JP2008135145A - 多層光記録媒体の製造方法、多層光記録媒体製造用スタンパ及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】簡単な工程で作製できかつ繰り返し使用が可能な多層光記録媒体製造用のスタンパを提供する。
【解決手段】多層光記録媒体の製造に用いられるスタンパにおいて、透光性の基板と、前記透光性の基板上にピット又は案内溝が形成された透光性の無機レジスト層とを有する。前記無機レジスト層は、少なくともタングステン、モリブデンのいずれかを含むことが好ましく、特に、化学量論組成から酸素が欠損したタングステン若しくはモリブデンの酸化物を含むことが好ましい。
【選択図】図１

Description

本発明は、多層光記録媒体の製造方法に関し、特に、スピンコート等を用いて光反応性硬化樹脂を基板に塗布し記録層を積層する多層光記録媒体の製造方法に関するものである。

高記録密度な情報記録再生技術として、ＤＶＤやＢＤなどの光ディスク（光記録媒体）が脚光を浴びている。近年、動画像のデジタル化の動き、装置の小型化への動きとあいまって、さらなる高記録密度化、大容量化が要求されている。

一般に、光ディスクの記録密度は、記録再生光学系のレーザ光の波長λ及び対物レンズの開口数ＮＡに大きく依存する。即ち、信号再生可能な記録ピットの空間周波数は２ＮＡ／λ程度となる。そのため、短波長技術や高ＮＡ化技術を用いた高記録密度化の研究が盛んに行われている。例えば、ＣＤでは記録再生用のレーザ光の波長が７８０ｎｍ、レンズの開口数が０．４５で６５０ＭＢであったが、ＤＶＤ−ＲＯＭではレーザ光の波長が６５０ｎｍ、レンズの開口数が０．６で４．７ＧＢの容量となっている。さらに、ＢＤではレーザ光の波長が４０５ｎｍ、レンズの開口数が０．８５で、２３ＧＢ超まで大容量化が進んだ。

一方で、記録面を複数積層することで、大容量化を実現しようという研究も盛んに行われている。例えばＤＶＤやＢＤでは記録面を二層積層することで二倍の記録容量を実現している。ＢＤでは次世代への高集積化を目指した４層メディアの開発も進んでいる。

記録面を複数積層する方法として、特許文献１及び２、非特許文献１などが提案されている。

特許文献２及び非特許文献１では、多層構成の光記録媒体の製造方法として、基板面にピットや案内溝を成形し、反射層や記録層を成膜して、第１の情報記録層を形成した後、次の工程を繰り返すことが提案されている。
（１）第１の情報記録層上に紫外線硬化樹脂またはドライフォトポリマーを形成する。
（２）その紫外線硬化樹脂またはドライフォトポリマーに樹脂スタンパを重ね合わせることによりピットや案内溝を形成してスタンパを剥離する。
（３）ピットや案内溝上に半透明膜を形成する。

ところが、上記提案は、半透明膜により紫外線硬化型樹脂やドライフォトポリマーを硬化させるための紫外線の減衰が生じるため、透明なスタンパを用いて、スタンパ側から紫外線を照射する必要があった。透明スタンパとしては、樹脂製スタンパが用いられることが考えられているが、生産性や品質上樹脂製スタンパを再利用することが困難なため、各層形成毎に樹脂製スタンパを使い捨てており、コストが高くなる問題があった。

ここで従来の多層構造の光記録媒体の従来製造方法について説明しておく。

ここで、４層の情報記録面Ｌ０層〜Ｌ３層を有する多層構成の光記録媒体の従来製造方法について、図８（図８Ａ〜図８Ｄ）を用いて説明する。図８は中心孔を有する回転対称なディスク状の断面図の片側半分を示すものであり、基板やスタンパの中心孔は省略されている。

図８−（１）において、ＰＣ基板１５は、射出成形用スタンパＡ２１を用いて射出成形されたポリカーボネート製の基板であり、ＰＣ基板１５上にはＬ０層の情報パターン１６（ピットや案内溝）が形成されている。典型的には、ＰＣ基板１５は、厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍ、中心孔径１５ｍｍである。

図８−（２）において、Ｌ０層の情報パターン１６上にＬ０層記録膜１７が成膜される。Ｌ０層記録膜１７は、典型的には、光を透過しない反射膜を含んで構成される。

図８−（３）において、Ｌ０層の上に設けられるＬ１層との間の中間層３を構成するための中間層３用２ｐ樹脂１８がＬ０層記録膜１７上に塗布される。中間層３用２ｐ樹脂１８の樹脂厚は、例えば１０μｍである。簡単のため、中間層３用２ｐ樹脂１８は単層としたが、転写性、剥離性や厚み精度を満足するために、複数の樹脂が組み合わされて使用される場合もある。

図８−（４）において、中間層３用２ｐ樹脂１８上に、Ｌ１層の情報パターンが予め形成された樹脂製の透明スタンパＡ１９−１が中心孔（図示せず）を用いて位置合わせされ、重ね合わされる。その後、ＵＶ光源５から紫外線が透明スタンパＡ１９−１越しに照射され、中間層３用２ｐ樹脂１８が硬化される。中間層３用２ｐ樹脂１８は、透明スタンパＡ１９−１に塗布されてから、ＰＣ基板１５上のＬ０層記録膜１７と重ね合わされても良い。

図８−（５）において、中間層３用２ｐ樹脂１８が硬化後、透明スタンパＡ１９−１が剥離され、ＰＣ基板１５上にはＬ１層の情報パターン１３（ピットや案内溝）が形成される。剥離された透明スタンパＡ１９−１は、紫外線を照射されたために劣化し、スタンパとして再使用できないばかりか、再利用するにも用途が制限されてしまう。

図８−（６）において、Ｌ１層の情報パターン１３上にＬ１層記録膜１４が成膜される。Ｌ１層記録膜１４は、半透明膜で構成される。

図８−（７）において、Ｌ１層の上に設けられるＬ２層との間の中間層２を構成するための中間層２用２ｐ樹脂１１がＬ１層記録膜１４上に前記と同様に塗布される。中間層２用２ｐ樹脂１１の樹脂厚は、例えば１５μｍである。

図８−（８）において、中間層２用２ｐ樹脂１１上に、Ｌ２層の情報パターンが予め形成された樹脂製の透明スタンパＢ１９−２が中心孔（図示せず）を用いて位置合わせされ、重ね合わされる。その後、前記と同様にＵＶ光源５から透明スタンパＢ１９−２越しに紫外線が照射され、中間層２用２ｐ樹脂１１が硬化される。

図８−（９）において、中間層２用２ｐ樹脂１１が硬化後、透明スタンパＢ１９−２が剥離され、ＰＣ基板１５上にはＬ２層の情報パターン９（ピットや案内溝）が形成される。前記と同様に、剥離された透明スタンパＢ１９−２は、紫外線を照射されたために劣化し、スタンパとして再使用できない。

図８−（１０）において、Ｌ２層の情報パターン９上にＬ２層記録膜１０が成膜される。前記と同様にＬ２層記録膜１０は、半透明膜で構成される。

図８−（１１）において、Ｌ２層の上に設けられるＬ３層との間の中間層１を構成するための中間層１用２ｐ樹脂７がＬ２層記録膜１０上に同様に塗布される。中間層１用２ｐ樹脂７の樹脂厚は、例えば１０μｍである。

図８−（１２）において、中間層１用２ｐ樹脂７上に、Ｌ３層の情報パターンが予め形成された樹脂製の透明スタンパＣ１９−３が中心孔（図示せず）を用いて位置合わせされ、重ね合わされる。その後、前記と同様にＵＶ光源５から透明スタンパＣ越しに紫外線が照射され、中間層１用２ｐ樹脂７が硬化される。

図８−（１３）において、中間層１用２ｐ樹脂７が硬化後、透明スタンパＣ１９−３が剥離され、ＰＣ基板１５上にはＬ３層の情報パターン４（ピットや案内溝）が形成される。前記と同様に、剥離された透明スタンパＣは、紫外線を照射されたために劣化し、スタンパとして再使用できない。

図８−（１４）において、Ｌ３層の情報パターン４上にＬ３層記録膜６が成膜される。前記と同様にＬ３層記録膜６は、半透明膜で構成される。

図８−（１５）において、Ｌ３層記録膜６上にカバーシートを構成するためのカバーシート用２ｐ樹脂２が前記同様に塗布される。カバーシート用２ｐ樹脂２の樹脂厚は例えば７０μｍである。

図８−（１６）において、ＵＶ光源５から紫外線が照射され、カバーシート用２ｐ樹脂２が硬化される。カバーシート用２ｐ樹脂２の塗布及び硬化の代わりに厚さ７０μｍの樹脂シートを貼り付けても良い。

このように、従来例においては、樹脂製の透明スタンパＡ、Ｂ、Ｃが用いられるが、これらは生産性や品質上再利用することが困難なため、各層形成毎に使い捨てており、コストが大幅に高くなる問題があった。特に、多層の層数が増えるほど、樹脂製スタンパの使い捨てによるコスト増問題は深刻となっていた。

また、特許文献３では、エッチングによりガラス素材に情報パターンに対応したパターンを形成して、これを透明スタンパとして使用する方法が提案されている。図７に示すように、石英ガラス基板７１上にフォトレジスト７２を均一に塗布する（図７−（１））。次に、このフォトレジスト７２上にレーザ光７３を用いて情報パターンに対応したパターンを記録し（図７−（２））、続いて現像処理により所望のパターンを得る（図７−（３））。次に、この基板にＣＦ₄ガスプラズマ７４中でドライエッチングを行い所望の深さで停止させる（図７−（４））。さらに残存するフォトレジスト７２を酸素（Ｏ₂）によりアッシングして除去し、ガラス製のスタンパを得る（図７−（５））方法が提案されている。
特開２００２−２６０３０７号公報 特開２００３−２０３４０２号公報 特開平１−１８８３３２号公報 松下テクニカルジャーナルＶｏｌ．５０ Ｎｏ．５ Ｏｃｔ．２００４ ｐ．６４〜６８

特許文献３の方法で製造された透明スタンパは繰り返し利用が可能となるが、ドライエッチング工程やアッシング工程の複雑な工程管理が必要となってしまう。また、ドライエッチングに用いられるＣＦ₄ガスやＣＨＦ₃ガスは、温室効果ガスとして知られており、これらのガスは使用しないことが望ましい。さらに、上記方法ではガラス素材に直接パターンを形成してしまうので、ガラス素材を再利用する際は、研磨を行う必要があった。

本発明は、上記問題点に鑑みなされたもので、その目的は、簡単な工程で作製できかつ繰り返し使用が可能な光記録媒体製造用スタンパを用いた多層光記録媒体の製造方法、それに使用可能な多層光記録媒体製造用スタンパ及びその製造方法を提供することにある。

上記課題を解決するために、本発明は、多層光記録媒体の製造に用いられるスタンパにおいて、
透光性の基板と、
前記透光性の基板上にピット又は案内溝が形成された透光性の無機レジスト層と
を有するスタンパを提供する。

