JP2008140464A - 磁気記録媒体およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】サイドイレイズの問題が生じにくいとともに、磁気記録層を高品質かつ均一に形成しやすい磁気記録媒体、およびその製造方法を提供する。
【解決手段】基体２ａと、基体２ａ上に設けられた磁気記録層２ｂと、磁気記録層２ｂ上に、所定パターンにパターニングされて形成された、少なくとも軟磁性体を含む磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・とを備える。
【選択図】図１

Description

本発明は、磁気ディスク装置等の磁気記録装置に用いられる磁気記録媒体に関する。

図５は、垂直磁気記録式の磁気ディスク装置における、従来の磁気記録媒体としての円板状の磁気ディスク５２と、磁気ディスク５２に磁気情報を記録および読み出し可能な磁気ヘッド５４との説明図である。

磁気ディスク５２は、基体５２ａと、基体５２ａ上に設けられた、軟磁性であり、かつ所定の保磁力を有する磁性体から成る磁気記録層５２ｂとを備える。円板状の磁気ディスク５２は、その中心軸を中心として自転駆動するよう設けられる。
磁気ヘッド５４は、磁気ディスク５２のディスク面５２ｃに対向する位置で、磁気ディスク５２に対して、磁気ディスク５２のほぼ径方向に相対的に移動可能に設けられる。

磁気ヘッド５４からは、ディスク面５２ｃに対してほぼ垂直方向の磁界ｃを発することができ、それによって磁気ディスク５２の磁気記録層５２ｂの一部を磁化することができる。
磁気ディスク５４を自転させつつ、磁気ヘッド５４から発する磁界ｃの方向を切り替えることにより、ディスク面５２ｃの磁気記録層５２ｂに、円周方向（記録トラック方向）に所定の磁気情報を記録することができる。また、磁気ヘッド５４を磁気ディスク５２の径方向に移動させることで、磁気情報を記録トラックをまたいで記録することができる。

図５においては、磁気記録層５２ｂの磁化方向を、矢印で表している。なお、図５中の破線は、隣接する記録トラックの境界、または、記録トラック方向における１ビット（１記録単位）の境界を表している。

ところで、図５に示したような従来の磁気ディスク５４を用いた磁気ディスク装置では、磁気情報の書き込みの際、サイドイレイズの問題が生じることがある。
サイドイレイズとは、磁気ヘッド５４から磁界ｃを発して磁気ディスク５４に磁気情報（矢印ｄ）を書き込む際、磁気記録層５２ｂの、書き込み対象の記録トラックに隣接したサイドトラックや、書き込み対象のビットに隣接したビットに対応する一部または全部が、その磁界ｃによって磁化されてしまい（矢印ｅ）、そのサイドトラックや隣接したビットに記録されていた磁気情報が消去されたり、磁化強度が弱まったりしてしまう現象のことである。
サイドイレイズが発生すると、磁気情報の読み取りの際、誤った磁気情報が読み出されたり、読み出し時のノイズが増加するなどの問題が生じる。

このサイドイレイズを防ぐためには、記録トラック間のピッチやビット間のピッチを広くすることが考えられるが、これでは、磁気記録媒体上の磁気情報の記録密度が低くなり、磁気記憶容量が減少するという別の問題を生じさせる。

この問題を解決するための磁気記録媒体として、従来、ディスクリートトラックメディアや、パターンドメディアが提案されている。ディスクリートトラックメディア、パターンドメディア、およびその製造方法が、特許文献１に開示されている。図６は、特許文献１に記載されたディスクリートトラックメディアやパターンドメディアの構成を示す図である（特許文献１ 第４図参照）。

ディスクリートトラックメディアは、図６に示すように、隣接する記録トラックに対応する磁気記録層６２，６２・・間に非磁性のガードバンド領域６４，６４・・を設けて、個々の記録トラックに対応する磁気記録層６２，６２・・間を分離したディスクリート構造を採るものである（特許文献１ 段落０００７参照）。
パターンドメディアは、非磁性のガードバンド領域６４，６４・・を、記録トラック方向のビット間にも設けて、磁気記録層６２，６２・・の各ビット間をも分離させた構造を採るものである（特許文献１ 段落０００８参照）。

