JP2008117643A - 荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法、コンピュータプログラム、及び、記録媒体 - Google Patents

荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法、コンピュータプログラム、及び、記録媒体 Download PDF

Info

Publication number
JP2008117643A
JP2008117643A JP2006299942A JP2006299942A JP2008117643A JP 2008117643 A JP2008117643 A JP 2008117643A JP 2006299942 A JP2006299942 A JP 2006299942A JP 2006299942 A JP2006299942 A JP 2006299942A JP 2008117643 A JP2008117643 A JP 2008117643A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
charged particle
particle beam
focal position
image
focus
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006299942A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4995542B2 (ja
Inventor
Kusuo Ueno
楠夫 上野
Daisuke Kubota
大輔 久保田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Topcon Corp
Original Assignee
Topcon Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Topcon Corp filed Critical Topcon Corp
Priority to JP2006299942A priority Critical patent/JP4995542B2/ja
Publication of JP2008117643A publication Critical patent/JP2008117643A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4995542B2 publication Critical patent/JP4995542B2/ja
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Abstract

【課題】高速かつ高い効率で焦点位置の検出を行うと共に、試料の帯電(チャージング)、損傷などを防ぐ。
【解決手段】荷電粒子ビームが照射された試料からの2次荷粒子に基づいて画像信号を取得し試料像を形成する走査電子顕微鏡10のオートフォーカス方法である。オートフォーカス装置40として複数の走査ラインからなる1フレーム分の試料領域を走査するに際して収束手段を駆動して荷電粒子ビームの焦点位置を所定範囲にわたって移動させる画像情報取得工程と、得られた1フレーム内の焦点の変更された試料像に対し、画像信号を解析して適正な荷電粒子ビームの焦点位置を取得する焦点位置検出工程と、得られた焦点位置に荷電粒子ビーム照射するように収束手段を設定する焦点位置設定工程とを備える。
【選択図】図4