また、多層光記録媒体の製造に用いられるスタンパの製造方法において、
Ａ）透光性の基板上に透光性の無機レジスト層を積層する工程と、
Ｂ）前記無機レジスト層に露光及び現像を行うことで、ピット又は案内溝を形成する工程と、
を有するスタンパの製造方法を提供する。

さらに、多層光記録媒体の製造方法において、
ａ１）ピット又は案内溝が形成された支持基板上に記録層を成膜する工程と、
ｂ１）前記記録層上に光反応性硬化樹脂からなる中間層を積層する工程と、
ｃ１）透光性の基板上にピット又は案内溝が形成された無機レジスト層を有するスタンパを介して、前記中間層に紫外線光を照射することにより、前記光反応性硬化樹脂を硬化するとともに前記スタンパに形成されている前記ピット又は案内溝を前記中間層に転写する工程と、
ｄ１）前記スタンパに形成されている前記ピット又は案内溝が転写された前記中間層上に記録層を積層する工程と、
を有する多層光記録媒体の製造方法を提供する。

さらに、多層光記録媒体の製造方法において、
ａ２）ピット又は案内溝が形成された支持基板上に光反応性硬化樹脂からなる中間層を形成する工程と、
ｂ２）透光性の基板上にピット又は案内溝が形成された無機レジスト層を有するスタンパを介して、前記中間層に紫外線光を照射することにより、前記光反応性硬化樹脂を硬化するとともに前記スタンパに形成されている前記ピット又は案内溝を前記樹脂層に転写する工程と、
ｃ２）前記スタンパに形成されている前記ピット又は案内溝が転写された前記中間層上に記録層を積層する工程と、
ｄ２）前記支持基板を剥離した上で、前記支持基板に形成されているピット又は案内溝が転写された前記中間層上に記録層を積層する工程と、
を有する多層光記録媒体の製造方法を提供する。

これらの多層光記録媒体の製造方法において、前記スタンパを他の多層光記録媒体の製造に再利用する工程を更に有することが好ましい。

さらに、前記無機レジスト層は、前記露光に使用する露光光に対して１０％以上の吸収率を有し、前記紫外線光に対して１５％以上の透過率を有することが好ましい。

さらに、前記無機レジスト層は、少なくともタングステン、モリブデンのいずれかを含むことが好ましい。

さらに、前記無機レジスト層は、タングステン若しくはモリブデンの化学量論組成から酸素が欠損した酸化物を含むことが好ましい。

前記無機レジスト層は、前記現像によって露光部が凸になるネガ型のレジスト、又は前記現像によって露光部が凹になるポジ型のレジストであることが好ましい。

前記透光性の基板は、ガラス、石英、透明セラミックのいずれかを含むことが好ましい。

なお、本発明の多層光記録媒体としては、光ディスク、光カード、光テープ等が挙げられる。

本発明によれば、簡単な工程で作製できかつ繰り返し使用が可能な透明スタンパを用いるため、低コスト化を図ることが出来る。

本発明の実施の形態について説明する。

図１を用いて本発明の光ディスクの製造方法の概念を説明する。図１は本発明による光ディスクの製造方法を説明する模式図である。

まず、スタンパの説明をする。

図１−（１）に示すように、透明基板１１１上にレジスト１１２を形成する。透明基板としては、ガラス基板、石英基板、透明セラミック基板等の透光性を有する基板を用いる。また、透明基板１１１は、厚さが情報信号パターンを転写させる際に充分な強度及び透過率があれば良く、例えば、厚さが０．５ｍｍ〜２０ｍｍ、直径８０〜１２０ｍｍ、中心孔径１０〜１５ｍｍのものが好適である。典型的には、直径および中心孔径は最終的に作製されるディスクと略同じで、例えばそれぞれ１２０ｍｍ、１５ｍｍの例を用いて説明する。

レジスト１１２としては、少なくともタングステン、モリブデンのいずれかを含む透光性を有する無機レジスト層を用いることができる。例えば、化学量論組成から微量に酸素が欠損した組成の酸化タングステンＷＯ、またはモリブデンが添加されたＷＭｏＯ等のタングステン若しくはモリブデンの酸化物を用いることができる。形成されるレジスト１１２の厚さは、所望の凹凸となる厚さになるように調整すればよく、例えば、２０ｎｍ〜１０００ｎｍとすることが好ましい。

ＷＯまたはＷＭｏＯの酸化物は、化学量論組成においては紫外線に対して吸収が著しく小さいが、化学量論組成から僅かでも酸素含有量がずれると、紫外線に対する吸収が大きくなることが知られている。よって、化学量論組成から微量に酸素を欠損させた前記レジストは、露光用の光を吸収することにより熱によって膜の状態が変わり、露光部と未露光部とでアルカリ溶液に対するエッチングレートが変化し、レジストとして機能する。また、前記レジストは低分子であるために、高分子からなる有機レジストに比べて未露光部と露光部との境界が明瞭となるので、高精度なレジストパターンを得ることができる。

また、前記レジストは、酸素欠損量が少なく化学量論組成に近い組成では透過率が高く、酸素欠損量が多くなると透過率が低くなっていく。また、紫外線領域においては、光の波長が短くなるほど吸収率は大きく透過率は小さくなる。すなわち、組成と膜厚を調整することで、露光用の光に対しては充分な吸収率を持たせ、中間層用の光反応性硬化樹脂硬化用の光に対しては硬化に充分な透過率を持たせることが可能になる。

ここで、ＷＯは成膜条件を変えることで、露光部が凸となるネガ型レジストとしても、露光部が凹となるポジ型レジストとしても機能する。また、ＷＯに対してＭｏを添加していくと、露光時の感度を高くすることができる。

本発明は、レジストが、レジストを露光する露光光に対して１０％以上の吸収率を持ち、現像を行うことでピットもしくは案内溝に対応した凹凸を形成することによって得られたスタンパを用いることが好ましい。そして、得られたスタンパは、一方の面側から紫外線光を照射することによって他方の面側に配置されている光反応性硬化樹脂を硬化可能である。特に、スタンパが、光反応性硬化樹脂を硬化させるために照射する紫外線の波長帯域内で最も透過率が高い波長において１５％以上の透過率を持つことが好ましい。しかし、光反応性硬化樹脂の硬化時間を考慮すれば数ｓで硬化可能な１９％以上が好ましい。

図１−（２）は前記透明基板１１１とレジスト１１２を斜め上から見た図である。露光用の光１１３をレジストに集光させ、ガラス基板を回転させながら、露光用の光をガラス基板の半径方向１１４に移動させることで、レジスト上から螺旋状に情報パターン（ピットや案内溝）に対応したパターン露光をした。このとき、図１−（３）に示すように、露光領域の膜質が変化する。さらに、図１−（４）に示すように、所望の溝深さが得られる条件で現像を行うことで情報パターン（ピットや案内溝）を得る。前記、ガラス基板上のレジスト（酸化タングステンを含む）に情報パターン（ピットや案内溝）を形成した状態のものを透明スタンパ１１５として使用する。

本発明による透明スタンパは、従来透明スタンパを製造するために必要とされる電鋳装置、裏面研磨装置、射出成型機、ＲＩＥ装置を使用する必要が無く、成膜及び露光現像と言う簡便な方法で製造することができる。また、本発明による透明スタンパは、低分子レジストを用いているため高精度な情報パターンを得ることができる。

次に、図１−（５）に示すように、例えば中間層用の光反応性硬化樹脂１１７を塗布された支持基板１１６と、透明スタンパ１５とを重ね合わせ、その後、前記透明スタンパ１１５を通して紫外線を照射することによって、光反応性硬化樹脂１１７を硬化させる。

次に、図１−（６）に示すように、支持基板１１６から透明スタンパ１１５を剥離することで情報パターン１１８を光反応性硬化樹脂１１７上に形成する。

本発明による透明スタンパは、無機材料で出来ているため、紫外線によって劣化することなく、繰り返し使用することが出来る。

以下、本発明に従う光ディスクの製造方法の詳細な実施例を用いて説明するが、この構成に限定するものではない。

（実施例１）
本実施例では、Ｌ０層とＬ１層の２つの情報記録面を持つ光ディスクの製造方法を例に説明する。Ｌ０層を本発明による透明スタンパを用いて形成する。レジストとして化学量論組成から微量に酸素が欠損した組成の酸化タングステンＷＯを例に説明する。本実施例１で用いる、化学量論組成から酸素が微量に欠損した酸化タングステンＷＯは、露光用の光を照射することで膜の状態が変わり、アルカリ溶液による現像で露光部が凸となるネガ型レジストである。

まず、実施例１による光ディスク製造用透明スタンパの製造方法を説明する。

図１の説明と同様の手順で製造する。透明基板として厚さ１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍの石英基板を用いた。まず石英基板上に、化学量論組成から微量に酸素が欠損した酸化タングステンＷＯを形成する。Ｗを含んだＷＯ_xターゲットを、Ａｒガス５０ｓｃｃｍとＯ₂ガス４０ｓｃｃｍの雰囲気中でスパッタリングすることでＷＯを形成した。組成はＡｒガスとＯ₂ガスの比率を変えることで調整することができる。膜厚はスパッタリング時間で調整することができる。実施例１では、露光前の膜厚は１００ｎｍとし、露光光である３５１ｎｍの波長の光に対して１０％の吸収率を持つ組成とした。

次に、露光を行う。図１−（２）で説明したように、露光用の光をレジストに集光させ、石英基板を回転させながら、露光用の光を石英基板の半径方向に移動させることで、レジスト上からＬ０層用の情報パターン３０４（ピットや案内溝）に対応したパターン露光をした。実施例１では、露光用の光の波長は３５１ｎｍとした。データ記録領域の露光条件は、線速０．７ｍ／ｓ、パワー１．４ｍＷとした。トラックピッチＴＰは３２０ｎｍとした。

ここで、露光時のレジスト膜厚や露光光に対する吸収率を限定するものではない。また、露光光の波長を限定するものでもない。露光によってレジストの膜質を変化させることが出来るような条件（波長、線速、パワー）とレジスト条件の組み合わせ選ぶ事ができる。また、現像後の透過率も限定するものではなく、後述する中間層用２ｐ樹脂を紫外線によって硬化させることが出来れば良い。現像後の透過率は現像後の膜厚にも依存する。

次に、アルカリ現像液を用いて未露光部のレジストを除去し、データ記録領域の溝深さがｄ＝２０ｎｍになるように現像を行う事で透明スタンパ３００を製造した。ここで情報トラック側がスタンパ基板に対して凸になっている。

前記透明スタンパ３００は、現像後の状態で３５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長の光に対して最高８０％の透過率があった。

次に図３を用いて実施例１による光ディスクの製造方法を説明する。図３は中心孔を有する回転対称なディスク状の断面図の片側半分を示すものであり、基板やスタンパの中心孔は省略されている。また、全ての行程は、記録再生用の光束入射面を下にして図示されている。