このようなディスクリートトラックメディアやパターンドメディアによれば、磁気記録層が記録トラック間やビット間で分離して構成されているために、前記サイドイレイズの問題が発生しにくいという利点がある。

特開２００６−５９４０５号公報

しかしながら、ディスクリートトラックメディアやパターンドメディアにおいては、磁気記録層を記録トラック単位またはビット単位に分離して設けるため、製造上、全ての磁気記録層の層厚や密度等を均一に形成することが困難であり、また、各磁気記録層が小幅または小体積であるため、磁気記録媒体の製造工程上のエッチングや溶剤による処理で磁気記録層が損傷しやすい。
すなわち、従来の磁気記録媒体であるディスクリートトラックメディアやパターンドメディアでは、高品質かつ均一の磁気記録層を形成することが難しいという課題がある。

本発明は上記課題を解決すべくなされ、その目的とするところは、サイドイレイズの問題が生じにくいとともに、磁気記録層を高品質かつ均一に形成しやすい磁気記録媒体、およびその製造方法を提供することにある。

本発明に係る磁気記録媒体は、上記課題を解決するため、以下の構成を備える。
すなわち、基体と、該基体上に設けられた磁気記録層と、該磁気記録層上に、所定パターンにパターニングされて形成された、少なくとも軟磁性体を含む磁気フラックスガイド材とを備えることを特徴とする。
これによれば、磁気記録の際、磁気ヘッドから発せされた磁気記録のための磁界が、磁気ヘッドの直近の磁気フラックスガイド（軟磁性体）のパターンに引き寄せられる。磁気フラックスガイドは軟磁性であるために、その磁界を透磁し、その磁気フラックスガイドの直下の磁気記録層のみを磁化させることができる。すなわち、磁気ヘッドから発せされた磁界が、前記直近のパターン外へ発散することを抑えることができ、したがってサイドイレイズを抑えることができる。
また、従来のディスクリートトラックメディアやパターンドメディアと異なり、磁気記録層はパターニングする必要がないため、磁気記録層を高品質かつ均一に形成しやすい。

さらに、前記磁気フラックスガイド材は、前記磁気記録層上に、記録トラックに沿った螺旋または複数の同心円状のパターンにパターニングされて形成されていることを特徴とする。
これによれば、磁気フラックスガイド材が、記録トラックに沿った螺旋または複数の同心円上に配されているから、磁気ヘッドから発せされた磁気記録のための磁界が、直近の記録トラックに対応する磁気フラックスガイド材のパターンに向かい、サイドトラックに向かって発散することは抑えることができ、したがってサイドトラックイレイズを抑えることができる。

また、前記磁気フラックスガイド材は、前記磁気記録層上に、複数のドット状のパターンにパターニングされて形成されていることを特徴とする。
これによれば、磁気ヘッドから発せされた磁気記録のための磁界が、直近の磁気フラックスガイド材のパターン（ドット）に向かい、それに隣接する磁気記録層に向かって発散することは抑えることができ、したがってサイドイレイズを抑えることができる。

また、前記磁気フラックスガイド材は、前記磁気記録層上に、記録トラックに沿った螺旋または複数の同心円上に配された、複数のドット状のパターンにパターニングされて形成されていることを特徴とする。
これによれば、磁気フラックスガイド材が、隣接する記録トラック間で分割されるとともに、記録トラック方向にも分割されてパターニングされているから、磁気ヘッドから発せされた磁気記録のための磁界が、直近の磁気フラックスガイド材のパターン（ドット）に向かい、サイドトラックおよび隣接するビットに向かって発散することは抑えることができ、したがってサイドイレイズを抑えることができる。

また、前記磁気フラックスガイド材には、少なくとも、鉄−コバルト合金、鉄−ニッケル合金、およびコバルト−ニッケル−鉄合金のうちのいずれかが含まれていることを特徴とする。
これによれば、軟磁性の高い（透磁率が高く、保磁力の弱い）磁気フラックスガイド材を好適に構成できる。

また、前記磁気フラックスガイド材のパターン間を埋める、非磁性体または反響磁性体から成るマスク材を備えることを特徴とする。
これによれば、磁気フラックスガイド材から露出する磁気記録層を、マスク材により保護できる。

