JP2008155591A5 - - Google Patents
Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008155591A5 JP2008155591A5 JP2006350146A JP2006350146A JP2008155591A5 JP 2008155591 A5 JP2008155591 A5 JP 2008155591A5 JP 2006350146 A JP2006350146 A JP 2006350146A JP 2006350146 A JP2006350146 A JP 2006350146A JP 2008155591 A5 JP2008155591 A5 JP 2008155591A5
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- silicon layer
- silicon
- nozzle hole
- liquid chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 18
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims 18
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims 18
- 239000007788 liquid Substances 0.000 claims 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 claims 10
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 5
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 claims 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims 2
- 238000007599 discharging Methods 0.000 claims 2
- 239000000463 material Substances 0.000 claims 2
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 claims 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 claims 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 claims 1
Priority Applications (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006350146A JP4936880B2 (ja) | 2006-12-26 | 2006-12-26 | ノズルプレート、ノズルプレートの製造方法、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
| US11/962,912 US8136920B2 (en) | 2006-12-26 | 2007-12-21 | Nozzle plate, method for manufacturing nozzle plate, droplet discharge head, and droplet discharge apparatus |
| CN200710185787.3A CN101284447B (zh) | 2006-12-26 | 2007-12-26 | 喷嘴板、喷嘴板的制造方法、液滴喷出头及液滴喷出装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006350146A JP4936880B2 (ja) | 2006-12-26 | 2006-12-26 | ノズルプレート、ノズルプレートの製造方法、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2008155591A JP2008155591A (ja) | 2008-07-10 |
| JP2008155591A5 true JP2008155591A5 (enExample) | 2009-11-12 |
| JP4936880B2 JP4936880B2 (ja) | 2012-05-23 |
Family
ID=39657040
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006350146A Expired - Fee Related JP4936880B2 (ja) | 2006-12-26 | 2006-12-26 | ノズルプレート、ノズルプレートの製造方法、液滴吐出ヘッド及び液滴吐出装置 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8136920B2 (enExample) |
| JP (1) | JP4936880B2 (enExample) |
| CN (1) | CN101284447B (enExample) |
Families Citing this family (19)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008117716A1 (ja) * | 2007-03-28 | 2008-10-02 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
| JP2010143055A (ja) * | 2008-12-18 | 2010-07-01 | Seiko Epson Corp | ノズル基板、液滴吐出ヘッド、及びノズル基板の製造方法 |
| JP5218164B2 (ja) | 2009-03-10 | 2013-06-26 | セイコーエプソン株式会社 | ノズル基板の製造方法及び液滴吐出ヘッドの製造方法 |
| JP5345034B2 (ja) * | 2009-09-28 | 2013-11-20 | 富士フイルム株式会社 | 撥液膜形成方法 |
| US8210649B2 (en) * | 2009-11-06 | 2012-07-03 | Fujifilm Corporation | Thermal oxide coating on a fluid ejector |
| KR101197945B1 (ko) | 2010-07-21 | 2012-11-05 | 삼성전기주식회사 | 잉크젯 프린트 헤드 및 그 제조방법 |
| CN103328089B (zh) * | 2010-12-21 | 2016-09-07 | 哈佛学院院长等 | 喷雾干燥技术 |
| JP5900742B2 (ja) * | 2012-04-02 | 2016-04-06 | 三菱電機株式会社 | 液体噴出装置とその製造方法およびノズルプレートの製造方法 |
| US9220852B2 (en) * | 2012-04-10 | 2015-12-29 | Boehringer Ingelheim Microparts Gmbh | Method for producing trench-like depressions in the surface of a wafer |
| WO2016118120A1 (en) * | 2015-01-20 | 2016-07-28 | Hewlett-Packard Development Company, L.P. | Liquid-gas separator |
| JP6512985B2 (ja) * | 2015-08-03 | 2019-05-15 | キヤノン株式会社 | シリコン基板の加工方法 |
