溶射においては、実施例5と同様の装置を用いて、溶射距離100mm、TiB2粉末の供給速度32.8g/min、Ar:N2=50:50(L/min)、電流500Aという条件でAr−N2溶射を行った。次に、TiB2層が形成された金属基板を加熱炉に配置し、この基板を窒素ガス気流中で温度1000℃で2時間加熱すると共に、加熱炉内で窒素ガスを0.5L/minの速度で流通させた(窒化工程)。このようにして、金属基板上に形成されたTiB2層を窒化し、少なくともチタン、硼素、及び窒素を含有する皮膜状の導電性耐食材料が形成された基板(試料E16)を作製した。
具体的には、まず、基板として株式会社神戸製鋼所製の厚さ0.6mmのTi板(JIS1種)を準備した。
次に、実施例4と同様にして、K2O10wt%とB2O390wt%とからなる混合溶融塩(温度950℃〜1000℃)を準備し、この混合溶融塩中に上記基板を浸漬すると共に、混合溶融塩中で基板を陰極とし、φ13mmの黒鉛棒を正極として10分間電解(電流密度:約0.1A/cm2)を行った(ホウ化工程)。これにより、基板の表面をホウ化し、基板の表面に、少なくともTiとBとを含有するTi硼化物層を形成した。次いで、基板に付着した溶融塩を温水で溶解洗浄した。次に、実施例4と同様に、Tiホウ化物層が形成された基板を加熱炉に配置し、この基板を窒素ガス気流中で温度1000℃で2時間加熱すると共に、加熱炉内で窒素ガスを0.5L/minの速度で流通させた(窒化工程)。
このようにして、基板上に形成されたTiホウ化物層を窒化し、少なくともチタン、硼素、及び窒素を含有する皮膜状の導電性耐食材料が形成された基板(試料E17)を作製した。
即ち、まず、本例の上記試料E15と同様に、付着工程と加熱工程(ただし、加熱条件1000℃、30分間)とを行うことにより、導電性耐食材料が表面に形成された基板を作製した。この導電性耐食材料が形成された基板を加熱炉に配置し、窒素ガス気流中で温度1000℃で2時間加熱して基板上に形成された導電性耐食材料をさらに窒化した。(窒化工程)。このとき、窒素ガスは、加熱炉内を0.5L/minの速度で流通させた。このようにして、さらに窒化された導電性耐食材料を表面に有する基板を作製した。これを試料E18とする。
試料C14は、株式会社神戸製鋼所製の厚み0.6mmチタン板(JIS1種)である。
試料C15は、チタン板の表面にイオンプレーティングによりTiNを成膜することにより作製した。
試料C16は、Ti板(株式会社神戸製鋼所製の厚み0.6mmチタン板(JIS1種))の表面にTiB2粒子からなるTiB2層を形成してなる基板である。その作製にあたっては、上記試料E16と同様に、JIS1種のチタン板を約60℃に加熱し、プラズマ溶射(Ar−N2溶射)を行い、チタン板の両表面にTiB2粉末を溶射してTiB2層を形成した。
組成は、X線光電子分光分析(XPS)で測定した。XPS装置としては、ULVAC−PHI社製のQuantera SXMを用い、X線源としては、Monochromated A1 Kαを用いた。分析領域は、100×1500μmとした。そして、各試料の表面から面分析を行い、Ti、B、Nの組成比を調べた。その結果を図31にTi−B−N系の3元状態図として示す。
各試料について、腐食試験開始前(0時間)の接触抵抗値、腐食試験を48時間行ったときの接触抵抗値、腐食試験を96時間行ったときの接触抵抗値を下記の表1に示す。なお、試料C15については48時間目ですでに接触抵抗値が大きくなりすぎていたため、96時間目の測定を省略した。
一方、チタン板からなる試料C14は、48時間後には、100mΩcm2を超過し、96時間後には550mΩcm2を超える値にまで増大していた。また、TiN層を表面に有する試料C15は、腐食試験前は十分に低い接触抵抗を示すが、48時間後には2000mΩcm2を超える非常に高い接触抵抗値にまで急激に上昇していた。また、プラズマ溶射により表面にTiB2層を形成した試料C16においては、腐食試験48時間後までは比較的低い接触抵抗値を示すが、96時間後には、3000mΩcm2を超える非常に大きな接触抵抗値を示した。
2 基材
3 導電性耐食材料
Claims (22)
- 少なくともチタン、硼素、及び窒素を含有する導電性耐食材料であって、
チタン(Ti)、硼素(B)、及び窒素(N)を、それぞれ0.05≦[Ti]≦0.40、0.20≦[B]≦0.40、0.35≦[N]≦0.55という原子比(ただし[Ti]+[B]+[N]=1)で含有することを特徴とする導電性耐食材料。 - 請求項1において、上記導電性耐食材料は、少なくとも表面がチタン又はチタン合金からなる基材上を覆う皮膜として形成されていることを特徴とする導電性耐食材料。
- 請求項2において、上記基材上に形成された上記導電性耐食材料は、上記基材と共に燃料電池用金属セパレータとして用いられることを特徴とする導電性耐食材料。
- 少なくともチタン、硼素、及び窒素を含有する導電性耐食材料の製造方法において、
少なくとも表面がチタン又はチタン合金からなる基材の表面に窒化硼素粉末を付着させる付着工程と、
上記窒化硼素粉末が付着した上記基材を非酸化性ガス雰囲気下又は真空中で温度500℃〜1650℃で加熱することにより、上記基材上に皮膜状の上記導電性耐食材料を形成する加熱工程とを有することを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。 - 請求項4において、上記窒化硼素粉末の粒径は、0.05μm〜100μmであることを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。
- 請求項4又は5において、上記付着工程は、上記窒化硼素粉末が溶媒中に分散された窒化硼素分散液を上記基材の表面に塗布する塗布工程と、該塗布工程後の上記基材を乾燥させることにより、上記基材に上記窒化硼素粉末を付着させる乾燥工程とを有することを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。