さらに、前記マスク材は、潤滑剤、タンタル、または酸化金属から成ることを特徴とする。

また、前記磁気記録層が、前記磁気フラックスガイド材と同パターンにパターニングされていることを特徴とする。
これによれば、磁気記録層も分離されているために、サイドイレイズをより効果的に防ぐことができる。

また、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法は、上記課題を解決するため、以下の構成を備える。
すなわち、基体上に、磁気記録層を形成するステップと、前記磁気記録層上に、導電体から成るめっきベース層を形成するステップと、前記めっきベース層上に、所定パターンの形状にめっきベース層が露出するように、レジスト層を形成するステップと、前記めっきベース層を給電層として、少なくとも軟磁性体を含む電解めっきを施すことで、前記レジスト層から露出しためっきベース層上に、磁気フラックスガイド材を形成するステップと、前記レジスト層を除去するステップとを含むことを特徴とする。
また、基体上に、磁気記録層を形成するステップと、前記磁気記録層上に、軟磁性体を含む軟磁性層を形成するステップと、前記軟磁性層上に、所定パターンの形状に、レジスト層を形成するステップと、前記レジスト層から露出した前記軟磁性層を、レジスト層をマスクとしたエッチングにより除去することで、軟磁性層を磁気フラックスガイド材としてパターニングするステップと、前記レジスト層を除去するステップとを含むことを特徴とする。
これによれば、従来のディスクリートトラックメディアやパターンドメディアと異なり、磁気記録層はパターニングする必要がないため、磁気記録層を高品質かつ均一に形成しやすい。特に、磁気情報が記録される、磁気フラックスガイド材の直下の磁気記録層は、磁気フラックスガイド材（軟磁性層）で保護されて、製造工程におけるエッチングや溶剤による処理等の影響をほとんど受けることがないため、損傷等の問題が生じない。

さらに、前記レジスト層から露出した前記軟磁性層を除去して露出した前記磁気記録層を、レジスト層をマスクとしたエッチングにより除去することで、磁気記録層を、前記磁気フラックスガイド材と同パターンにパターニングするステップを含むことを特徴とする。
また、前記磁気フラックスガイド材から露出した前記磁気記録層を、磁気フラックスガイド材をマスクとしたエッチングにより除去することで、磁気記録層を、前記磁気フラックスガイド材と同パターンにパターニングするステップを含むことを特徴とする。
これによれば、磁気記録層も分離されるために、サイドイレイズをより効果的に防ぐことができる磁気記録媒体を得ることができる。

また、前記レジスト層を、インプリント法により形成することを特徴とする。
これによれば、磁気フラックスガイド材の微細パターンに対応するレジスト層を、容易に形成できる。

また、前記磁気フラックスガイド材のパターン間を、非磁性体または反響磁性体から成るマスク材により埋めるステップと、前記磁気フラックスガイド材および前記マスク材の表面を平坦化するステップとを含むことを特徴とする。
これによれば、磁気フラックスガイド材から露出する磁気記録層を、マスク材により保護できる。また、磁気記録媒体の表面を平坦に構成できるとともに、平坦化の工程において、磁気フラックスガイド材の間に露出する磁気記録層もマスク材により損傷から保護することができる。

本発明に係る磁気記録媒体、およびその製造方法によれば、サイドイレイズの問題が生じにくいとともに、磁気記録層を高品質かつ均一に形成しやすい。

以下、本発明に係る磁気記録媒体、およびその製造方法を実施するための最良の形態を説明する。

図１は、本実施の形態に係る磁気記録媒体としての磁気ディスク２を備えた、垂直磁気記録式の磁気ディスク装置の構成を概念的に示す説明図である。
図１の磁気ディスク装置は、本実施の形態に係る磁気記録媒体としての円板状の磁気ディスク２と、磁気ディスク２に磁気情報を記録および読み出し可能な磁気ヘッド４とを具備する。

磁気ディスク２は、基体２ａと、基体２ａ上に設けられた、軟磁性であり、かつ所定の保磁力を有する磁性体から成る磁気記録層２ｂとを備える。円板状の磁気ディスク２は、その中心軸を中心として自転駆動するよう設けられる。
磁気ヘッド４は、磁気ディスク２のディスク面２ｅに対向する位置で、磁気ディスク２に対して、磁気ディスク２のほぼ径方向に相対的に移動可能に設けられる。