| KR101863292B1 (ko) * | 2016-01-22 | 2018-05-30 | 포항공과대학교 산학협력단 | 노즐 및 그의 표면 처리 방법 |
| CN108944051B (zh) * | 2017-11-20 | 2019-08-09 | 广东聚华印刷显示技术有限公司 | 喷嘴的表面处理方法 |
| JP7047587B2 (ja) * | 2018-05-16 | 2022-04-05 | コニカミノルタ株式会社 | インクジェットヘッドおよびインクジェット画像形成装置 |
| JP7384561B2 (ja) * | 2019-02-18 | 2023-11-21 | ローム株式会社 | ノズル基板、インクジェットプリントヘッドおよびノズル基板の製造方法 |
| US20210104638A1 (en) * | 2019-10-04 | 2021-04-08 | Sensors Unlimited, Inc. | Visible-swir hyper spectral photodetectors with reduced dark current |
| JP7334335B2 (ja) * | 2020-03-30 | 2023-08-28 | 富士フイルム株式会社 | 液体吐出構造体、液体吐出ヘッド及び液体吐出装置 |
| JP2022049855A (ja) * | 2020-09-17 | 2022-03-30 | 株式会社リコー | 液体吐出ヘッド、液体吐出ユニット及び液体を吐出する装置 |
| CN117529407A (zh) * | 2021-06-22 | 2024-02-06 | 柯尼卡美能达株式会社 | 喷嘴板、液滴吐出头、液滴吐出装置以及喷嘴板的制造方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6155670A (en) * | 1997-03-05 | 2000-12-05 | Hewlett-Packard Company | Method and apparatus for improved ink-drop distribution in inkjet printing |
| JPH09216368A (ja) | 1996-02-13 | 1997-08-19 | Seiko Epson Corp | インクジェットノズルプレートおよびその製造方法 |
| JP4357600B2 (ja) | 1998-06-18 | 2009-11-04 | パナソニック株式会社 | 流体噴射装置 |
| JP2001212966A (ja) * | 2000-02-04 | 2001-08-07 | Seiko Epson Corp | 親水性構造及びインクジェット記録ヘッド |
| JP2003266394A (ja) * | 2002-03-14 | 2003-09-24 | Seiko Epson Corp | シリコンデバイスの製造方法及びインクジェット式記録ヘッドの製造方法並びにシリコンウェハ |
| JP2004209707A (ja) * | 2002-12-27 | 2004-07-29 | Canon Inc | インクジェットヘッドの製造方法 |
| JP2004237448A (ja) * | 2003-02-03 | 2004-08-26 | Canon Inc | 液体吐出ヘッド素子 |
| JP2005035013A (ja) | 2003-07-15 | 2005-02-10 | Brother Ind Ltd | 液体移送装置の製造方法 |
| JP4246583B2 (ja) * | 2003-09-24 | 2009-04-02 | 株式会社日立産機システム | インクジェット記録装置 |
| KR100561864B1 (ko) | 2004-02-27 | 2006-03-17 | 삼성전자주식회사 | 잉크젯 프린트헤드의 노즐 플레이트 표면에 소수성코팅막을 형성하는 방법 |
| JP4654458B2 (ja) * | 2004-12-24 | 2011-03-23 | リコープリンティングシステムズ株式会社 | シリコン部材の陽極接合法及びこれを用いたインクジェットヘッド製造方法並びにインクジェットヘッド及びこれを用いたインクジェット記録装置 |
| JP4889450B2 (ja) * | 2005-11-11 | 2012-03-07 | 株式会社リコー | 液体吐出ヘッド及び画像形成装置、液滴を吐出する装置、記録方法 |
-
2006
- 2006-12-26 JP JP2006350146A patent/JP4936880B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
2007
- 2007-12-21 US US11/962,912 patent/US8136920B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2007-12-26 CN CN200710185787.3A patent/CN101284447B/zh not_active Expired - Fee Related
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2008155591A5 (enExample) | ||
| Shah et al. | Classifications and applications of inkjet printing technology: a review | |
| US8657410B2 (en) | Liquid discharging nozzle and method for recovering water-repellent layer of the liquid discharging nozzle | |
| EP1780017A3 (en) | Piezoelectric inkjet printhead | |
| JP5320462B2 (ja) | 空圧ディスペンサ | |
| JP2009279830A5 (enExample) | ||
| JP2010047025A5 (enExample) | ||
| JP2018006747A5 (enExample) | ||
| JP2011092918A (ja) | インクジェットプリントヘッド | |
| WO2010039494A3 (en) | Control of velocity through a nozzle | |
| JP2019508285A5 (enExample) | ||
| JP2008221652A5 (enExample) | ||
| JP2014008680A5 (enExample) | ||
| JP2018134876A5 (enExample) | ||
| CN202463171U (zh) | 一种液体喷头 | |
| JP2008299094A5 (enExample) | ||
| JP2006306022A5 (enExample) | ||
| US8853915B2 (en) | Bonding on silicon substrate having a groove | |
| JP2006198960A5 (enExample) | ||
| JP2007301769A5 (enExample) | ||
| US20110250403A1 (en) | Bonding on silicon substrate | |
| JP2012502824A5 (enExample) | ||
| JP2008168283A5 (enExample) | ||
| TW200719974A (en) | Droplet ejecting head | |
| JP2007245589A5 (enExample) |