JP2008150675A - バレルメッキ装置 - Google Patents

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Abstract

【課題】
被メッキ物のメッキ膜厚がばらつくことを抑制するバレルメッキ装置を提供することを課題とする。
【解決手段】
内部に電解液を蓄えるメッキ槽20と、被メッキ物3を収容し、メッキ槽20で回転駆動されるバレル2と、バレル2の外側に設けられ、バレルの下方に配設される第1アノード7と、バレル2の外側に設けられ、バレル2の上方に配設される第2アノード(71,81,91)と、第2アノード71を第1アノード72に対して開閉する開閉機構11と、バレル2をメッキ槽20に対して移動させる可動機構4と、バレル2内に配設されるカソード6を備えたことである。
【選択図】 図2

Description

本発明は、バレル内の被メッキ物にメッキによる皮膜を形成するバレルメッキ装置に関する。
公知のバレルメッキ装置が、後述の特許文献1及び特許文献2に記載されている。特許文献1に記載のものは、被メッキ物を収容するバレルと、一対の陽極金属板(アノード)とを備えている。一対の陽極金属板は、バレルを左右に挟んで配置され、バレルを挟んで互いに対向している。特許文献2に記載のものは、被メッキ物を収容するバレルと、略U字状に形成されたアノードを備えている。アノードは、バレルの径方向外方に設けられ、バレルのうち周方向の上部を除いた部分に面している。
特公昭63−61398号公報 特開平6−57498号公報
特許文献1に記載のものでは、バレルの上端部分と下端部分が陽極金属板に面していないため、バレルと陽極金属板との間の電流密度がこれらの部分で低くなり、電流密度がバレルの周方向でばらついてしまう。このような電流密度のばらつきがあると、バレル内での被メッキ物の位置によっては皮膜が被メッキ物に効率的に形成されず、所定の厚さの皮膜を被メッキ物に形成するメッキ処理に係る時間を短縮する上では好ましくない。また、電流密度にばらつきがあるため、被メッキ物における皮膜の厚みのばらつきや、複数の被メッキ物間での皮膜の厚みのばらつきも大きくなりやすい。
特許文献2に記載のものでは、バレルがアノードに面する部分の面積を増やすために略U字状のアノードが用いられ、特許文献1に記載のものと比べると電流密度のばらつきが低減されている。しかし、バレルのうち周方向の上部はアノードに面しておらず、この部分では電流密度が依然として低くなってしまい、上述の問題点が完全には解決されていない。
以上のことより、被メッキ物のメッキ膜厚がばらつくことを抑制するバレルメッキ装置を提供することを課題とする。
上記課題を解決するために、本発明にて講じた技術的手段は、内部に電解液を蓄えるメッキ槽と、被メッキ物を収容し、メッキ槽で回転駆動されるバレルと、バレルの外側に設けられ、バレルの一側に配設される第1アノードと、バレルの外側に設けられ、バレルの他側に配設される第2アノードと、メッキ槽で第2アノードを第1アノードに対して開閉する開閉機構と、バレルを前記メッキ槽に対して移動させる可動機構と、バレル内に配設されるカソードと、を備えたことである。
上記構成において、バレルは第1アノードと第2アノードにより包囲されていると良い。
また、第2アノードは開閉機構によりバレルの上方部で開閉自在であること良い。
更に、開閉機構はバレルの移動時に第1アノードに対して回動すると良い。
この時、開閉機構はバレルの移動時に第1アノードに対して直線状に移動しても良い。
ここで、第1アノードと第2アノードの少なくとも一方には内部が仕切り板によって複数の収容部に区画され、メッキ材が収容部の各々の区画に収容されると良い。
そして、収容部は開閉自在な蓋を備えると良い。
それに、第1アノードと第2アノードは所定間隔で区画され、メッキ材を所定間隔で内部に収容すると良い。
本発明によれば、バレルの周方向の全周がアノードによって包囲されるので、バレルとアノードとの間の電流密度がバレルの周方向の全周で一様となる。したがって、バレル内での被メッキ物の位置に関わらず、メッキによる皮膜が被メッキ物に効率的に形成される。これにより、皮膜が被メッキ物に形成される速度(被メッキ物に形成される単位時間当たりの皮膜の厚さ。メッキ速度)が向上し、所定の厚さの皮膜を被メッキ物に形成するメッキ処理に係る時間を従来に比べてさらに短縮できる。また、電流密度がバレルの周方向の全周で一様なので、バレル内での被メッキ物の位置に関わらず均一な厚みの皮膜が被メッキ物に形成され、被メッキ物における皮膜の厚みのバラツキ、及び複数の被メッキ物間での皮膜の厚みのばらつきをさらに低減できる。