図３−（１）に示すように、スタンパＡ３０１はＬ１層の情報パターン３０２（ピットや案内溝）が形成されている。スタンパＡは透明である必要は無い。スタンパＡ３０１は、例えばニッケル製等のものが好適である。スタンパＡ３０１としては、厚さ０．２〜２ｍｍ、直径８０〜１２０ｍｍ、内径１０〜１５ｍｍのものが好適である。典型的には、スタンパＡ３０１は、厚さ０．３ｍｍ、直径および中心孔径は最終的に作製されるディスクと略同じで、例えばそれぞれ１２０ｍｍ、１５ｍｍである。本実施例ではスタンパに対して情報トラック（情報Ｔｒ）が凹になっている、厚さ０．３ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍのニッケルスタンパを用いた。

スタンパＡ上にＬ０層とＬ１層との間の中間層を構成するための中間層用２ｐ樹脂（光反応性硬化樹脂）３０３を塗布する。中間層用２ｐ樹脂３０３は、中心孔（図示しない）を有するスタンパＡ３０１の内周側に円環状に滴下され、スタンパＡ３０１を回転させて振り切り、均一の厚み（第１の一定な厚み）とした。中間層用２ｐ樹脂３０３としては、後に行う紫外線照射により硬化可能な樹脂から適宜選択すればよい。例えばエポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、シリコンアクリレート樹脂等が好ましく用いられる。中間層用２ｐ樹脂３０３の樹脂厚は、例えば２５μｍである。簡単のため、中間層用２ｐ樹脂３０３は単層としたが、転写性、剥離性や厚み精度を満足するために、複数の樹脂が組み合わされて使用される場合もある。

図３−（２）に示すように、透明スタンパ３００は前述したＷＯを含む透明なスタンパであり、Ｌ０層の情報パターン３０４（ピットや案内溝）が形成されている。記録トラック（記録Ｔｒ）側がスタンパに対して凸となっている。中間層用２ｐ樹脂３０３が塗布されたスタンパＡ３０１と、透明スタンパ３００を、Ｌ０層の情報パターン３０４とＬ１層の情報パターン３０２が対向する向きで重ねあわせた。この時、中心孔（図示せず）を用いて位置合わせをおこなった。その後、前記透明スタンパ３００を通して紫外線（波長は３４５〜４００ｎｍ）を照射することによって、中間層用２ｐ樹脂３０３を硬化させた。中間層１用２ｐ樹脂３０３を硬化させるために、必要なＵＶ照射時間は２秒未満であった。ここで、中間層用２ｐ樹脂３０３は、透明スタンパ３００に塗布されてから、スタンパＡ上に重ね合わされても良い。

図３−（３）に示すように、中間層用２ｐ樹脂３０３を硬化後、透明スタンパ３００を剥離することで、Ｌ０層の情報パターン３０４が形成される。剥離された透明スタンパ３００は、ＵＶ光束を照射しても劣化することはなく、繰り返し使用することが可能である。

図３−（４）に示すように、Ｌ０層の情報パターン３０４上にＬ０層記録膜３０５を成膜した。Ｌ０層記録膜３０５は典型的には、光を透過しない反射膜か反射膜を含んで構成される。本実施例では、例えばスパッタリング法を用いて、誘電体膜、Ｌ０記録膜、誘電体膜、Ｌ０反射膜の順に成膜した。

図３−（５）に示すように、Ｌ０層と支持基板を接着するための接着用２ｐ樹脂３０６が塗布される。接着用２ｐ樹脂３０６は、中心孔（図示しない）を有するスタンパＡの内周側に円環状に滴下され、透明スタンパを回転させて振り切り、均一の厚みとした。樹脂厚は例えば１０〜２０μｍであるが、一定厚みでありさえすれば良い。接着用２ｐ樹脂３０６は転写性を考慮する必要がなく、密着性と厚み精度を満足すれば良いので単層構成で十分である。

図３−（６）に示すように、スタンパＡ３０１と、透明支持基板３０７を重ね合わせた。この時、中心孔（図示せず）を用いて位置合わせをおこなった。その後、ＵＶ光源３１０から透明支持基板３０７を通して紫外線を照射し、接着用２ｐ樹脂３０６を硬化する。透明支持基板３０７としては、ポリカーボネート（ＰＣ）基板以外に、シクロオレフィン基板、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）基板、ガラス基板等も好ましく用いられる。また、透明支持基板３０７としては、厚さ０．５〜１０ｍｍ、直径８０〜１２０ｍｍ、中心孔径１０〜１５ｍｍのものが好適である。典型的には、直径および中心孔径は最終的に作製されるディスクと略同じで、例えばそれぞれ１２０ｍｍ、１５ｍｍである。本実施例は透明支持基板３０７として、厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍ、中心孔径１５ｍｍの透明ＰＣ支持基板を用いた。ここで、ＰＣ基板は、ＵＶ照射により透過率などの光学特性が多少劣化していても、記録再生のための光束は透明支持基板３０７を通過することはないので、問題はない。

図３−（７）に示すように、透明支持基板３０７を接着後、スタンパＡを剥離することで、透明支持基板３０７上にはＬ１層の情報パターン３０２が形成される。

図３−（８）に示すように、Ｌ１層の情報パターン３０２上にＬ１層記録膜３０８を成膜した。Ｌ１層記録膜３０８は、半透明膜で構成される。例えばスパッタリング法を用いて、Ｌ１高屈折率膜、Ｌ１反射膜、Ｌ１誘電体膜、Ｌ１記録膜、誘電体膜の順に成膜した。

図３−（９）に示すように、Ｌ１層記録膜３０８上に、カバーシート（樹脂保護層）を構成した。カバーシート用２ｐ樹脂３０９を、中心孔（図示しない）を有する透明支持基板３０７の内周側に円環状に滴下し、透明支持基板３０７を回転させて振り切り、均一の厚みとした。カバーシート用２ｐ樹脂３０９としては、後に行う紫外線照射により硬化可能な樹脂から適宜選択すればよい。例えば、エポキシアクリレート樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、シリコンアクリレート樹脂等が好ましく用いられる。カバーシート用２ｐ樹脂３０９の樹脂厚は、４０〜１００μｍとすることが好ましく、例えば７５μｍである。その後、ＵＶ光源３１０から紫外線を照射し硬化し、本実施例における２層構成の光記録媒体が完成する。

ここで、図２を用いて記録膜の構成について説明する。

図２は完成した実施例１の２層光記録媒体の断面図である。透明支持基板２１５上に、透明支持基板側から記録層Ｌ０層２１７とＬ１層２１４が中間層２０７を介して配置され、カバー層２０２がＬ１層２１４上を覆っている。記録再生のための光束は矢印（記録再生用光束入射方向）２２３の方向から媒体に入射する。

Ｌ０層２１７とＬ１層２１４それぞれの記録膜は、記録型のものを例に説明する。それぞれの記録膜は、追記型でも書き換え型でも良いし、それらの組み合わせでも良い。

図３−（４）において説明したように、Ｌ０層の情報パターン２１６上にＬ０層記録膜２１７が以下の手順で成膜される。まず、中間層２０７上に形成されたＬ０層の情報パターン２１６上に、Ｌ０誘電体層２２８、必要に応じてＬ０界面層２２７、Ｌ０記録層２２６、必要に応じてＬ０界面層２２５、Ｌ０反射層２２４が順次成膜される。

すなわち本実施例１のＬ０層２１７は記録再生用の光束入射方向側の層から順次積層していくため誘電体層−記録層−反射層の順で成膜がなされる。

図３−（８）において説明したように、Ｌ１層の情報パターン上にＬ１層記録膜が以下の手順で成膜される。まず、案内溝やピットの形成されたＬ１層の情報パターン２１３上に、必要に応じてＬ１高屈折率層２２９、Ｌ１反射層２３０、必要に応じてＬ１界面層２３１、Ｌ１記録層２３２、必要に応じてＬ１界面層２３３、Ｌ１誘電体層２３４が順次成膜される。すなわち、情報パターン上に、反射層−記録層−誘電体層の順番で成膜がなされる。

通常の２層光記録媒体においては、記録再生用の光束入射方向と逆側の層から順次積層していくため、反射層−記録層−誘電体層の順番で成膜を行っていた。反射層としては主に銀合金やアルミ合金が用いられているが、これらの材料は成膜時に粒塊が出来てしまう。そのため、反射層の成膜後に記録層を成膜すると、記録層もこの粒塊を反映した形状になってしまううえ、ＷＯレジストの良好な溝形状もうもれてしまう。その結果、メディアノイズの増加につながり、信号にも悪影響を与えてしまっていた。

本実施例１によれば、Ｌ０層は記録再生用の光束入射方向側の層から順次膜を積層していくため誘電体層−記録層−反射層の順で成膜する。ここで、誘電体層は反射層と比較して表面性が良い。その結果、本発実施例によれば、反射層の表面性の悪影響も受けず、ＷＯレジストの良好な溝形状の特性も活かせる。

後述する比較例１のＬ０層は通常通り反射層−記録層−誘電体層の順番で成膜している。比較例１のＬ０層と比較して実施例１のＬ０層のメディアノイズは、約５ｄＢ低減していた。

こうして作製した光ディスクに対してレーザ波長４０５ｎｍ、対物レンズのＮ．Ａを０．８５の光学系を用いて、線速４．９２ｍ／ｓにおいて、容量２５ＧＢの（１−７）変調のランダムデータを用いて信号の再生評価を行った。リミットイコライザで等化してＤａｔａ ｔｏ Ｃｌｏｃｋでジッタを測定したところ、Ｌ０層では５．０％、Ｌ１層では６．７％の充分な値を得ることが出来た。

本発明の光ディスクの製造方法によれば、製造工程が簡便でかつ、繰り返し利用可能な透明スタンパを用いるため、他の多層構成の光ディスクにも用いることができる。これにより安価な多層構成の光ディスクを供給することが可能になる。

本実施例の光ディスクの製造方法によれば、ネガ型の透明スタンパを用いて記録再生用の光束入射方向側から積層していくため、記録膜よりも後に反射膜をする工程になる。その結果、反射膜の荒れた表面性の影響受けず、良好な特性が得られる。

（比較例１）
比較例１では、Ｌ０層とＬ１層の２つの情報記録面を持つ光ディスクの製造方法を例に説明する。Ｌ１層の形成には、射出成形用スタンパを用いて射出成形された樹脂製の透明スタンパを用いる。

次に図４を用いて比較例１による光ディスクの製造方法を説明する。図４は中心孔を有する回転対称なディスク状の断面図の片側半分を示すものであり、基板やスタンパの中心孔は省略されている。また、全ての行程は、記録再生用の光束入射面を下にして図示されている。

まず、図４−（１）に示すように、射出成型により、Ｌ０層の情報パターン４０２（ピットや案内溝）が形成されている厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍ、中心孔径１５ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板４０１を形成した。情報トラックが凸になっている。

次に、図４−（２）に示すように、Ｌ０層の情報パターン４０２上にＬ０層記録膜４０３を成膜した。Ｌ０層記録膜４０３は典型的には、光を透過しない反射膜か反射膜を含んで構成される。本実施例では、例えばスパッタリング法を用いて、Ｌ０反射膜、誘電体膜、Ｌ０記録膜、誘電体膜、の順に成膜した。