- 請求項4〜6のいずれか一項において、上記加熱工程の加熱温度は、700℃〜1100℃であることを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。
- 請求項4〜7のいずれか一項において、上記加熱工程後の上記基材を、窒素ガス又はアンモニアガスを含有する不活性ガス雰囲気下で加熱する窒化工程を行うことを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。
- 請求項4〜7のいずれか一項において、上記加熱工程後の上記基材を窒素気流中で加熱する窒化工程を行うことを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。
- 請求項8又は9において、上記窒化工程における加熱温度は700℃〜1100℃であることを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。
- 請求項4〜10のいずれか一項において、上記基材上に形成された上記導電性耐食材料は、上記基材と共に燃料電池用金属セパレータとして用いられることを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。
- 少なくともチタン、硼素、及び窒素を含有する導電性耐食材料の製造方法において、
少なくとも表面がチタン又はチタン合金からなる基板の表面をホウ化することにより、上記基板の表面に、少なくともTiとBとを含有するTi硼化物層を形成するホウ化工程と、
上記Ti硼化物層を窒化することにより、上記基板上に皮膜状の上記導電性耐食材料を形成する窒化工程とを有することを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。 - 請求項12において、上記ホウ化工程においては、硼化物系溶融塩を用いた溶融塩電解法を行うことを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。
- 請求項12又は13において、上記窒化工程においては、上記Tiホウ化物層が形成された上記基板を、窒素ガス又はアンモニアガスを含有する不活性ガス雰囲気下で加熱することを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。
- 請求項12又は13において、上記窒化工程においては、上記Tiホウ化物層が形成された上記基板を窒素気流中で加熱することを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。
- 請求項14又は15において、上記窒化工程においては、上記Tiホウ化物層が形成された上記基板を温度700℃〜1100℃で加熱することを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。
- 請求項12〜16のいずれか一項において、上記基板上に形成された上記導電性耐食材料は、上記基板と共に燃料電池用金属セパレータとして用いられることを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。
- 少なくともチタン、硼素、及び窒素を含有する導電性耐食材料の製造方法において、
金属基板の表面の少なくとも一部にTiB2粉末を溶射することにより、TiB2粒子からなるTiB2層を形成する溶射工程と、
上記TiB2層を窒化することにより、上記金属基板上に皮膜状の上記導電性耐食材料を形成する窒化工程とを有することを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。 - 請求項18において、上記窒化工程においては、上記TiB2層が形成された上記金属基板を窒素ガス又はアンモニアガス雰囲気下で加熱することを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。
- 請求項18において、上記窒化工程においては、上記TiB2層が形成された上記金属基板を窒素気流中で加熱することを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。
- 請求項19又は20において、上記窒化工程においては、上記TiB2層が形成された上記金属基板を温度700℃〜1100℃で加熱することを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。
- 請求項18〜21のいずれか一項において、上記金属基板上に形成された上記導電性耐食材料は、上記金属基板と共に燃料電池用金属セパレータとして用いられることを特徴とする導電性耐食材料の製造方法。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010047375A1 (ja) * | 2008-10-22 | 2010-04-29 | ローム株式会社 | ホウ素含有薄膜形成方法及び積層構造体 |
KR101076755B1 (ko) * | 2010-04-02 | 2011-10-26 | 모 세 박 | 내마모, 고경도를 위한 보론질화 처리법 및 이를 이용한 처리물 |
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JP2012160382A (ja) * | 2011-02-01 | 2012-08-23 | Univ Of Fukui | 燃料電池用セパレータ及びその製造方法 |
JP2016027183A (ja) * | 2014-06-30 | 2016-02-18 | 国立大学法人群馬大学 | 金属の硬化処理方法 |