上記構成において、第2アノードは開閉機構によりバレルの上方部で開閉自在である。このことより、アノードがバレルの上方に位置する部分にて開放可能なので、バレルをアノードの上方からアノード内に設置することができ、バレルのアノード内への設置が容易となって、メッキ処理の生産性が向上する。
ここで、開閉機構はバレルの移動時に第1アノードに対して回動するので第2アノードの脱着工数が少なくてすみメッキ処理の生産性が向上する。
また、開閉機構はバレルの移動時に第2アノードを第1アノードに対して直線的に移動させるのでバレルの出し入れと第2アノードの開閉動作を同期させることができ、メッキ装置のサイクルが短縮されメッキ処理の生産性が向上する。
ここで、第1アノードと第2アノードの少なくとも一方には内部が仕切り板によって複数の収容部に区画され、メッキ材が収容部の各々に収容されるので、消耗したメッキ材がアノードの内部で部分的に片寄るのを防止でき、メッキ材の片寄りによる電流密度のばらつきを抑制できる。
また、メッキ材が収容される収容部が蓋によって開閉されるので、メッキ材が消耗した場合など必要に応じて適宜蓋を開け閉めすることで、メッキ材を容易に補充できる。
更に、酸性の電解液を選択することができ、アルカリ性の電解液に比べ電流効率が向上し、メッキ処理時間を短縮することができる。
以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面を参照して説明する。
図1は本発明の第1実施形態に係るバレルメッキ装置1の側面図であり、図2は正面図である。
バレルメッキ装置1において、バレル2は、多数の孔を有する樹脂板を用いて筒状に形成されている。バレル2は、円形の側板21を軸方向の各端部に有し、被メッキ物3を内部に収容する。バレル2は、各々の側板に設けられたボス22にて、可動機構4に回転自在に支持されている。可動機構4は、主に図示していない駆動部材(例えば電動機、ポンプ等)及び伝導部材(例えばチェーン、歯車、流体シリンダー等)並びにフレーム部材等で構成されている。ここで可動機構4は、専用の治具等(図示なし)でバレル2と連結され、メッキ槽20に対して上下方向に移動する。そして、バレル2の側板21の一方は歯車となっており、モータ等で構成された駆動機構5の出力歯車51と噛み合っている。ここで、可動機構4に支持されたバレル2は、駆動機構5の発生する駆動力により、水平方向の軸を中心に回転駆動される。バレル2の内部には、カソード6が導入されている。カソード6は、バレル2の側板21のボス22を介してバレル2の内部に挿入される。カソード6は、整流器(図示なし)の陰極に接続されている。
バレル2の径方向外方には、アノード7が設けられている。アノード7は、バレル2の周方向全周を包囲する。アノード7は、整流器(図示なし)の陽極に接続されたブスバー77に、フック78を介して係合している。アノード7は、第2アノード71と第1アノード72とを備えている。アノード7の第2アノード71及び第1アノード72は、チタン等の耐腐食性材料を用いて中空に形成され、被メッキ物3に亜鉛メッキを施す(亜鉛の皮膜を形成する)ための亜鉛ボール10(メッキ材、一部のみ図示)を内部に収容している。アノード7の第2アノード71は、フック78が設けられ、バレル2のうち周方向の上半分に面している。アノード7の第1アノード72は、バレル2のうち周方向の下半分に面している。第2アノード71と第1アノード72とは電気的に接続されている。アノード7の第2アノード71及び第1アノード72のうちバレル2に面する部位は、多数の孔を有する板材や金網等で形成されている。アノード7には、開閉機構11を備えている。開閉機構11は、第2アノード71に配設されたフック78の内部にブスバー78が配設され、ブスバー78にアクチュエータ79の一端を係合させる構成となる。そして、開閉機構11は、アクチュエータ79の一部を伸縮させることにより第2アノード71を回動移動させる構成を備える。そして、第2アノード71は、ヒンジ機構73を介して第1アノード72と連結されている。つまり、アノード7は、バレル2の上方に位置しており開放可能な構成となっている。このようなアノード7の構造によれば、被メッキ物3を収容したバレル2を可動機構4によりメッキ槽20に投入する際に、バレル2をアノード7の上方から可動機構4によりアノード7内に設置することができる。そして、バレル2のアノード7内への設置後にアノード7を閉じてメッキ処理を行うことにより、電流密度が均一な状態でメッキ処理ができ被メッキ物3に均一な皮膜が生成されメッキ品質が向上する。更に、アノード7の分解及び組立てを行うことなくバレル2をメッキ槽20から出し入れできるのでメッキ処理の生産性が向上する。
なお、上述のアノード7においては、第2アノード71と第1アノード72とを絶縁した上で、第2アノード71への通電と第1アノード72への通電とをそれぞれ独立して制御することも可能である。