図４−（３）に示すように、Ｌ０層とＬ１層との間の中間層を構成するための中間層用２ｐ樹脂（光反応性硬化樹脂）４０４を実施例１と同様例えば２５μｍの厚さで塗布した。

図４−（４）に示すように、透明スタンパ４００は樹脂製の透明スタンパであり、Ｌ１層の情報パターン４０５（ピットや案内溝）が形成されている。情報トラックがスタンパに対して凹になっている。中間層用２ｐ樹脂４０４が塗布されたポリカーボネート基板４０１と、透明スタンパ４００を、Ｌ０層の情報パターンとＬ１層の情報パターンが対向する向きで重ねあわせた。この時、中心孔（図示せず）を用いて位置合わせをおこなった。その後、透明スタンパ４００を通して紫外線を照射することによって、中間層用２ｐ樹脂４０４を硬化させた。

図４−（５）に示すように、中間層用２ｐ樹脂４０４を硬化後、透明スタンパ４００を剥離することで、Ｌ１層の情報パターン４０５が形成される。剥離された透明スタンパ４００は、紫外線を照射されたために劣化し、スタンパとして再使用できないばかりか、再利用するにも用途が制限されてしまう。

図４−（６）に示すように、Ｌ１層の情報パターン４０５にＬ１層記録膜４０６を成膜した。Ｌ１層記録膜４０６は、半透明膜で構成される。例えばスパッタリング法を用いて、Ｌ１高屈折率膜、Ｌ１反射膜、Ｌ１誘電体膜、Ｌ１記録膜、誘電体膜の順に成膜した。

図４−（７）に示すように、Ｌ１層記録膜４０６上に、カバーシート用２ｐ樹脂（樹脂保護層）４０７を構成した。実施例１と同様にカバーシート用２ｐ樹脂４０７を例えば７５μｍ塗布した。その後、ＵＶ光源から紫外線を照射し硬化し、本比較例における２層構成の光記録媒体が完成する。

こうして作製した光ディスクに対してレーザ波長４０５ｎｍ、対物レンズのＮ．Ａを０．８５の光学系を用いて、線速４．９２ｍ／ｓにおいて、容量２５ＧＢの（１−７）変調のランダムデータを用いて信号の再生評価を行った。リミットイコライザで等化してＤａｔａ ｔｏ Ｃｌｏｃｋでジッタを測定したところ、Ｌ０層では６．０％、Ｌ１層では６．７％の値が得られた。

本比較例では、樹脂製の透明スタンパ４００が使い捨てになったうえ、実施例１と比べてＬ０層のメディアノイズ高くなりジッタ値も悪化している。

（実施例２）
本実施例では、Ｌ０層、Ｌ１層、Ｌ２層及びＬ３層の４つの情報記録面を持つ光ディスクの製造方法を例に説明する。Ｌ０層、Ｌ１層、Ｌ２層及びＬ３層の全てを本発明による透明スタンパを用いて形成する。透明スタンパを形成するレジストとしては、実施例１と同じネガ型レジストのＷＯを用いる。

まず、実施例１と同様の工程で、Ｌ０層用の透明スタンパ、Ｌ１層用の透明スタンパ、Ｌ２層用の透明スタンパ、Ｌ３層用の透明スタンパを作製した。それぞれ、Ｌ０層、Ｌ１層、Ｌ２層及びＬ３層用の情報パターン（ピットや案内溝）に対応した露光パターンを形成した。ここで情報トラック側がスタンパ基板に対して凸になっている。

次に図５（図５Ａ〜図５Ｂ）を用いて実施例２による光ディスクの製造方法を説明する。図５は中心孔を有する回転対称なディスク状の断面図の片側半分を示すものであり、基板やスタンパの中心孔は省略されている。また、全ての行程は、記録再生用の光束入射面を下にして図示されている。実施例２は、Ｌ３層側から順次、Ｌ２層、Ｌ１層、Ｌ０層と形成していく。

図５−（１）に示すように、支持基板上にカバーシート（樹脂保護層）を構成するためのカバーシート用２ｐ樹脂（光反応性硬化樹脂）を塗布する。支持基板としては、平坦性（チルト特性、表面性）と強度を満たしていれば良く、樹脂基板、金属基板、ガラス基板等が好ましく用いられる。支持基板は透明である必要は無いが、厚さ０．５〜１０ｍｍ、直径８０〜１５０ｍｍ、内径１０〜１５ｍｍのものが好適である。典型的には、直径および中心孔径は最終的に作製されるディスクと略同じで、例えばそれぞれ１２０ｍｍ、１５ｍｍである。本実施例では、厚さ１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍ、のガラス基板を用いた。

カバーシート用２ｐ樹脂は、中心孔（図示しない）を有するガラス基板の内周側に円環状に滴下し、ガラス基板を回転させて振り切り、均一の厚みとした。カバーシート用２ｐ樹脂としては、実施例１と同様に、後に行う紫外線照射により硬化可能な樹脂から適宜選択すればよい。カバーシート用２ｐ樹脂の樹脂厚は、４０〜１００μｍとすることが好ましく、例えば７０μｍである。

図５−（２）において、Ｌ３用透明スタンパは前述したＷＯを含む透明なスタンパであり、Ｌ３層の情報パターン（ピットや案内溝）が形成されている。カバーシート用２ｐ樹脂上に、Ｌ３用透明スタンパを、中心孔（図示せず）を用いて位置合わせして重ね合わせた。その後、Ｌ３用透明スタンパを通して紫外線を照射することによって、カバーシート用２ｐ樹脂を硬化した。カバーシート用２ｐ樹脂は、Ｌ３用透明スタンパに塗布してから、ガラス基板と重ね合わせても良い。簡単のため、カバーシート用２ｐ樹脂は単層としたが、転写性、剥離性や厚み精度を満足するために、複数の樹脂が組み合わされて使用される場合もある。

図５−（３）に示すように、カバーシート用２ｐ樹脂を硬化後、Ｌ３用透明スタンパを剥離することで、ガラス基板上にＬ３層の情報パターン（ピットや案内溝）が形成される。剥離されたＬ３用透明スタンパは、ＵＶ光束を照射しても劣化することはなく、繰り返し使用することが可能である。

図５−（４）に示すように、Ｌ３層の情報パターン上にＬ３層記録膜を成膜した。Ｌ３層記録膜は、半透明膜で構成される。

図５−（５）に示すように、Ｌ３層記録膜上に、Ｌ３層とＬ２層との間の中間層を構成するための中間層用２ｐ樹脂が塗布した。中間層用２ｐ樹脂は、中心孔（図示しない）を有するガラス基板の内周側に円環状に滴下し、ガラス基板を回転させて振り切り、均一の厚みとした。中間層用２ｐ樹脂としては、実施例１と同様に、後に行う紫外線照射により硬化可能な樹脂から適宜選択すればよい。中間層用２ｐ樹脂の樹脂厚は、例えば１０μｍである。

図５−（６）において、Ｌ２用透明スタンパは前述したＷＯを含む透明なスタンパであり、Ｌ２層の情報パターン（ピットや案内溝）が形成されている。中間層用２ｐ樹脂上に、Ｌ２用透明スタンパを、中心孔（図示せず）を用いて位置合わせして重ね合わせた。その後、Ｌ２用透明スタンパを通して紫外線を照射することによって、中間層用２ｐ樹脂を硬化した。中間層用２ｐ樹脂は、Ｌ２用透明スタンパに塗布してから、ガラス基板上に重ね合わせても良い。簡単のため、中間層用２ｐ樹脂は単層としたが、転写性、剥離性や厚み精度を満足するために、複数の樹脂が組み合わされて使用される場合もある。

図５−（７）に示すように、中間層用２ｐ樹脂を硬化後、Ｌ２用透明スタンパを剥離することで、Ｌ２層の情報パターン（ピットや案内溝）が形成される。剥離されたＬ２用透明スタンパは、ＵＶ光束を照射しても劣化することはなく、繰り返し使用することが可能である。

図５−（８）に示すように、Ｌ２層の情報パターン上にＬ２層記録膜を成膜した。Ｌ２層記録膜は、半透明膜で構成される。

図５−（９）に示すように、Ｌ２層記録膜上に、Ｌ２層とＬ１層との間の中間層を構成するための中間層用２ｐ樹脂を塗布した。中間層用２ｐ樹脂は、中心孔（図示しない）を有するガラス基板の内周側に円環状に滴下し、ガラス基板を回転させて振り切り、均一の厚みとした。中間層用２ｐ樹脂としては、実施例１と同様に、後に行う紫外線照射により硬化可能な樹脂から適宜選択すればよい。中間層用２ｐ樹脂の樹脂厚は、例えば１５μｍである。

図５−（１０）において、Ｌ１用透明スタンパは前述したＷＯを含む透明なスタンパであり、Ｌ１層の情報パターン（ピットや案内溝）が形成されている。中間層用２ｐ樹脂上に、Ｌ１用透明スタンパを、中心孔（図示せず）を用いて位置合わせして重ね合わせた。その後、Ｌ１用透明スタンパを通して紫外線を照射することによって、中間層用２ｐ樹脂を硬化した。中間層用２ｐ樹脂は、Ｌ１用透明スタンパに塗布してから、ガラス基板上に重ね合わせても良い。簡単のため、中間層用２ｐ樹脂は単層としたが、転写性、剥離性や厚み精度を満足するために、複数の樹脂が組み合わされて使用される場合もある。

図５−（１１）に示すように、中間層用２ｐ樹脂を硬化後、Ｌ１用透明スタンパを剥離することで、Ｌ１層の情報パターン（ピットや案内溝）が形成される。剥離されたＬ１用透明スタンパは、ＵＶ光束を照射しても劣化することはなく、繰り返し使用することが可能である。

図５−（１２）に示すように、Ｌ１層の情報パターン上にＬ１層記録膜を成膜した。Ｌ１層記録膜は、半透明膜で構成される。

図５−（１３）に示すように、Ｌ１層記録膜上に、Ｌ１層とＬ０層との間の中間層を構成するための中間層用２ｐ樹脂を塗布した。中間層用２ｐ樹脂は、中心孔（図示しない）を有するガラス基板の内周側に円環状に滴下し、ガラス基板を回転させて振り切り、均一の厚みとした。中間層用２ｐ樹脂としては、実施例１と同様に、後に行う紫外線照射により硬化可能な樹脂から適宜選択すればよい。中間層用２ｐ樹脂の樹脂厚は、例えば１０μｍである。

図５−（１４）において、Ｌ０用透明スタンパは前述したＷＯを含む透明なスタンパであり、Ｌ０層の情報パターン（ピットや案内溝）が形成されている。中間層用２ｐ樹脂上に、Ｌ０用透明スタンパを、中心孔（図示せず）を用いて位置合わせして重ね合わせた。その後、Ｌ０用透明スタンパを通して紫外線を照射することによって、中間層用２ｐ樹脂を硬化した。中間層用２ｐ樹脂は、Ｌ０用透明スタンパに塗布してから、ガラス基板上に重ね合わせても良い。簡単のため、中間層用２ｐ樹脂は単層としたが、転写性、剥離性や厚み精度を満足するために、複数の樹脂が組み合わされて使用される場合もある。