磁気ヘッド４からは、ディスク面２ｅに対してほぼ垂直方向の磁界ａを発することができ、それによって磁気ディスク２の磁気記録層２ｂの一部を磁化することができる。
磁気ディスク２を自転させつつ、磁気ヘッド４から発する磁界ａの方向を切り替えることにより、ディスク面２ｅの磁気記録層２ｂに、円周方向（記録トラック方向）に所定の磁気情報を記録することができる。また、磁気ヘッド４を磁気ディスク２の径方向に移動させることで、磁気情報を記録トラックをまたいで記録することができる。

図１においては、磁気記録層２ｂの磁化方向を、矢印で表している。なお、図１中の破線は、隣接する記録トラックの境界、または、記録トラック方向における１ビット（１記録単位）の境界を表している。

本実施の形態に係る磁気ディスク２は、図１に示すように、さらに、磁気記録層２ｂ上に、少なくとも軟磁性体を含む磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・を備える。
磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・は、高透磁率を有し、かつ低保磁力の、軟磁性体から構成される。例えば、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・は、鉄−コバルト合金、鉄−ニッケル合金、またはコバルト−ニッケル−鉄合金により構成すると良い。
なお、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・は、必ずしもこのような軟磁性体単体で構成する必要はなく、全体として高透磁率を得られれば良い。例えば、前述のような軟磁性体と、非磁性体とを、混合または積層した材料を用いても良い。

磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・は、磁気記録層２ｂ上に、所定パターンにパターニングされて形成される。

この所定パターンには、複数のバリエーションが考えられる。
例えば、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・を、磁気記録層２ｂ上に、記録トラックに沿った螺旋または複数の同心円状のパターンにパターニングして形成しても良い。
また、複数のドット状のパターンにパターニングして形成しても良い。このドットの配列は、例えば、記録トラックに沿った螺旋または複数の同心円上に配列するとよい。または、縦横に規則正しく並べた配列としても良いし、千鳥状の配列や、二次元の最密充填配列としても良い。

さらに、磁気ディスク２は、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・のパターン間を埋める、非磁性体または反響磁性体から成るマスク材２ｄ，２ｄ・・を備える。
マスク材２ｄ，２ｄ・・は、例えば、非磁性体として、有機物から成る高粘度の潤滑剤や、タンタル、酸化金属等を用いることができる。また、反響磁性体としてセシウム−マンガン（ＣｓＭｎ）を用いても良い。また、マスク材２ｄ，２ｄ・・として非磁性体や反響磁性体を混合または積層したものを用いても良い。
なお、マスク材２ｄ，２ｄ・・は、必ずしも設けなくとも良い。

本実施の形態に係る磁気ディスク２によれば、図１に示すように、磁気記録の際、磁気ヘッド４から発せされた磁気記録のための磁界ａが、磁気ヘッド４の直近の軟磁性体である磁気フラックスガイド材２ｃｂのパターンに引き寄せられる。磁気フラックスガイド材２ｃｂは軟磁性であるために、その磁界ａを透磁し、その磁気フラックスガイド材２ｃｂの直下の磁気記録層２ｂのみを磁化させること（矢印ｂ）ができる。この際、その磁気フラックスガイド材２ｃｂと、それに隣接する磁気フラックスガイド材２ｃａ，２ｃｃとの間は、間隙（非磁性体または反響磁性体からなるマスク材２ｄ）で分断されているため、磁界ａは、磁気ヘッド４の直近の磁気フラックスガイド材２ｃｂのみに集中して引き寄せられる。

したがって、磁気ヘッド４から発せされた磁界ａは、直近の磁気フラックスガイド材２ｃｂに集中し、磁気フラックスガイド材２ｃｂ以外の箇所へ発散することを抑えることができる。これにより、サイドイレイズを抑えることができる。また、磁気ヘッド４から発せされた磁界ａが、磁気記録層２ｂの対応するビットの位置に集中するから、当該位置における磁化状態（矢印ｂ）を強くすることができる。
このように、本実施の形態に係る磁気ディスク２によれば、サイドイレイズを防げるとともに、各ビットに対応する磁気記録層２ｂの磁化状態を強化できるから、記録密度を高めることが可能となる。