図4(a)、(b)はアノード7の第2アノード71の斜視図である。
アノード7の第2アノード71は、仕切り板74を備えている。アノード7の第2アノード71の内部は、仕切り板74によって複数の収容部75に仕切られている。各々の収容部75には、被メッキ物3に亜鉛の皮膜を形成するための亜鉛ボール10が収容されている。このような構造によれば、メッキ処理の進行にともなって消耗した亜鉛ボール10がアノード7の第2アノード71の内部で部分的に片寄るのを防止でき、亜鉛ボール10の片寄りによる電流密度のばらつきを抑制できる。さらに、アノード7の第2アノード71は、収容部75を開閉するメッシュ状の蓋76を備えており、亜鉛ボール10が消耗した場合など必要に応じて蓋76を開け閉めすることで、亜鉛ボール10を容易に補充できる。なお、アノード7の第1アノード72の構造も、ここで説明した第2アノード71の構造と同様である。
本実施形態では、蓋76がメッシュ状であるので、通電中はアノード7の収容部75に収容された亜鉛ボール10のイオンが効率的にアノード7の蓋76からメッキ液中に溶出し、良好なメッキ皮膜を形成できる。
図5(a)、(b)は本発明の第2実施形態を示す図である。
アノード8は、バレル2の径方向外方に設けられ、バレル2の周方向全周を包囲する。アノード8は、整流器(図示なし)の陽極に接続されたブスバー87にフック88を介して係合している。アノード8は、第2アノード81と第1アノード82とを備えている。アノード8の第2アノード81及び第1アノード82は、チタン等の耐腐食性材料を用いて中空に形成され、被メッキ物3に亜鉛メッキを施すための亜鉛ボール10(メッキ材、一部のみ図示)を内部に収容している。アノード8の第2アノード81は、フック88が設けられ、バレル2のうち周方向の上半分を形成している。アノード8の第1アノード82は、バレル2のうち周方向の下半分に面している。第2アノード81と第1アノード82は電気的に接続されている。アノード8の第2アノード81及び第1アノード82のうちバレル2に面する部位は、多数の孔を有する板材や金網等で形成されている。アノード8において、第2アノード81は、ヒンジ機構83を介して第1アノード82と連結されており、図5(b)に示す様に、エアシリンダ等のアクチュエータ89の動力によって、第1アノード82に対して水平方向の軸を中心に可動(回動可能)となっている。つまり、アノード8は、バレル2の上方に位置する部分にて開放可能となっている。このようなアノード8の構造によれば、上述したアノード7と同様で、被メッキ物3を収容したバレル2を可動機構4と共にメッキ槽20に投入する際に、バレル3をアノード8の上方からアノード8内に設置することができ、バレル2のアノード8内への設置が容易となって、メッキ処理の生産性が向上する。
なお、本実施形態において、アノード8の第1アノード82の仕切り板74は無くても良い。仕切り板74が無い場合は、第1アノード82に形成されメッキ液の液面より上にある供給口82aから亜鉛ボール10を供給する構造としても良い。これにより、メッキ液を抜くことなく亜鉛ボール10の補充を行うことができる。
図6(a)、(b)は第3実施形態(アノード9)を示す図である。
アノード9は、バレル2の径方向外方に設けられ、バレル2の周方向全周を包囲する。ここで、開閉機構11は、第2アノード91に配設されるフック98a、ブスバー97a、アクチュエータ99から構成される。また、アノード9は、第2アノード91と第1アノード92から構成される。そして、アノード9の第2アノード91は、整流器(図示なし)の陽極に接続されたブスバー97aにフック98aを介して係合し、アノード9の第1アノード92は、整流器(図示なし)の陽極に接続されたブスバー97bにフック98bを介して係合している。アノード9の第2アノード91及び第1アノード92は、チタン等の耐腐食性材料を用いて中空に形成され、被メッキ物3に亜鉛メッキを施すための亜鉛ボール10(メッキ材、一部のみ図示)を内部に収容している。アノード9の第2アノード91は、バレル2のうち周方向の上端部に面している。アノード9の第1アノード92は、バレル2のうち周方向の上端部を除いた部分に面している。アノード9の第2アノード91及び第1アノード92のうちバレル2に面する部位は、多数の孔を有する板材や金網等で形成されている。なお、アノード9においては、上述したアノード7及びアノード8とは異なり、第2アノード91と第1アノード92とが連結しておらず、互いに独立して設けられている。アノード9の第2アノード91は、図6(b)に示す様に、エアシリンダ等のアクチュエータ99の発生させる動力によって、第1アノード92に対して可動となっている。つまり、アノード9は、バレル2の上方に位置する部分にて開放可能となっている。このようなアノード9の構造によれば、上述したアノード7及びアノード8と同様で、被メッキ物3を収容したバレル2をフレーム4と共にメッキ槽20に投入する際に、バレル3をアノード9の上方からアノード9内に設置することができ、バレル2のアノード9内への設置が容易となって、メッキ処理の生産性が向上する。また、開閉機構4はバレル2の移動時に第1アノード92に対して直線的に第2アノード91を移動させる。この構成により、他の実施形態と異なり、第2アノードが開端に移動する前にバレル2を上方へ移動開始する事が可能となり、第2アノードの開動作とバレル上昇動作を重複して行うことができ、メッキ装置のサイクルが短縮されメッキ処理の生産性が向上する。