JP2020147817A (ja) * | 2019-03-14 | 2020-09-17 | 日鉄日新製鋼株式会社 | 燃料電池セパレータ用オーステナイト系ステンレス鋼材及びその製造方法、燃料電池セパレータ、並びに燃料電池 |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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DE102013213015A1 (de) * | 2013-07-03 | 2015-01-08 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Verfahren zur Herstellung einer Bipolarplatte und Bipolarplatte für eine elektrochemische Zelle |
DE102014109321A1 (de) * | 2014-07-03 | 2016-01-07 | Deutsches Zentrum für Luft- und Raumfahrt e.V. | Verfahren zur Herstellung einer Bipolarplatte, Bipolarplatte für eine elektrochemische Zelle und elektrochemische Zelle |
CN109678168B (zh) * | 2018-11-28 | 2020-12-25 | 焦国豪 | 一种钛-硼-氮化合物粉末制备装置及方法 |
Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS499438A (ja) * | 1972-05-26 | 1974-01-28 | ||
JPS55161063A (en) * | 1979-05-31 | 1980-12-15 | Mitsubishi Electric Corp | Boron layer forming treatment |
JPS61104077A (ja) * | 1984-10-24 | 1986-05-22 | Nippon Columbia Co Ltd | ホウ素皮膜の形成方法 |
JPH0428855A (ja) * | 1990-05-24 | 1992-01-31 | Citizen Watch Co Ltd | 金色装飾品およびその製造方法 |
JPH0578811A (ja) * | 1991-09-19 | 1993-03-30 | Nippon Alum Co Ltd | 窒化チタン含有複合皮膜の形成方法及び窒化チタン含有複合皮膜 |
JPH05140725A (ja) * | 1991-11-20 | 1993-06-08 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | チタン材料の表面処理法 |
JPH06346222A (ja) * | 1993-04-23 | 1994-12-20 | Degussa Ag | 硬質かつ耐引掻性の、硼素を含有する表面層を備えた白金およびパラジウムからなる物品および硬化方法 |
JP2001025843A (ja) * | 1999-07-13 | 2001-01-30 | Maizuru:Kk | 鍛造品の製法およびそれに用いる鍛造用金型 |
JP2003082452A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-03-19 | Citizen Watch Co Ltd | 装飾用金色被膜 |
JP2004279169A (ja) * | 2003-03-14 | 2004-10-07 | Seiko Instruments Inc | 装飾品及び時計 |
JP2004339562A (ja) * | 2003-05-15 | 2004-12-02 | Air Water Inc | オーステナイト系金属の表面改質方法およびそれによって得られる耐熱金属製品ならびにターボ部品 |
JP2005264235A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Hitachi Cable Ltd | 導電性耐食金属板及びその製造方法 |
JP2005268081A (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 燃料電池用金属セパレータおよびその製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3325490A1 (de) * | 1983-07-14 | 1985-01-24 | Elektroschmelzwerk Kempten GmbH, 8000 München | Feuerfeste, elektrisch leitfaehige mischwerkstoffe und verfahren zu ihrer herstellung durch isostatisches heisspressen |
FR2744461B1 (fr) * | 1996-02-01 | 1998-05-22 | Tecmachine | Nitrure de titane dope par du bore, revetement de substrat a base de ce nouveau compose, possedant une durete elevee et permettant une tres bonne resistance a l'usure, et pieces comportant un tel revetement |