次に、磁気フラックスガイド材２ｃのパターン形状の違いによる効果の違いについて説明する。

まず、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・を、磁気ディスク２の記録トラックに沿った螺旋または複数の同心円状のパターンにパターニングした場合には、磁気ヘッド４から発せされた磁界ａが、直近の記録トラックに対応する磁気フラックスガイド材２ｃｂのパターンに向かい、サイドトラックに向かって発散することは抑えることができ、したがってサイドトラックイレイズを抑えることができる。
なお、パターンを螺旋状とするか、複数の同心円状とするかは、磁気ディスク２の記録トラックの形態に合わせて適宜選択すれば良い。

また、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・を、磁気ディスク２の記録トラックに沿った螺旋または複数の同心円上に配された、複数のドット状のパターンにパターニングした場合には、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・が、隣接する記録トラック間で分割されるとともに、記録トラック方向にも分割されてパターニングされているから、磁気ヘッド４から発せされた磁界ａが、直近の磁気フラックスガイド材２ｃｂのパターン（ドット）に向かい、サイドトラックおよび隣接するビットに向かって発散することは抑えることができ、したがって、記録トラック間およびビット間の双方のサイドイレイズを抑えることができる。
なお、ドット状のパターンを螺旋上に配置するか、複数の同心円上に配置するかは、磁気ディスク２の記録トラックの形態に合わせて適宜選択すれば良い。

また、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・を、縦横に規則正しく並べた配列や、千鳥状の配列や、二次元の最密充填配列の、複数のドット状のパターンにパターニングした場合には、各ドットを十分に微細に形成することで、各ドットを記録上の１ビットに対応させて、サイドイレイズを防ぐことができる。
なお、この構成では、磁気ディスク２の記録トラックや記録ビットの位置等を意識することなく、かつ規則正しい配列のパターンを形成すれば事足りることから、設計および製造工程を簡略化できる利点がある。

なお、上記構成に加え、さらに、図２に示すように、磁気記録層２ｂをも、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・と同パターンにパターニングした構成を採用してもよい。この場合、マスク材２ｄを、磁気記録層２ｂのパターン間をも埋めるよう設けると、より好適である。
これによれば、磁気記録層２ｂも分離されているために、サイドイレイズをより効果的に防ぐことができる。

続いて、本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の実施の形態として、上記磁気ディスク２の製造方法を説明する。

まず、基体２ａ上に、磁性体から成る磁気記録層２ｂを形成する。このステップについては、従来の磁気記録媒体の製法と異なる点はない。

続いて、図３（ａ）に示すように、その磁気記録層２ｂ上に、導電体から成るめっきベース層１０を、スパッタリングにより形成する。
このめっきベース層１０は、例えば、鉄−コバルト合金、鉄−ニッケル合金、またはコバルト−ニッケル−鉄合金といった、高透磁率材で構成できる。また、これらの高透磁率材単体に限定されず、高透磁率材と他の磁性体とを積層したものや、高透磁率材と非磁性体とを積層したものを用いても良い。

続いて、そのめっきベース層１０上に、形成すべき磁気フラックスガイド材のパターン形状にめっきベース層１０が露出するように、レジスト層１２を形成する。
このレジスト層１２は、例えば、既知の熱式や光式のインプリント法（ナノインプリント法、ナノスタンプ法等とも呼ばれる）や、既知のフォトリソグラフィ法により形成することができる。

続いて、図３（ｂ）に示すように、めっきベース層１０を給電層として、軟磁性体の電解めっきを施すことで、レジスト層１２から露出しためっきベース層１０上に、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・を形成する。
なお、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・を構成する軟磁性体としては、前述したように、例えば、鉄−コバルト合金、鉄−ニッケル合金、またはコバルト−ニッケル−鉄合金を採用できる。なお、必ずしもこのような軟磁性体単体で構成する必要はなく、全体として高透磁率を得られる材料であれば良い。例えば、前述の軟磁性体と、非磁性体とを、混合または積層して設けても良い。

次に、図３（ｃ）に示すように、レジスト層１２を除去する。
さらに、エッチングによりめっきベース層１０を除去する。このエッチングとしては、ＲＩＥ（Ｒｅａｃｔｉｖｅ Ｉｏｎ Ｅｔｃｈｉｎｇ）やイオンミル等のドライエッチング、またはウェットエッチングを採用できる。
なお、めっきベース層１０は、十分に薄く均一であれば、必ずしも除去しなくても良い。

