JP2008124191A - 真空処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】減圧された内部に配置された処理対象の基板状の試料を処理可能な処理室を備えた複数の真空容器と、前記試料が複数収納可能なカセットが載置されるカセット台と、前記試料を前記カセットから一つの前記処理容器内の処理室に所定の経路に沿って搬送しこれら処理室で処理された試料を前記カセットに戻す少なくとも1つの搬送装置と、前記カセット台と前記複数の真空容器との間の前記経路上に配置され内部で前記試料を予め定められた位置に位置合わせする位置合せ装置とを備えた真空処理装置であって、前記位置合せ装置が、前記試料に施される処理に応じて異なる位置に前記試料を位置合わせする。
【選択図】図1
Description
このようなマスクの寸法が下方の処理される材料層に形成される回路構造は、前処理であるリソグラフィー処理がウエハ処理の元になっている。
(1)各処理容器の形状あるいは配置によって、ウエハのノッチ位置との相関位置関係が異なるために、ウエハ面内のウエハ処理特性が各処理室間で異なるという問題が発生していた。即ち、ウエハ処理において、精度良く安定して行って処理の効率や歩留まりを向上させるための構成については、十分に考慮されていなかった。
さらにまた、各々の前記処理室内において前記特定形状部がこの処理室下部に配置され排気のための開口の方向に対する配置位置が等しくされたことにより達成される。
さらに、位置合わせ装置200による基準箇所の位置へのウエハ130の位置合わせの動作(のパターン)の指令を位置合わせ装置200に発信する(ステップ405)。なお、本実施例において、このような主制御装置120による処理の情報の入手及びウエハ130の基準箇所の位置の設定、位置合わせ装置200への指令の発信は、ステップ402処理の指令の受信から位置合わせ装置200上でのウエハ130の位置合わせまでの間に行われる。
さらには、処理の特性は、上記排気装置のみでなく、プラズマ形成のための電界または磁界の供給装置、試料台の形状、あるいは、処理室の内表面を構成する部材の配置の差異等の装置構成の差により影響を受けるのみでなく、両者で実施される処理の条件の差異によっても変動が生じる。例えば、同一の仕様のウエハに同一の処理を異なる処理室で行おうとする場合でも、処理室毎に異なる微小な仕様や構造上の相違から、電界の強度や周波数値、ガス圧力、ガスの流量といった処理の条件も処理室毎に異なることが一般的である。
上記実施例の真空処理装置100は、処理ユニット102,103は少なくとも処理室内の構成や電磁波源118,119の形状や配置が搬送ラインに垂直な奥行き方向の面について左右対称に配置されて、処理対象の試料に対して同等の処理を施すことが可能な構成を有している。しかしながら、上記のように、本実施例の処理ユニット102,103は、略多角形状の真空搬送容器110の隣り合う側壁に取り付けられ連結され、真空搬送容器110内に配置され中心の上下軸の周りに回転し処理ユニット102,103内にアームを伸張する一つの真空搬送ロボット115により試料が搬送される構成である。
101,102,103,104のハードが異なる例の場合を示す。例えば、装置のレイアウトや設置スペース等が図5,6に示すように処理ユニット102,103の構造が対称配置による相違、即ち、各処理ユニット102,103内のウエハ130が載せられる試料台122,133とプラズマ形成のための高周波の導入を導入する導波管601,602の配置方向・プロセスガスの排気方向等の相対位置の相違により処理ユニット102,103内の処理室内のプラズマ状態、及び特性は異なる。
においてハード・プラズマ状態、及び特性・プロセス特性とウエハ膜仕様を考慮した条件にて最適な処理特性を得られるようにすることで、より最適、且つ高精度なウエハ処理ができるようにした。
101 処理ユニット
102 処理ユニット
103 処理ユニット
104 処理ユニット
105 カセット戴置台
106 ロック室
107 ロック室
108 大気搬送ロボット
109 筐体
110 真空搬送容器
111 臥台
112 臥台
113 臥台
114 臥台
115 真空搬送ロボット
120 主制御装置
121 試料台
122 試料台
123 試料台
124 試料台