図５−（１５）に示すように、中間層用２ｐ樹脂を硬化後、Ｌ０用透明スタンパを剥離することで、Ｌ０層の情報パターン（ピットや案内溝）が形成される。剥離されたＬ０用透明スタンパは、ＵＶ光束を照射しても劣化することはなく、繰り返し使用することが可能である。

図５−（１６）に示すように、Ｌ０層の情報パターン上にＬ０層記録膜を成膜した。Ｌ０層記録膜は典型的には、光を透過しない反射膜か反射膜を含んで構成される。

図５−（１７）に示すように、Ｌ０層と透明支持基板を接着するための接着用２ｐ樹脂を塗布した。接着用２ｐ樹脂は、中心孔（図示しない）を有するガラス基板の内周側に円環状に滴下し、ガラス基板を回転させて振り切り、均一の厚みとした。接着用２ｐ樹脂としては、実施例１と同様に、後に行う紫外線照射により硬化可能な樹脂から適宜選択すればよい。接着層用２ｐ樹脂の樹脂厚は、例えば１０〜２０μｍであるが、一定厚みでありさえすれば良い。接着用２ｐ樹脂は転写性を考慮する必要がなく、密着性と厚み精度を満足すれば良いので単層構成で十分である。

図５−（１８）に示すように、接着用２ｐ樹脂上に、透明支持基板を、中心孔（図示せず）を用いて位置合わせして重ね合わせた。その後、透明支持基板を通して紫外線を照射することによって、接着用２ｐ樹脂を硬化した。透明支持基板としては、実施例１と同様の材料が好ましく用いられる。本実施例は透明支持基板として、厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍ、中心孔径１５ｍｍの透明ＰＣ支持基板を用いた。ここで、ＰＣ基板は、ＵＶ照射により透過率などの光学特性が多少劣化していても、記録再生のための光束は透明支持基板を通過することはないので、問題はない。

図５−（１９）に示すように、接着用２ｐ樹脂を硬化後、支持基板を剥離することで、実施例２の４層構成の光ディスクが完成する。

ここで、記録膜の構成について説明する。

図５−（４）、（８）、（１２）及び（１６）において説明したように、Ｌ３〜Ｌ０層の情報パターン上にＬ３〜Ｌ０層記録膜が以下の手順で成膜される。まず、案内溝やピットの形成されたＬ３〜Ｌ０層の情報パターン上に、誘電体層が成膜され、必要に応じて界面層、記録層、必要に応じて界面層、反射層、必要に応じて高屈折率層が順次成膜される。すなわち、情報パターン上に、誘電体層−記録層−反射層の順番で成膜がなされる。また、必要に応じて、記録膜と反射層の間には誘電体層があっても良い。

次に図６を用いて、Ｌ０〜Ｌ３層記録膜の構成について詳述する。図６は完成した本発実施例の４層光記録媒体の断面図である。透明支持基板７１５上に、透明支持基板側から４層の記録層Ｌ０層７１７、Ｌ１層７１４、Ｌ２層７１０、Ｌ３層７０６が接着層７２０、中間層７１８、７１１、７０７を介して配置され、カバー層７０２がＬ３層上を覆っている。記録再生のための光束は矢印（光束入射方向）７２３の方向から媒体に入射する。

Ｌ０〜Ｌ３層それぞれの記録膜７１７、７１４、７１０、７０６は、記録型のものを例に説明する。それぞれの記録膜は、追記型でも書き換え型でも良いし、それらの組み合わせでも良い。

図５−（４）において、Ｌ３層の情報パターン上にＬ３層記録膜が以下の手順で成膜される。まず、案内溝やピットの形成されたＬ３層の情報パターン上に、Ｌ３誘電体層７４６が成膜され、必要に応じてＬ３界面層７４３、Ｌ３記録層７４４、必要に応じてＬ３界面層７４５、Ｌ３反射層７４２、必要に応じてＬ３高屈折率層７４１が順次成膜される。すなわち、情報パターン上に、誘電体層−記録層−反射層の順番で成膜がなされる。

同様に、図５−（８）において、Ｌ２層の情報パターン上にＬ２層記録膜７１０が以下の手順で成膜される。まず、案内溝やピットの形成されたＬ２層の情報パターン上に、Ｌ２誘電体層７４０が成膜され、必要に応じてＬ２界面層７３７、Ｌ１記録層７３８、必要に応じてＬ２界面層７３９、Ｌ２反射層７３６、必要に応じてＬ２高屈折率層７３５が順次成膜される。すなわち、情報パターン上に、誘電体層−記録層−反射層の順番で成膜がなされる。

同様に、図５−（１２）において、Ｌ１層の情報パターン上にＬ１層記録膜７１４が以下の手順で成膜される。まず、案内溝やピットの形成されたＬ１層の情報パターン上に、Ｌ１誘電体層７３４が成膜され、必要に応じてＬ１界面層７３１、Ｌ１記録層７３２、必要に応じてＬ１界面層７３３、Ｌ１反射層７３０、必要に応じてＬ１高屈折率層７２９が順次成膜される。すなわち、情報パターン上に、誘電体層−記録層−反射層の順番で成膜がなされる。

同様に、図１−（１６）において、Ｌ０層の情報パターン上にＬ０層記録膜７１７が以下の手順で成膜される。まず、案内溝やピットの形成されたＬ０層の情報パターン上に、Ｌ０誘電体層７２８が成膜され、必要に応じてＬ０界面層７２７、Ｌ０記録層７２６、必要に応じてＬ０界面層７２５、Ｌ０反射層７２４が順次成膜される。すなわち、情報パターン上に、誘電体層−記録層−反射層の順番で成膜がなされる。

従来例及び後述する比較例２の光記録媒体においては、いずれの層も反射層−記録層−誘電体層の順番で成膜されていた。

本実施例２によれば、全ての層を、誘電体層−記録層−反射層の順で成膜する。その結果、全ての層において実施例１で説明したような反射層の表面性の悪影響を受けず、ＷＯを含む透明スタンパの良好な溝形状を活かすことができる。

比較例２の光記録媒体と比較して本実施例１の光記録媒体では、Ｌ０のメディアノイズは約５ｄＢ低減し、Ｌ１〜Ｌ３のメディアノイズは２．５ｄＢ低減していた。

こうして作製した光ディスクに対してレーザ波長４０５ｎｍ、対物レンズのＮ．Ａを０．８５の光学系を用いて、線速４．９２ｍ／ｓにおいて、容量２５ＧＢの（１−７）変調のランダムデータを用いて信号の再生評価を行った。リミットイコライザで等化してＤａｔａ ｔｏ Ｃｌｏｃｋでジッタを測定したところ、Ｌ０層では５．５％、Ｌ１層では６．５％、Ｌ２層では６．７％、Ｌ３層では６．０％の値を得ることが出来た。

本発明の光ディスクの製造方法によれば、製造工程が簡便でかつ、繰り返し利用可能な透明スタンパを用いるため、安価な多層構成の光ディスクを供給することが可能になる。本実施例の光ディスクの製造方法によれば、全ての層を本発明による透明スタンパを用いることができるため、電鋳装置や射出成型機が必用無くなる。そのため、より安価な多層構成の光ディスクを供給することが可能になる。

さらに、本発明の光ディスクの製造方法によれば、ネガ型の透明スタンパを用いて、全ての層を記録再生用の光束入射方向側から積層していくため、全ての層で記録膜よりも後に反射膜をする工程になる。その結果、全ての層において、反射膜の荒れた表面性の影響受けず、良好な特性が得られた。

（比較例２）
比較例２では、従来例と同様の方法（図８Ａ〜Ｄ）で、Ｌ０層、Ｌ１層、Ｌ２層及びＬ３層の４つの情報記録面を持つ光ディスクを製造した。

ここで、記録膜の構成について説明する。

図８−（２）に示すように、Ｌ０層の情報パターン１６上にＬ０層記録膜１７を成膜した。Ｌ０層記録膜１７は典型的には、光を透過しない反射膜か反射膜を含んで構成される。本比較例では、例えばスパッタリング法を用いて、Ｌ０反射膜、誘電体膜、Ｌ０記録膜、誘電体膜、の順に成膜した。

図８−（６）に示すように、Ｌ１層の情報パターン１３上にＬ１層記録膜１４を成膜した。Ｌ１層記録膜１４は、半透明膜で構成される。例えばスパッタリング法を用いて、Ｌ１高屈折率膜、Ｌ１反射膜、Ｌ１誘電体膜、Ｌ１記録膜、誘電体膜の順に成膜した。

図８−（１０）に示すように、Ｌ２層の情報パターン９上にＬ２層記録膜１０を成膜した。Ｌ２層記録膜１０は、半透明膜で構成される。例えばスパッタリング法を用いて、Ｌ２高屈折率膜、Ｌ２反射膜、Ｌ２誘電体膜、Ｌ２記録膜、誘電体膜の順に成膜した。

図８−（１４）に示すように、Ｌ３層の情報パターン５上にＬ３層記録膜６を成膜した。Ｌ３層記録膜６は、半透明膜で構成される。例えばスパッタリング法を用いて、Ｌ３高屈折率膜、Ｌ３反射膜、Ｌ３誘電体膜、Ｌ３記録膜、誘電体膜の順に成膜した。

比較例２によれば、全ての層を、反射層−記録層−誘電体層の順で成膜する。

こうして作製した光ディスクに対してレーザ波長４０５ｎｍ、対物レンズのＮ．Ａを０．８５の光学系を用いて、線速４．９２ｍ／ｓにおいて、容量２５ＧＢの（１−７）変調のランダムデータを用いて信号の再生評価を行った。リミットイコライザで等化してＤａｔａ ｔｏ Ｃｌｏｃｋでジッタを測定したところ、Ｌ０層では６．４％、Ｌ１層では７．１％、Ｌ２層では７．３％、Ｌ３層では６．６％の値が得られた。

本比較例では、樹脂製の透明スタンパＡ、Ｂ、Ｃが使い捨てになったうえ、実施例２と比べて全ての層のメディアノイズが高くなり、ジッタ値も悪化している。

（実施例３）
実施例３ではＷＯの組成を変えた以外は、実施例１と同様の方法でスタンパを作製した。

透明基板として厚さ１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍの石英基板を用いた。まず石英基板上に、化学量論組成から微量に酸素が欠損した酸化タングステンＷＯを形成する。Ｗを含んだＷＯ_xターゲットを、Ａｒガス５０ｓｃｃｍとＯ₂ガス１０ｓｃｃｍの雰囲気中でスパッタリングすることでＷＯを形成した。組成はＡｒガスとＯ₂ガスの比率を変えることで実施例１と比較して酸素欠損量を多くした。実施例３では、露光前の膜厚は１００ｎｍとし、露光光である３５１ｎｍの波長の光に対して７０％の吸収率を持つ組成とした。