続いて、図３（ｄ）に示すように、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・のパターン間に非磁性体または反響磁性体から成るマスク材２ｄを埋め込む。この際、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・上にもマスク材２ｄが付いても差し支えない。
マスク材２ｄ，２ｄ・・は、例えば、非磁性体として、有機物から成る高粘度の潤滑剤や、タンタル、酸化金属等を用いることができる。また、反響磁性体としてセシウム−マンガン（ＣｓＭｎ）を用いても良い。また、マスク材２ｄ，２ｄ・・として非磁性体や反響磁性体を混合または積層したものを用いても良い。

続いて、図３（ｅ）に示すように、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・およびマスク材２ｄ，２ｄ・・の表面を平坦化する。この平坦化には、ＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）や、エッチバック法を用いることができる。この際、好適には、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・上に付着したマスク材２ｄが除去され、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・の上面が露出するまで平坦化（研削）を行う。なお、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・上にマスク材２ｄが薄く残っても問題はない。

なお、磁気記録層２ｂをも、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・と同パターンにパターニングする場合には、図３（ｃ）のようにレジスト層１２を除去した後、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・をマスクとしたＲＩＥ等のエッチングにより、磁気記録層２ｂを磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・と同パターンにパターニングする。
なお、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・を、鉄−コバルト合金、鉄−ニッケル合金、またはコバルト−ニッケル−鉄合金といったＲＩＥによるエッチングレートの低い材料で構成しておくことで、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・をマスクとして用いて磁気記録層２ｂをパターニングできるのである。

次に、磁気ディスク２の製造方法の別の例を説明する。

まず、基体２ａ上に、磁性体から成る磁気記録層２ｂを形成する。
続いて、図４（ａ）に示すように、磁気記録層２ｂ上に、軟磁性体から成る軟磁性層２０を、スパッタリングにより形成する。
この軟磁性層２０はを構成する軟磁性体としては、例えば、鉄−コバルト合金、鉄−ニッケル合金、またはコバルト−ニッケル−鉄合金を採用できる。なお、必ずしもこのような軟磁性体単体で構成する必要はなく、全体として高透磁率を得られる材料であれば良い。例えば、前述の軟磁性体と、非磁性体とを、混合または積層して設けても良い。
また、特に限定されないが、軟磁性層２０の上層に、タンタルやルテニウムや鉄−コバルト合金から成る無機膜（図示せず）を形成しても良い。

続いて、軟磁性層２０上に、形成すべき磁気フラックスガイド材のパターン形状に、レジスト層２２を形成する。
このレジスト層２２は、例えば、既知の熱式や光式のインプリント法（ナノインプリント法、ナノスタンプ法等とも呼ばれる）や、既知のフォトリソグラフィ法により形成することができる。

次に、図４（ｂ）に示すように、レジスト層２２から露出した軟磁性層２０を、レジスト層２２をマスクとしたエッチングにより除去することで、軟磁性層２０を磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・としてパターニングする。
このエッチングとしては、ＲＩＥやイオンミル等のドライエッチング、またはウェットエッチングを採用できる。

続いて、図４（ｃ）に示すように、レジスト層２２を除去する。

これ以降の工程は、前述の、図３（ｄ），図３（ｅ）に示した工程と同様であるため、説明を省略する。

なお、磁気記録層２ｂをも、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・と同パターンにパターニングする場合には、図４（ｃ）または図４（ｄ）のように磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・を形成した状態で、レジスト層２２または磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・をマスクとしたＲＩＥ等のエッチングにより、磁気記録層２ｂを磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・と同パターンにパターニングする。

本実施の形態に係る磁気記録媒体（磁気ディスク２）の製造方法によれば、従来のディスクリートトラックメディアやパターンドメディアと異なり、磁気記録層２ｂはパターニングする必要がないため、磁気記録層２ｂを高品質かつ均一に形成しやすい。特に、磁気情報が記録される、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・の直下の磁気記録層２ｂは、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・（軟磁性層）で保護されて、製造工程におけるエッチングや溶剤による処理等の影響をほとんど受けることがないため、損傷等の問題が生じない。
したがって、磁気記録層２ｂを高品質かつ均一に形成することができる。