130 ウエハ
131 切り欠き(ノッチ)
132 開口部
133 開口部
151 真空側ブロック
152 大気側ブロック
200 位置合わせ装置
201 光学測定手段
202 光学測定手段
206 カセット
301 ホストコンピュータ
425 データベース
601 導波管
602 導波管
Claims (9)
- 減圧された内部に配置された処理対象の基板状の試料を処理可能な処理室を備えた複数の真空容器と、前記試料が複数収納可能なカセットが載置されるカセット台と、前記試料を前記カセットから一つの前記処理容器内の処理室に所定の経路に沿って搬送しこれら処理室で処理された試料を前記カセットに戻す少なくとも1つの搬送装置と、前記カセット台と前記複数の真空容器との間の前記経路上に配置され内部で前記試料を予め定められた位置に位置合わせする位置合せ装置とを備えた真空処理装置であって、
前記位置合せ装置が、前記試料に施される処理に応じて異なる位置に前記試料を位置合わせする真空処理装置。 - 減圧された内部に配置された処理対象の基板状の試料を処理可能な処理室を備えた複数の真空容器と、前記試料が複数収納可能なカセットが載置されるカセット台と、前記試料を前記カセットから一つの前記処理容器内の処理室に所定の経路に沿って搬送しこれら処理室で処理された試料を前記カセットに戻す少なくとも1つの搬送装置と、前記カセット台と前記複数の真空容器との間の前記経路上に配置され内部で前記試料を予め定められた位置に位置合わせする位置合せ装置とを備えた真空処理装置であって、
前記位置合せ装置が、前記試料に処理を施す前記処理室に応じて異なる位置に前記試料を位置合わせする真空処理装置。 - 請求項1または2に記載の真空処理装置であって、
前記位置合わせ装置が前記試料に施される前記処理の特性に応じて定まる異なる方向に前記前記試料を位置合わせする真空処理装置。 - 請求項1乃至3の何れかに記載の真空処理装置であって、
前記試料が略円板形状を有し、前記位置合わせ装置が前記試料の中心及びこの中心周りの前記試料の周縁部に配置された所定の形状の位置を予め定めた箇所で前記搬送手段がこの位置合わせ装置から取り出し可能に保持する真空処理装置。 - 平面形状が略多角形を有し減圧された内部を処理対象の略円板状の試料が搬送される搬送容器と、この搬送容器の前記多角形の隣り合う側壁に連結され減圧された内部に搬送された前記試料を処理可能な処理室を備えた複数の処理装置と、これら処理装置内の前記処理室に配置され前記試料がその上面に載置される試料台と、前記試料が複数収納可能なカセットが載置されるカセット台と、前記試料を前記カセットから一つの前記処理容器内の処理室に所定の経路に沿って搬送しこれら処理室で処理された試料を前記カセットに戻す少なくとも1つの搬送装置とを備えた真空処理装置であって、
前記隣り合う複数の処理装置が前記多角形の頂点部に関して対象に配置されたものであって、
それぞれの前記試料台が前記試料が載置される上面において、前記試料の周縁の所定の箇所に予め配置された特定の形状に合わせて形成され前記所定の箇所が載せられる特定形状部を有して、各々の前記処理室内において前記特定形状部がこの処理室内の所定の方向に対する配置が等しくされた真空処理装置。 - 請求項5に記載の真空処理装置であって、
前記試料の周縁に予め配置された切り欠き部の形状に合わせて形成され略円形の前記試料の載置面の外周に配置された切り欠き部を備えた真空処理装置。 - 請求項5または6に記載の真空処理装置であって、
前記カセット台と前記複数の真空容器との間の前記経路上に配置され内部で前記試料を予め定められた位置に位置合わせする位置合せ装置とを備えて、この位置合せ装置が前記特定形状部上に合わせて前記試料の周縁部の前記所定の箇所を位置合わせする真空処理装置。 - 請求項5乃至7の何れかに記載の真空処理装置であって、
各々の前記処理室内において前記特定形状部がこの処理室下部に配置され排気のための開口の方向に対する配置位置が等しくされた真空処理装置。 - 請求項5乃至8の何れかに記載の真空処理装置であって、
各々の前記処理室内において前記特定形状部がこの処理室内の処理の特性から定まる所定の方向に対する配置が等しくされた真空処理装置。
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