次に、露光用の光をレジストに集光させ、石英基板を回転させながら、露光用の光を石英基板の半径方向に移動させることで、レジスト上からＬ０層の情報パターン３０４（ピットや案内溝）に対応したパターン露光をした。実施例３では、露光用の光の波長は３５１ｎｍとした。データ記録領域の露光条件は、線速２．０ｍ／ｓ、パワー２．０ｍＷとした。トラックピッチＴＰは３２０ｎｍとした。

次に、アルカリ現像液を用いて未露光部のレジストを除去し、データ記録領域の溝深さがｄ＝２０ｎｍになるように現像を行う事で透明スタンパを製造した。ここで情報トラック側がスタンパ基板に対して凸になっている。

前記透明スタンパは、現像後の状態で３５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長の光に対して最高１９％の透過率があった。

次に、実施例１と同様の光ディスクの製造方法で光ディスクを製造した。前記光ディスクを実施例１と同様に評価したところ、実施例１と同等の特性が得られた。中間層１用２ｐ樹脂３０３を硬化させるために、必要なＵＶ照射時間は５秒間であった。

（実施例４）
実施例４ではＷＯの組成を変えた以外は、実施例１と同様の方法でスタンパを作製した。

透明基板として厚さ１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍの石英基板を用いた。まず石英基板上に、化学量論組成から微量に酸素が欠損した酸化タングステンＷＯを形成する。Ｗを含んだＷＯ_xターゲットを、Ａｒガス５０ｓｃｃｍとＯ₂ガス５ｓｃｃｍの雰囲気中でスパッタリングすることでＷＯを形成した。組成はＡｒガスとＯ₂ガスの比率を変えることで実施例３と比較して酸素欠損量を多くした。実施例４では、露光前の膜厚は１００ｎｍとし、露光光である３５１ｎｍの波長の光に対して７５％の吸収率を持つ組成とした。

次に、露光用の光をレジストに集光させ、石英基板を回転させながら、露光用の光を石英基板の半径方向に移動させることで、レジスト上からＬ０層の情報パターン３０４（ピットや案内溝）に対応したパターン露光をした。実施例４では、露光用の光の波長は３５１ｎｍとした。データ記録領域の露光条件は、線速１．９ｍ／ｓ、パワー２．０ｍＷとした。トラックピッチＴＰは３２０ｎｍとした。

次に、アルカリ現像液を用いて露光部のレジストを除去し、データ記録領域の溝深さがｄ＝２０ｎｍになるように現像を行う事で透明スタンパを製造した。ここで情報トラック側がスタンパ基板に対して凹のポジ型になっていた。

前記スタンパは、現像後の状態で３５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長の光に対して最高１５％の透過率があった。

次に、実施例１と同様の光ディスクの製造方法で光ディスクを製造したところ、中間層１用２ｐ樹脂３０３を硬化させるために、ＵＶ照射時間を６０秒間かける必要があった。

（比較例３）
比較例３ではＷＯの組成を変えた以外は、実施例１と同様の方法でスタンパを作製した。

透明基板として厚さ１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍの石英基板を用いた。まず石英基板上に、化学量論組成から微量に酸素が欠損した酸化タングステンＷＯを形成する。Ｗを含んだＷＯ_xターゲットを、Ａｒガス５０ｓｃｃｍとＯ₂ガス５０ｓｃｃｍの雰囲気中でスパッタリングすることでＷＯを形成した。組成はＡｒガスとＯ₂ガスの比率を変えることで実施例１と比較して酸素含有率が多くした。比較例３では、露光前の膜厚は１００ｎｍとした。露光光である３５１ｎｍの波長の光に対して５％の吸収率であった。

次に、露光用の光をレジストに集光させ、石英基板を回転させながら、露光を行ったが、高パワーを導入しても、パターンを得ることは出来なかった。

（実施例５）
実施例５では、露光光の波長を４０５ｎｍに変えた以外は、実施例３と同様の方法でスタンパを作製した。

透明基板として厚さ１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍの石英基板を用いた。まず石英基板上に、化学量論組成から微量に酸素が欠損した酸化タングステンＷＯを形成する。Ｗを含んだＷＯ_xターゲットを、Ａｒガス５０ｓｃｃｍとＯ₂ガス１０ｓｃｃｍの雰囲気中でスパッタリングすることでＷＯを形成した。露光前の膜厚は１００ｎｍとした。露光光である４０５ｎｍの波長の光に対して３０％の吸収率であった。紫外線領域近傍においては、光の波長が長くなるほど吸収率は小さくなる。

次に、露光用の光をレジストに集光させ、石英基板を回転させながら、露光用の光を石英基板の半径方向に移動させることで、レジスト上からＬ０層の情報パターン３０４（ピットや案内溝）に対応したパターン露光をした。実施例３では、露光用の光の波長は３５１ｎｍとした。データ記録領域の露光条件は、線速１．５ｍ／ｓ、パワー２．０ｍＷとした。トラックピッチＴＰは３２０ｎｍとした。

次に、アルカリ現像液を用いて未露光部のレジストを除去し、データ記録領域の溝深さがｄ＝２０ｎｍになるように現像を行う事で透明スタンパを製造した。ここで情報トラック側がスタンパ基板に対して凸になっている。

前記透明スタンパは、実施例３と同様に現像後の状態で３５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長の光に対して最高１９％の透過率があった。

次に、実施例１と同様の光ディスクの製造方法で光ディスクを製造した。前記光ディスクを実施例１と同様に評価したところ、実施例１と同等の特性が得られた。

（実施例６）
実施例６ではＷ金属ターゲットを用いて、透明スタンパを作製した。

透明基板として厚さ１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍの石英基板を用いた。まず石英基板上に、化学量論組成から酸素が欠損した酸化タングステンＷＯを形成する。Ｗ金属ターゲットを、Ａｒガス３０ｓｃｃｍとＯ₂ガス２０ｓｃｃｍの雰囲気中でスパッタリングすることでＷＯを形成した。露光前の膜厚は１００ｎｍとし、露光光である３５１ｎｍの波長の光に対して６０％の吸収率を持つ組成とした。

次に、露光用の光をレジストに集光させ、石英基板を回転させながら、露光用の光を石英基板の半径方向に移動させることで、レジスト上からＬ１層の情報パターン（ピットや案内溝）に対応したパターン露光をした。実施例６では、データ記録領域の露光条件は線速３．０ｍ／ｓ、パワー３．０ｍＷ、トラックピッチＴＰ３２０ｎｍとした。ここで、本実施例６で用いる、化学量論組成から酸素が欠損した酸化タングステンＷＯは、露光用の光を照射することで膜の状態が変わり、アルカリ溶液による現像で露光部が凹となるポジ型レジストである。

次に、アルカリ現像液を用いて露光部のレジストをエッチングし、データ記録領域の溝深さがｄ＝２０ｎｍになるように現像を行う事で透明スタンパ９００を製造した。情報トラック側がスタンパに対して凹となっている。

前記透明スタンパは、現像後の状態で３５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長の光に対して最高３０％の透過率があった。

次に実施例６では、本発明による透明スタンパ９００を用いる以外は、比較例１の光ディスクの製造方法と同様に光ディスクを製造した。

図９を用いて説明する。図９は中心孔を有する回転対称なディスク状の断面図の片側半分を示すものであり、基板やスタンパの中心孔は省略されている。また、全ての工程は、記録再生用の光束入射面を下にして図示されている。

まず、図９−（１）に示すように、射出成型により、Ｌ０層の情報パターン９０２（ピットや案内溝）が形成されている厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍ、中心孔径１５ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板９０１を形成した。情報トラックが凸になっている。

次に、図９−（２）に示すように、Ｌ０層の情報パターン９０２上にＬ０層記録膜９０３を成膜した。Ｌ０層記録膜９０３は典型的には、光を透過しない反射膜か反射膜を含んで構成される。本実施例では、例えばスパッタリング法を用いて、Ｌ０反射膜、誘電体膜、Ｌ０記録膜、誘電体膜、の順に成膜した。

図９−（３）に示すように、Ｌ０層とＬ１層との間の中間層を構成するための中間層用２ｐ樹脂（光反応性硬化樹脂）９０４を実施例１と同様例えば２５μｍの厚さで塗布した。

図９−（４）に示すように、透明スタンパ９００は本実施例による透明スタンパであり、Ｌ１層の情報パターン９０５（ピットや案内溝）が形成されている。情報トラックがスタンパに対して凹になっている。中間層用２ｐ樹脂９０４が塗布されたポリカーボネート基板９０１と、透明スタンパ９００を、Ｌ０層の情報パターンとＬ１層の情報パターンが対向する向きで重ねあわせた。この時、中心孔（図示せず）を用いて位置合わせをおこなった。その後、透明スタンパ９００を通して紫外線を照射することによって、中間層用２ｐ樹脂９０４を硬化させた。中間層用２ｐ樹脂９０４を硬化させるために、必要なＵＶ照射時間は３秒未満であった。

図９−（５）に示すように、中間層用２ｐ樹脂９０４を硬化後、透明スタンパ９００を剥離することで、Ｌ１層の情報パターン９０５が形成される。剥離された透明スタンパ９００は、ＵＶ光束を照射しても劣化することはなく、繰り返し使用することが可能である。

図９−（６）に示すように、Ｌ１層の情報パターン９０５にＬ１層記録膜９０６を成膜した。Ｌ１層記録膜９０６は、半透明膜で構成される。例えばスパッタリング法を用いて、Ｌ１高屈折率膜、Ｌ１反射膜、Ｌ１誘電体膜、Ｌ１記録膜、誘電体膜の順に成膜した。

図９−（７）に示すように、Ｌ１層記録膜９０６上に、カバーシート用２ｐ樹脂（樹脂保護層）９０７を構成した。実施例１と同様にカバーシート用２ｐ樹脂９０７を例えば７５μｍ塗布した。その後、ＵＶ光源から紫外線を照射し硬化し、本実施例における２層構成の光記録媒体が完成する。

こうして作製した光ディスクに対してレーザ波長４０５ｎｍ、対物レンズのＮ．Ａを０．８５の光学系を用いて、線速４．９２ｍ／ｓにおいて、容量２５ＧＢの（１−７）変調のランダムデータを用いて信号の再生評価を行った。リミットイコライザで等化してＤａｔａ ｔｏ Ｃｌｏｃｋでジッタを測定したところ、Ｌ０層では５．５％、Ｌ１層では６．７％の値が得られた。

本発明の光ディスクの製造方法によれば、製造工程が簡便でかつ、繰り返し利用可能な透明スタンパを用いるため、安価な多層構成の光ディスクを供給することが可能になる。

（実施例７）
実施例７ではＷＯの組成を変えた以外は、実施例６と同様の方法で透明スタンパを作製した。

透明基板として厚さ１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍの石英基板を用いた。まず石英基板上に、化学量論組成から酸素が欠損した酸化タングステンＷＯを形成する。Ｗ金属ターゲットを、Ａｒガス５０ｓｃｃｍとＯ₂ガス２０ｓｃｃｍの雰囲気中でスパッタリングすることでＷＯを形成した。実施例７では、露光前の膜厚は１００ｎｍとし、露光光である３５１ｎｍの波長の光に対して７０％の吸収率を持つ組成とした。