以上説明した様に、本発明に係るバレルメッキ装置1によれば、バレル2の周方向の全周がアノード7(アノード8、アノード9)によって包囲されるので、バレル2とアノード7(アノード8、アノード9)との間の電流密度がバレル2の周方向の全周で一様となる。したがって、バレル2内の被メッキ物3がバレル2の周方向のどの位置にあっても(つまり、バレル2内での被メッキ物3の位置に関わらず)、メッキによる皮膜が被メッキ物3に効率的に形成される。これにより、皮膜が被メッキ物3に形成される速度(被メッキ物3に形成される単位時間当たりの皮膜の厚さ。メッキ速度)が向上し、所定の厚さの皮膜を被メッキ物3に形成するメッキ処理に係る時間を従来に比べてさらに短縮できる。また、電流密度がバレル2の周方向の全周で一様なので、バレル2内での被メッキ物3の位置に関わらず均一な厚みの皮膜が被メッキ物3に形成され、被メッキ物3における皮膜の厚みのバラツキ、及び複数の被メッキ物3,3間での皮膜の厚みのばらつきをさらに低減できる。
本発明に係る第1実施形態におけるバレルメッキ装置1の側面図である。 本発明に係る第1実施形態におけるバレルメッキ装置1の動作説明図でありアノードの閉状態を示す。 本発明に係る第1実施形態におけるバレルメッキ装置1の動作説明図でありアノードの開状態を示す。 アノード7の第2アノード71の斜視図である。 本発明に係る第2実施形態(アノード8)を示す動作説明図であり、(a)はアノードの閉状態を示し、(b)はアノードの開状態を示す。 本発明に係る第3実施形態(アノード9)を示す動作説明図であり、(a)はアノードの閉状態を示し、(b)はアノードの開状態を示す。
符号の説明
1 バレルメッキ装置
2 バレル
3 被メッキ物
4 可動機構
6 カソード
7 アノード
8 アノード
9 アノード
10 亜鉛ボール(メッキ材)
11 開閉機構
20 メッキ槽
71,81,91 第2アノード
72,82,92 第1アノード
73 ヒンジ機構
74 仕切り板
75 収容部
76 蓋

Claims (8)

  1. 内部に電解液を蓄えるメッキ槽と、
    被メッキ物を収容し、前記メッキ槽で回転駆動されるバレルと、
    該バレルの外側に設けられ、前記バレルの一側に配設される第1アノードと、
    前記バレルの外側に設けられ、前記バレルの他側に配設される第2アノードと、
    前記メッキ槽で第2アノードを前記第1アノードに対して開閉して、前記バレルの移動
    を許容自在とする開閉機構と、
    前記バレルを移動させることにより前記メッキ槽に対して浸漬させる可動機構と、
    前記バレル内に配設されるカソードと、
    を備えることを特徴とするバレルメッキ装置。
  2. 前記バレルは、前記第1アノードと前記第2アノードにより包囲されていることを特徴とするバレルメッキ装置。
  3. 前記第2アノードは、前記開閉機構により前記バレルの上方部で開閉自在であることを特徴とする請求項1に記載のバレルメッキ装置。
  4. 前記開閉機構は、前記バレルの移動時に前記第1アノードに対して回動することを特徴とする請求項1に記載のバレルメッキ装置。
  5. 前記開閉機構は、前記バレルの移動時に前記第1アノードに対して直線状に移動することを特徴とする請求項1に記載のバレルメッキ装置。
  6. 前記第1アノードと第2アノードの少なくとも一方には内部が仕切り板によって複数の収容部に区画され、前記メッキ材が前記収容部の各々の区画に収容されることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のバレルメッキ装置。
  7. 前記収容部は開閉自在な蓋を備えることを特徴とする請求項6に記載のバレルメッキ装置。
  8. 前記第1アノードと第2アノードは所定間隔で区画され、メッキ材を所定間隔で内部に収容することを特徴とする請求項1に記載のバレルメッキ装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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