また、磁気記録層２ｂをも磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・と同パターンにパターニングする場合であっても、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・を設けた後に磁気記録層２ｂをパターニングするから、磁気情報が記録される、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・の直下の磁気記録層２ｂは、磁気フラックスガイド材２ｃ，２ｃ・・で保護されて、損傷を小さく抑えることが可能である。
したがって、従来のディスクリートトラックメディアやパターンドメディアと比較して、磁気記録層２ｂを高品質かつ均一に形成することができる。

上記実施の形態においては、垂直磁気記録方式の磁気ディスク装置（磁気記録装置）を例に説明したが、本発明に係る磁気記録媒体は、水平磁気記録式の磁気記録装置に応用することも可能である。また、本発明に係る磁気記録媒体は、円板形状（ディスク状）のものに限定されるものではなく、例えばドラム状の磁気記録媒体も含む。
以上の実施形態に関し、以下の付記を開示する。
（付記１）
基体と、
該基体上に設けられた磁気記録層と、
該磁気記録層上に、所定パターンにパターニングされて形成された、少なくとも軟磁性体を含む磁気フラックスガイド材とを備えることを特徴とする磁気記録媒体。
（付記２）
前記磁気フラックスガイド材は、前記磁気記録層上に、記録トラックに沿った螺旋または複数の同心円状のパターンにパターニングされて形成されていることを特徴とする付記１記載の磁気記録媒体。
（付記３）
前記磁気フラックスガイド材は、前記磁気記録層上に、複数のドット状のパターンにパターニングされて形成されていることを特徴とする付記１記載の磁気記録媒体。
（付記４）
前記磁気フラックスガイド材は、前記磁気記録層上に、記録トラックに沿った螺旋または複数の同心円上に配された、複数のドット状のパターンにパターニングされて形成されていることを特徴とする付記１記載の磁気記録媒体。
（付記５）
前記磁気フラックスガイド材には、少なくとも、鉄−コバルト合金、鉄−ニッケル合金、およびコバルト−ニッケル−鉄合金のうちのいずれかが含まれていることを特徴とする付記１〜４のうちのいずれか一項記載の磁気記録媒体。
（付記６）
前記磁気フラックスガイド材のパターン間を埋める、非磁性体または反響磁性体から成るマスク材を備えることを特徴とする付記１〜５のうちのいずれか一項記載の磁気記録媒体。
（付記７）
前記マスク材は、潤滑剤、タンタル、または酸化金属から成ることを特徴とする付記６記載の磁気記録媒体。
（付記８）
前記磁気記録層が、前記磁気フラックスガイド材と同パターンにパターニングされていることを特徴とする付記１〜７のうちのいずれか一項記載の磁気記録媒体。
（付記９）
付記１〜８のうちのいずれか一項記載の磁気記録媒体の製造方法であって、
前記基体上に、前記磁気記録層を形成するステップと、
前記磁気記録層上に、導電体から成るめっきベース層を形成するステップと、
前記めっきベース層上に、前記所定パターンの形状にめっきベース層が露出するように、レジスト層を形成するステップと、
前記めっきベース層を給電層として、少なくとも前記軟磁性体を含む電解めっきを施すことで、前記レジスト層から露出しためっきベース層上に、前記磁気フラックスガイド材を形成するステップと、
前記レジスト層を除去するステップとを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
（付記１０）
付記１〜８のうちのいずれか一項記載の磁気記録媒体の製造方法であって、
前記基体上に、前記磁気記録層を形成するステップと、
前記磁気記録層上に、前記軟磁性体を含む軟磁性層を形成するステップと、
前記軟磁性層上に、前記所定パターンの形状に、レジスト層を形成するステップと、
前記レジスト層から露出した前記軟磁性層を、レジスト層をマスクとしたエッチングにより除去することで、軟磁性層を前記磁気フラックスガイド材としてパターニングするステップと、
前記レジスト層を除去するステップとを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
（付記１１）
前記レジスト層から露出した前記軟磁性層を除去して露出した前記磁気記録層を、レジスト層をマスクとしたエッチングにより除去することで、磁気記録層を、前記磁気フラックスガイド材と同パターンにパターニングするステップを含むことを特徴とする付記１０記載の磁気記録媒体の製造方法。
（付記１２）
前記磁気フラックスガイド材から露出した前記磁気記録層を、磁気フラックスガイド材をマスクとしたエッチングにより除去することで、磁気記録層を、前記磁気フラックスガイド材と同パターンにパターニングするステップを含むことを特徴とする付記９または１０記載の磁気記録媒体の製造方法。
（付記１３）
前記レジスト層を、インプリント法により形成することを特徴とする付記９〜１２のうちのいずれか一項記載の磁気記録媒体の製造方法。
（付記１４）
前記磁気フラックスガイド材のパターン間を、非磁性体または反響磁性体から成るマスク材により埋めるステップを含むことを特徴とする付記９〜１３のうちのいずれか一項記載の磁気記録媒体の製造方法。
（付記１５）
前記磁気フラックスガイド材および前記マスク材の表面を、平坦化するステップを含むことを特徴とする付記１４記載の磁気記録媒体の製造方法。