次に、露光用の光をレジストに集光させ、石英基板を回転させながら、露光用の光を石英基板の半径方向に移動させることで、レジスト上からＬ１層の情報パターン（ピットや案内溝）に対応したパターン露光をした。実施例７では、データ記録領域の露光条件は線速３．０ｍ／ｓ、パワー２．９ｍＷ、トラックピッチＴＰ３２０ｎｍとした。

次に、アルカリ現像液を用いて露光部のレジストをエッチングし、データ記録領域の溝深さがｄ＝２０ｎｍになるように現像を行う事で透明スタンパを製造した。情報トラック側がスタンパに対して凹となっている。

前記透明スタンパは、現像後の状態で３５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長の光に対して最高１９％の透過率があった。

次に、実施例６と同様の光ディスクの製造方法で光ディスクを製造した。前記光ディスクを実施例６と同様に評価したところ、実施例６と同等の特性が得られた。中間層１用２ｐ樹脂を硬化させるために、必要なＵＶ照射時間は５秒間であった。

（実施例８）
実施例８ではＷＯの組成を変えた以外は、実施例６と同様の方法で透明スタンパを作製した。

透明基板として厚さ１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍの石英基板を用いた。まず石英基板上に、化学量論組成から酸素が欠損した酸化タングステンＷＯを形成する。Ｗ金属ターゲットを、Ａｒガス１５ｓｃｃｍとＯ₂ガス１６ｓｃｃｍの雰囲気中でスパッタリングすることでＷＯを形成した。実施例８では、露光前の膜厚は１００ｎｍとし、露光光である３５１ｎｍの波長の光に対して５０％の吸収率を持つ組成とした。

次に、露光用の光をレジストに集光させ、石英基板を回転させながら、露光用の光を石英基板の半径方向に移動させることで、レジスト上からＬ１層の情報パターン（ピットや案内溝）に対応したパターン露光をした。実施例８では、データ記録領域の露光条件は線速１．０ｍ／ｓ、パワー２．５ｍＷ、トラックピッチＴＰ３２０ｎｍとした。ここで、本実施例８で用いる、化学量論組成から酸素が欠損した酸化タングステンＷＯは、露光用の光を照射することで膜の状態が変わり、アルカリ溶液による現像で露光部が凸となるネガ型レジストである。

次に、アルカリ現像液を用いて未露光部のレジストをエッチングし、データ記録領域の溝深さがｄ＝２０ｎｍになるように現像を行う事で透明スタンパ１０００を製造した。情報トラック側がスタンパに対して凸になっている。

前記透明スタンパは、現像後の状態で３５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長の光に対して最高４０％の透過率があった。

次に実施例８では、本発明による透明スタンパ１０００と、情報トラックが凹になっているＬ０層用の基板を用い、さらに有機系の記録材料を用いた以外は実施例６と同様に光ディスクを製造した。

図１０を用いて説明する。図１０は中心孔を有する回転対称なディスク状の断面図の片側半分を示すものであり、基板やスタンパの中心孔は省略されている。また、全ての工程は、記録再生用の光束入射面を下にして図示されている。

まず、図１０−（１）に示すように、射出成型により、Ｌ０層の情報パターン１００２（ピットや案内溝）が形成されている厚さ１．１ｍｍ、直径１２０ｍｍ、中心孔径１５ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板１００１を形成した。情報トラックが凹になっている。

次に、図１０−（２）に示すように、Ｌ０層の情報パターン１００２上にＬ０層記録膜１００３を形成した。Ｌ０層記録膜１００３は典型的には、光を透過しない反射膜か反射膜を含んで構成される。本実施例では、例えばスパッタリング法を用いてＬ０反射膜を形成後、スピンコート法を用いて有機色素系のＬ０記録膜を形成し、さらにスパッタリング法を用いて誘電体膜を形成した。

図１０−（３）に示すように、Ｌ０層とＬ１層との間の中間層を構成するための中間層用２ｐ樹脂（光反応性硬化樹脂）１００４を実施例１と同様例えば２５μｍの厚さで塗布した。

図１０−（４）に示すように、透明スタンパ１０００は本実施例による透明スタンパであり、Ｌ１層の情報パターン１００５（ピットや案内溝）が形成されている。情報トラックがスタンパに対して凸になっている。中間層用２ｐ樹脂１００４が塗布されたポリカーボネート基板１００１と、透明スタンパ１０００を、Ｌ０層の情報パターンとＬ１層の情報パターンが対向する向きで重ねあわせた。この時、中心孔（図示せず）を用いて位置合わせをおこなった。その後、透明スタンパ１０００を通して紫外線を照射することによって、中間層用２ｐ樹脂１００４を硬化させた。中間層用２ｐ樹脂１００４を硬化させるために、必要なＵＶ照射時間は２秒未満であった。

図１０−（５）に示すように、中間層用２ｐ樹脂１００４を硬化後、透明スタンパ１０００を剥離することで、Ｌ１層の情報パターン１００５が形成される。剥離された透明スタンパ１０００は、ＵＶ光束を照射しても劣化することはなく、繰り返し使用することが可能である。

図１０−（６）に示すように、Ｌ１層の情報パターン１００５にＬ１層記録膜１００６を成膜した。Ｌ１層記録膜１００６は、半透明膜で構成される。例えばスパッタリング法を用いて、Ｌ１高屈折率膜、Ｌ１反射膜を形成した後、スピンコート法を用いて有機色素系のＬ１記録膜を形成し、さらにスパッタリング法を用いて誘電体膜を形成した。

図１０−（７）に示すように、Ｌ１層記録膜１００６上に、カバーシート用２ｐ樹脂（樹脂保護層）１００７を構成した。実施例１と同様にカバーシート用２ｐ樹脂１００７を例えば７５μｍ塗布した。その後、ＵＶ光源から紫外線を照射し硬化し、本実施例における２層構成の光記録媒体が完成する。

こうして作製した光ディスクに対してレーザ波長４０５ｎｍ、対物レンズのＮ．Ａを０．８５の光学系を用いて、線速４．９２ｍ／ｓにおいて、容量２５ＧＢの（１−７）変調のランダムデータを用いて信号の再生評価を行った。リミットイコライザで等化してＤａｔａ ｔｏ Ｃｌｏｃｋでジッタを測定したところ、Ｌ０層では５．５％、Ｌ１層では６．７％の値が得られた。

（実施例９）
本実施例９では、ポリカーボネート（ＰＣ）基板越しに記録再生を行う光ディスクの製造方法の例を説明する。ここで、光ディスクの記録再生用の光学系に近い側の情報記録面をＬ１と称し、遠い側をＬ０と称す。

トラックピッチＴを４００ｎｍに変えた以外は、実施例８と同様の方法でＬ０用の透明スタンパ１１００を作製した。情報トラック側がスタンパに対して凸になっている。

次に実施例９では、本発明による透明スタンパ１１００と、情報トラックが凹になっているＬ１層用の基板を用い、さらに有機系の記録材料を用いて光ディスクを製造した。

図１１を用いて説明する。図１１は中心孔を有する回転対称なディスク状の断面図の片側半分を示すものであり、基板やスタンパの中心孔は省略されている。また、全ての工程は、記録再生用の光束入射面を下にして図示されている。

まず、図１１−（１）に示すように射出成型により、Ｌ１層の情報パターン１１０２（ピットや案内溝）が形成されている厚さ０．６ｍｍ、直径１２０ｍｍ、中心孔径１５ｍｍのポリカーボネート（ＰＣ）基板１１０１を形成した。情報トラックが基板に対して凹になっている。

次に、図１１−（２）に示すようにＬ１層の情報パターン１１０２上にＬ１層記録膜１１０３を形成した。Ｌ１層記録膜は半透明膜で構成される。例えばスピンコート法を用いて有機色素系のＬ１記録膜を形成した後に、スパッタリング法を用いてＬ１反射膜を形成した。

次に、図１１−（３）に示すようにＬ０層とＬ１層との間の中間層を構成するための中間層用２ｐ樹脂（光反応性硬化樹脂）１１０４を、例えば３５μｍの厚さで塗布した。

図１１−（４）に示すように、透明スタンパ１１００は本実施例による透明スタンパであり、Ｌ０層の情報パターン１１０５（ピットや案内溝）が形成されている。情報トラックがスタンパに対して凸になっている。中間層用２ｐ樹脂１１０４が塗布されたポリカーボネート基板１１０１と、Ｌ０層の情報パターン１１０５が形成された透明スタンパ１１００を、Ｌ０層の情報パターンとＬ１層の情報パターンが対向する向きで重ねあわせた。この時、中心孔（図示せず）を用いて位置合わせをおこなった。その後、透明スタンパ１１００を通して紫外線を照射することによって、中間層用２ｐ樹脂１１０４を硬化させた。中間層用２ｐ樹脂１１０４を硬化させるために、必要なＵＶ照射時間は２秒未満であった。

図１１−（５）に示すように中間層用２ｐ樹脂１１０４を硬化後、透明スタンパ１１００を剥離することで、Ｌ０層の情報パターン１１０５が形成される。剥離された透明スタンパ１１００は、ＵＶ光束を照射しても劣化することはなく、繰り返し使用することが可能である。

図１１−（６）に示すように、Ｌ０層の情報パターン１１０５にＬ０層記録膜１１０６を成膜した。Ｌ０層記録膜は典型的には、光を透過しない反射膜か反射膜を含んで構成される。本実施例では、例えばスピンコート法を用いて有機色素系のＬ０記録膜を形成した後に、スパッタリング法を用いてＬ０反射膜を形成した。

図１１−（７）に示すように、Ｌ０層記録膜上に、厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板１１０８を、ＵＶ硬化接着材１１０９を用いて貼り付け、本実施例における２層構成の光記録媒体が完成する。

こうして作製した光ディスクに対してレーザ波長４０５ｎｍ、対物レンズのＮ．Ａを０．６５の光学系を用いて、容量１５ＧＢのＥＴＭ（８／１２）変調を用いて信号の再生評価を行った。ＳｂＥＲ（Ｓｉｍｕｌａｔｅｄ ｂｉｔ Ｅｒｒｏｒ Ｒａｔｅ）を測定したところ、Ｌ０層では４．２×１０^−６、Ｌ１層では７．０×１０^−６の値が得られた。

（実施例１０）
実施例１０では、レジストとして化学量論組成から酸素が欠損した組成の酸化モリブデンＭｏＯを例に説明する。本実施例１０で用いる、酸化モリブデンＭｏＯは、露光用の光を照射することで膜の状態が変わり、アルカリ溶液による現像で露光部が凹となるポジ型レジストである。