JP2000123850A (ja) | 1998-10-15 | 2000-04-28 | Fuji Electric Co Ltd | 固体高分子電解質型燃料電池 |
JP2000353531A (ja) | 1999-06-08 | 2000-12-19 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 固体高分子型燃料電池用セパレータおよびその製造方法 |
US6635939B2 (en) * | 1999-08-24 | 2003-10-21 | Micron Technology, Inc. | Boron incorporated diffusion barrier material |
CN1358690A (zh) * | 2001-09-28 | 2002-07-17 | 武汉理工大学 | 一种制备TiB2—BN导电复合材料的方法 |
JP4062132B2 (ja) | 2003-03-11 | 2008-03-19 | 住友金属工業株式会社 | 燃料電池セパレータ用チタン系材料とその製造方法 |
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Patent Citations (13)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS499438A (ja) * | 1972-05-26 | 1974-01-28 | ||
JPS55161063A (en) * | 1979-05-31 | 1980-12-15 | Mitsubishi Electric Corp | Boron layer forming treatment |
JPS61104077A (ja) * | 1984-10-24 | 1986-05-22 | Nippon Columbia Co Ltd | ホウ素皮膜の形成方法 |
JPH0428855A (ja) * | 1990-05-24 | 1992-01-31 | Citizen Watch Co Ltd | 金色装飾品およびその製造方法 |
JPH0578811A (ja) * | 1991-09-19 | 1993-03-30 | Nippon Alum Co Ltd | 窒化チタン含有複合皮膜の形成方法及び窒化チタン含有複合皮膜 |
JPH05140725A (ja) * | 1991-11-20 | 1993-06-08 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | チタン材料の表面処理法 |
JPH06346222A (ja) * | 1993-04-23 | 1994-12-20 | Degussa Ag | 硬質かつ耐引掻性の、硼素を含有する表面層を備えた白金およびパラジウムからなる物品および硬化方法 |
JP2001025843A (ja) * | 1999-07-13 | 2001-01-30 | Maizuru:Kk | 鍛造品の製法およびそれに用いる鍛造用金型 |
JP2003082452A (ja) * | 2001-09-13 | 2003-03-19 | Citizen Watch Co Ltd | 装飾用金色被膜 |
JP2004279169A (ja) * | 2003-03-14 | 2004-10-07 | Seiko Instruments Inc | 装飾品及び時計 |
JP2004339562A (ja) * | 2003-05-15 | 2004-12-02 | Air Water Inc | オーステナイト系金属の表面改質方法およびそれによって得られる耐熱金属製品ならびにターボ部品 |
JP2005264235A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Hitachi Cable Ltd | 導電性耐食金属板及びその製造方法 |
JP2005268081A (ja) * | 2004-03-19 | 2005-09-29 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | 燃料電池用金属セパレータおよびその製造方法 |
Cited By (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010047375A1 (ja) * | 2008-10-22 | 2010-04-29 | ローム株式会社 | ホウ素含有薄膜形成方法及び積層構造体 |
CN102203327A (zh) * | 2008-10-22 | 2011-09-28 | 罗姆股份有限公司 | 含硼薄膜形成方法和叠层结构体 |
KR101076755B1 (ko) * | 2010-04-02 | 2011-10-26 | 모 세 박 | 내마모, 고경도를 위한 보론질화 처리법 및 이를 이용한 처리물 |
KR101076752B1 (ko) | 2010-04-02 | 2011-10-26 | 모 세 박 | 철강재 및 고합금강의 보론질화 처리법 및 이를 이용한 처리물 |
JP2012160382A (ja) * | 2011-02-01 | 2012-08-23 | Univ Of Fukui | 燃料電池用セパレータ及びその製造方法 |
JP2016027183A (ja) * | 2014-06-30 | 2016-02-18 | 国立大学法人群馬大学 | 金属の硬化処理方法 |
JP2020147817A (ja) * | 2019-03-14 | 2020-09-17 | 日鉄日新製鋼株式会社 | 燃料電池セパレータ用オーステナイト系ステンレス鋼材及びその製造方法、燃料電池セパレータ、並びに燃料電池 |
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