本発明に係る磁気記録媒体としての磁気ディスクを備えた、垂直記録式の磁気ディスク装置の構成の説明図である。 本発明に係る磁気記録媒体において、磁気記録層を、磁気フラックスガイド材と同パターンにパターニングした構成の説明図である。 本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の説明図である。 本発明に係る磁気記録媒体の製造方法の説明図である。 従来の磁気記録媒体としての磁気ディスクを備えた、垂直記録式の磁気ディスク装置の構成の説明図である。 従来の磁気記録媒体の説明図である。

符号の説明

２ 磁気ディスク（磁気記録媒体）
２ａ 基体
２ｂ 磁気記録層
２ｃ，２ｃａ，２ｃｂ，２ｃｂ 磁気フラックスガイド材
２ｄ マスク材
４ 磁気ヘッド
１０ めっきベース層
１２ レジスト層
２０ 軟磁性層
２２ レジスト層

Claims (7)

1. 基体と、
   該基体上に設けられた磁気記録層と、
   該磁気記録層上に、所定パターンにパターニングされて形成された、少なくとも軟磁性体を含む磁気フラックスガイド材とを備えることを特徴とする磁気記録媒体。
2. 前記磁気記録層が、前記磁気フラックスガイド材と同パターンにパターニングされていることを特徴とする請求項１記載の磁気記録媒体。
3. 基体上に、磁気記録層を形成するステップと、
   前記磁気記録層上に、導電体から成るめっきベース層を形成するステップと、
   前記めっきベース層上に、所定パターンの形状にめっきベース層が露出するように、レジスト層を形成するステップと、
   前記めっきベース層を給電層として、少なくとも軟磁性体を含む電解めっきを施すことで、前記レジスト層から露出しためっきベース層上に、磁気フラックスガイド材を形成するステップと、
   前記レジスト層を除去するステップとを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
4. 基体上に、磁気記録層を形成するステップと、
   前記磁気記録層上に、軟磁性体を含む軟磁性層を形成するステップと、
   前記軟磁性層上に、所定パターンの形状に、レジスト層を形成するステップと、
   前記レジスト層から露出した前記軟磁性層を、レジスト層をマスクとしたエッチングにより除去することで、軟磁性層を磁気フラックスガイド材としてパターニングするステップと、
   前記レジスト層を除去するステップとを含むことを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
5. 前記レジスト層から露出した前記軟磁性層を除去して露出した前記磁気記録層を、レジスト層をマスクとしたエッチングにより除去することで、磁気記録層を、前記磁気フラックスガイド材と同パターンにパターニングするステップを含むことを特徴とする請求項４記載の磁気記録媒体の製造方法。
6. 前記磁気フラックスガイド材から露出した前記磁気記録層を、磁気フラックスガイド材をマスクとしたエッチングにより除去することで、磁気記録層を、前記磁気フラックスガイド材と同パターンにパターニングするステップを含むことを特徴とする請求項３または４記載の磁気記録媒体の製造方法。
7. 前記磁気フラックスガイド材のパターン間を、非磁性体または反響磁性体から成るマスク材により埋めるステップと、
   前記磁気フラックスガイド材および前記マスク材の表面を平坦化するステップとを含むことを特徴とする請求項３〜６のうちのいずれか一項記載の磁気記録媒体の製造方法。