透明基板として厚さ１ｍｍ、外径１２０ｍｍ、内径１５ｍｍの石英基板を用いた。まず石英基板上に、化学量論組成から酸素が欠損した酸化モリブデンＭｏＯを形成する。Ｍｏ金属ターゲットを、Ａｒガス５０ｓｃｃｍとＯ₂ガス１１．５ｓｃｃｍの雰囲気中でスパッタリングすることでＭｏＯを形成した。露光前の膜厚は１００ｎｍとし、露光光である３５１ｎｍの波長の光に対して５０％の吸収率を持つ組成とした。

次に、露光用の光をレジストに集光させ、石英基板を回転させながら、露光用の光を石英基板の半径方向に移動させることで、レジスト上にＬ１層の情報パターン（ピットや案内溝）に対応したパターン露光をした。実施例１０では、データ記録領域の露光条件は線速１．０ｍ／ｓ、パワー０．８ｍＷ、トラックピッチＴＰ３２０ｎｍとした。

次に、アルカリ現像液を用いて露光部のレジストをエッチングし、データ記録領域の溝深さがｄ＝２０ｎｍになるように現像を行う事で透明スタンパを製造した。情報トラック側がスタンパに対して凹となっている。前記透明スタンパは、現像後の状態で３５０ｎｍ〜４００ｎｍの波長の光に対して最高４０％の透過率があった。

次に、実施例６と同様の光ディスクの製造方法で光ディスクを製造した。前記光ディスクを実施例６と同様に評価したところ、実施例６と同等の特性が得られた。中間層用２ｐ樹脂を硬化させるために、必要なＵＶ照射時間は２秒未満であった。

本発明は、繰り返し使用可能な、透明基板上に、酸化タングステンを含むレジスト層が形成され、前記レジスト層に、情報信号パターン（ピットまたは案内溝）に対応する凹凸が形成されてなるスタンパを使用することに特徴がある。したがって、スタンパの構成、情報記録面の積層順序や積層方向、また、記録材料等を、上記実施例に限定するものではない。

本発明による光ディスクの製造方法を説明する模式図である。 ２層の光記録媒体の断面図である。 実施例１による光ディスクの製造方法を説明する模式図である。 比較例１による光ディスクの製造方法を説明する模式図である。 実施例２による光ディスクの製造方法における工程（１）〜（９）を説明する模式図である。 実施例２による光ディスクの製造方法における工程（１０）〜（１８）を説明する模式図である。 ４層の光記録媒体の断面図である。 従来の透明スタンパを製造する方法を説明する模式図である。 従来の４層記録媒体の製造方法における工程（１）〜（５）を説明するための断面図である。 従来の４層記録媒体の製造方法における工程（６）〜（１０）を説明するための断面図である。 従来の４層記録媒体の製造方法における工程（１１）〜（１４）を説明するための断面図である。 従来の４層記録媒体の製造方法における工程（１５）〜（１６）を説明するための断面図である。 実施例６による光ディスクの製造方法を説明する模式図である。 実施例８による光ディスクの製造方法を説明する模式図である。 実施例９による光ディスクの製造方法を説明する模式図である。

符号の説明

２， カバーシート用２ｐ樹脂（カバー層）
４， Ｌ３層パターン（Ｌ３層の情報パターン）
５， ＵＶ光源
６， Ｌ３層記録膜（Ｌ３層）
７， 中間層１用２ｐ樹脂（中間層１）
９， Ｌ２層パターン（Ｌ２層の情報パターン）
１０， Ｌ２層記録膜（Ｌ２層）
１１， 中間層２用２ｐ樹脂（中間層２）
１３， Ｌ１層パターン（Ｌ１層の情報パターン）
１４， Ｌ１層記録膜（Ｌ１層）
１５， ＰＣ基板
１６， Ｌ０層パターン（Ｌ０層の情報パターン）
１７， Ｌ０層記録膜（Ｌ０層）
１８， 中間層３用２ｐ樹脂（中間層３）
１９−１， 透明スタンパＡ
１９−２， 透明スタンパＢ
１９−３， 透明スタンパＣ
１９−４， 透明スタンパＤ
２０， 接着層用２ｐ樹脂（接着層）
２２， 射出成形用スタンパ
７１， 石英ガラス基板
７２， フォトレジスト
７３， レーザ光
７４， ＣＦ₄ガスプラズマ
１１１， 透明基板
１１２， レジスト
１１３， 露光用の光
１１４， 半径方向
１１５， 透明スタンパ
１１６， 支持基板
１１７， 光反応性硬化樹脂
１１８， 情報パターン
２０２， カバー層
２０７， 中間層

Claims (24)

1. 多層光記録媒体の製造に用いられるスタンパにおいて、
   透光性の基板と、
   前記透光性の基板上にピット又は案内溝が形成された透光性の無機レジスト層と
   を有することを特徴とするスタンパ。
2. 前記ピット又は案内溝は、前記透光性の基板上に積層された前記無機レジスト層に露光及び現像を行うことで形成されたものであって、前記無機レジスト層は、前記露光に使用する露光光に対して１０％以上の吸収率を有し、
   前記スタンパは、一方の面側から紫外線光を照射することによって他方の面側に配置されている光反応性硬化樹脂を硬化可能であって、前記無機レジスト層は、前記紫外線光に対して１５％以上の透過率を有することを特徴とする請求項１に記載のスタンパ。
3. 前記無機レジスト層は、前記現像によって露光部が凸になるネガ型のレジスト、又は前記現像によって露光部が凹になるポジ型のレジストであることを特徴とする請求項２に記載のスタンパ。
4. 前記無機レジスト層は、少なくともタングステン、モリブデンのいずれかを含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれかに記載のスタンパ。
5. 前記無機レジスト層は、化学量論組成から酸素が欠損したタングステン若しくはモリブデンの酸化物を含むことを特徴とする請求項４に記載のスタンパ。
6. 前記透光性の基板は、ガラス、石英、透明セラミックのいずれかを含むことを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のスタンパ。
7. 多層光記録媒体の製造に用いられるスタンパの製造方法において、
   Ａ）透光性の基板上に透光性の無機レジスト層を積層する工程と、
   Ｂ）前記無機レジスト層に露光及び現像を行うことで、ピット又は案内溝を形成する工程と、
   を有することを特徴とするスタンパの製造方法。
8. 前記無機レジスト層は、前記露光に使用する露光光に対して１０％以上の吸収率を有し、
   前記スタンパは、一方の面側から紫外線光を照射することによって他方の面側に配置されている光反応性硬化樹脂を硬化可能であって、前記無機レジスト層は、前記紫外線光に対して１５％以上の透過率を有することを特徴とする請求項７に記載のスタンパの製造方法。
9. 前記無機レジスト層は、前記現像によって露光部が凸になるネガ型のレジスト、又は前記現像によって露光部が凹になるポジ型のレジストであることを特徴とする請求項８に記載のスタンパの製造方法。
10. 前記無機レジスト層は、少なくともタングステン、モリブデンのいずれかを含むことを特徴とする請求項７乃至９のいずれかに記載のスタンパの製造方法。
11. 前記無機レジスト層は、化学量論組成から酸素が欠損したタングステン若しくはモリブデンの酸化物を含むことを特徴とする請求項１０に記載のスタンパの製造方法。
12. 前記透光性の基板は、ガラス、石英、透明セラミックのいずれかを含むことを特徴とする請求項７乃至１１のいずれかに記載のスタンパの製造方法。
13. 多層光記録媒体の製造方法において、
    ａ１）ピット又は案内溝が形成された支持基板上に記録層を成膜する工程と、
    ｂ１）前記記録層上に光反応性硬化樹脂からなる中間層を積層する工程と、
    ｃ１）透光性の基板上にピット又は案内溝が形成された無機レジスト層を有するスタンパを介して、前記中間層に紫外線光を照射することにより、前記光反応性硬化樹脂を硬化するとともに前記スタンパに形成されている前記ピット又は案内溝を前記中間層に転写する工程と、
    ｄ１）前記スタンパに形成されている前記ピット又は案内溝が転写された前記中間層上に記録層を積層する工程と、
    を有することを特徴とする多層光記録媒体の製造方法。
14. 前記スタンパに形成されている前記ピット又は案内溝は、前記透光性の基板上に積層された前記無機レジスト層に露光及び現像を行うことで形成されたものであって、前記無機レジスト層は、前記露光に使用する露光光に対して１０％以上の吸収率を有し、
    前記無機レジスト層は、前記紫外線光に対して１５％以上の透過率を有することを特徴とする請求項１３に記載の多層光記録媒体の製造方法。
15. ｅ１）前記スタンパを他の多層光記録媒体の製造に再利用する工程を更に有することを特徴とする請求項１３または１４に記載の多層光記録媒体の製造方法。
16. 前記無機レジスト層は、少なくともタングステン、モリブデンのいずれかを含むことを特徴とする請求項１３乃至１５のいずれかに記載の多層光記録媒体の製造方法。
17. 前記無機レジスト層は、化学量論組成から酸素が欠損したタングステン若しくはモリブデンの酸化物を含むことを特徴とする請求項１６に記載の多層光記録媒体の製造方法。
18. 前記透光性の基板は、ガラス、石英、透明セラミックのいずれかを含むことを特徴とする請求項１３乃至１７のいずれかに記載の多層光記録媒体の製造方法。
19. 多層光記録媒体の製造方法において、
    ａ２）ピット又は案内溝が形成された支持基板上に光反応性硬化樹脂からなる中間層を形成する工程と、
    ｂ２）透光性の基板上にピット又は案内溝が形成された無機レジスト層を有するスタンパを介して、前記中間層に紫外線光を照射することにより、前記光反応性硬化樹脂を硬化するとともに前記スタンパに形成されている前記ピット又は案内溝を前記樹脂層に転写する工程と、
    ｃ２）前記スタンパに形成されている前記ピット又は案内溝が転写された前記中間層上に記録層を積層する工程と、
    ｄ２）前記支持基板を剥離した上で、前記支持基板に形成されているピット又は案内溝が転写された前記中間層上に記録層を積層する工程と、
    を有することを特徴とする多層光記録媒体の製造方法。
20. 前記スタンパに形成されている前記ピット又は案内溝は、前記透光性の基板上に積層された前記無機レジスト層に露光及び現像を行うことで形成されたものであって、前記無機レジスト層は、前記露光に使用する露光光に対して１０％以上の吸収率を有し、
    前記無機レジスト層は、前記紫外線光に対して１５％以上の透過率を有することを特徴とする請求項１９に記載の多層光記録媒体の製造方法。
21. ｅ２）前記スタンパを他の多層光記録媒体の製造に再利用する工程を更に有することを特徴とする請求項１９または２０に記載の多層光記録媒体の製造方法。
22. 前記無機レジスト層は、少なくともタングステン、モリブデンのいずれかを含むことを特徴とする請求項１９乃至２１のいずれかに記載の多層光記録媒体の製造方法。
23. 前記無機レジスト層は、化学量論組成から酸素が欠損したタングステン若しくはモリブデンの酸化物を含むことを特徴とする請求項２２に記載の多層光記録媒体の製造方法。
24. 前記透光性の基板は、ガラス、石英、透明セラミックのいずれかを含むことを特徴とする請求項１９乃至２３のいずれかに記載の多層光記録媒体の製造方法。

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