Description

本発明は、試料上の観察対象領域に荷電粒子ビームを照射し、試料から発生する二次荷電粒子により試料像を形成する荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法、コンピュータプログラム、及び、記録媒体に関する。
近年走査電子顕微鏡等の荷電粒子ビーム装置にあっては、試料に照射する電子線の観察視野は高精度かつ広域のものが求められ、オートフォーカス装置も高速で高い焦点精度が要求される。また、観察時試料の損傷を極力防止する必要があり、低ダメージ化が要求されている。
このようなオートフォーカス装置において、フォーカス値検出の代表的な方法として、フォーカスを変えながら、複数の画像を取得し複数の画像を参照して最適なフォーカス値を決定する方法がある。
図6は従来の荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法を説明する図である。この例は、焦点位置を基準フォーカス位置FからΔfずつ変化させながら複数の画像(図6(a)〜(e))を取得し、それぞれの画像における像の鮮鋭度を評価し、この鮮鋭度から最適なフォーカス値を算出するものである。図5に示す例ではF+Δf×2の画像(図6(c))が最適なフォーカス値を有するものとして検出される。
これに類似する方法が特許文献1に記載されている。特許文献1には、電子ビームを試料上に集束すると共に、試料上の所定領域でビームを次元的に走査する荷電粒子ビーム装置において、試料上におけるビームのフォーカスの状態を段階的に変化させ、各フォーカスの段階において試料上の特定領域をビームによって走査し、ビーム走査に基づいて得られた検出信号に適当な処理を施してピーク確度を判定し判定された複数のピーク確度を比較していずれかのピーク位置を選択し、選択されたピーク位置に対応する電子ビームのフォーカスの状態にビームのフォーカス状態をセットするものが記載されている。これらは、試料像を撮影する1フレーム毎にフォーカスを変化させて、適正なフォーカス位置を求める方法である。
また、焦点位置検出の他の方法として、焦点位置検出時のスキャン領域を狭くし、フォーカスを変化させることにより最適なフォーカス値を決定する方法がある。図7は従来の荷電粒子ビーム装置の他のオートフォーカス方法を示す図である。この例は、試料に荷電粒子ビームを狭い同一領域に複数回スキャンし、1スキャン毎にフォーカスを変化させるものである。図7に示す例では、スキャン領域を中央だけに限定し(図7(a))、フォーカスを変化させ、それぞれのフォーカス値における画像を、順に並べ画像を得る(図7(b))。つまり図7(b)の画像では、最上位置にFocus値:F時の画像が表示され、次の行には、Focus +Δfの画像が表示され、下方に向け次々にΔfが加算された状態の画像が表示される。この例では、得られた図6(b)の画像より、各行における画像の鮮鋭度を求め、この鮮鋭度より最適なフォーカス値を算出するものである。
特開2002−334678公報
ところで、前者のフォーカスを変化させながら複数の画像を取得する方法では、複数の画像を取得する必要があるため、実行時間が長くなるという問題がある。即ち、最適フォーカス値の算出に複数の画像を得る必要があり、この問題は、観察視野の高精細化(ピクセル数の増大)に伴ってより顕著に現れる。
また、後者のスキャン領域を狭くした方法では、高速に最適なフォーカス値を得ることができるが、荷電粒子ビームを試料の狭い領域に何回も照射するためその部分のダメージが大きくなるという欠点がある。また狭くした領域にパターンがない場合にはオートフォーカスできないという欠点もある。
そこで、本発明は上記の課題を解決して高速かつ高い効率で焦点位置の検出を行うと共に、試料の帯電(チャージング)、損傷などを防ぐことができる荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法、コンピュータプログラム及び記録媒体を提供することを目的とする。
本発明は、上記課題を解決するため以下の手段を備える。即ち、請求項1の発明は、焦点位置に荷電粒子ビームを収束する収束手段と前記荷電粒子ビームを2次元的に走査する走査手段とを備え、前記荷電粒子ビームが照射された試料からの2次荷電粒子に基づいて画像信号を取得し試料像を形成する荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法において、複数の走査ラインからなる1フレーム分の試料領域を走査するに際して前記収束手段を駆動して前記荷電粒子ビームの焦点位置を所定範囲にわたって移動させる画像情報取得工程と、前記焦点移動中に得られた1フレームの前記試料像を表す画像信号を解析して適正な荷電粒子ビームの焦点位置を取得する焦点位置検出工程と、前記収束手段を前記適正な焦点位置に設定する焦点位置設定工程とを備えることを特徴とする荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法である。
請求項2の発明は、請求項1記載の荷電ビーム装置のオートフォーカス方法において、前記焦点位置変更工程では、前記試料の1フレームの領域において前記所定範囲にわたる焦点位置の移動を複数回にわたり行い、各移動回における画像信号を取得し、前記焦点位置検出工程では、前記各移動回における画像信号に基づいて適正な荷電粒子ビームの焦点位置を取得することを特徴とする。
請求項3の発明は、請求項1又は2記載の荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法において、前記画像情報取得工程では、前記焦点位置の移動を複数周期からなる鋸歯状波に基づいて行うことを特徴とする。
請求項4の発明は、請求項1乃至3のいずれか記載の荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法において、前記焦点位置検出工程では、前記試料像の鮮鋭度を表す画像信号のスコア値を求め、このスコア値に基づいて前記適正な焦点位置を取得することを特徴とする。
請求項5の発明は、請求項1乃至4のいずれか記載の荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス装置において、前記焦点位置検知工程では、走査によって得られる複数回の画像信号から取得したスコア値を平均化して適正な焦点位置を得ることを特徴とする。
請求項6の発明は、請求項1乃至5のいずれか記載の荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法において、前記焦点位置検出工程では、前記画像信号中に現れる試料像のエッジ数が所定数以下のとき、その画像信号を無視して前記スコア値を得ることを特徴とする。
請求項7の発明は、請求項1乃至6のいずれか記載の荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法において、前記画像情報取得工程では、交差する方向に荷電粒子ビームを走査して1フレームの画像を複数取得し、前記焦点位置検出工程では、前記複数の画像により適正な焦点位置を得ることを特徴とする。
請求項8の発明は、請求項1乃至7のいずれか記載の荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法において、前記画像情報取得工程では、複数フレームの画像を得るものとし、各フレームでは、荷電粒子ビームの焦点位置の走査方向、偏向量、位置、及び、周期数の少なくとも一つを相違させて荷電粒子ビームを走査し、前記焦点位置検出工程では、得られた複数フレームの画像に基づいて適正な焦点位置を得ることを特徴とする。
請求項9の発明は、前記請求項1乃至8のいずれか記載の荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法をコンピュータで実行することを特徴とするコンピュータプログラムである。
請求項10の発明は、請求項9記載のプログラムを格納したことを特徴とする記録媒体である。
本発明によれば、荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス動作において、最小で試料の1フレームをスキャンする間に適正な焦点位置を取得することができるので、試料を1フレームだけスキャンするだけ迅速なオートフォーカス動作を行うことができる。また複数回にわたり試料画像を積算すればノイズの低減を図ることができる。更に、試料の局所に荷電粒子ビームを照射することがないので試料の帯電、損傷などを防ぐことができる。
以下本発明が適用される荷電粒子ビーム装置の一例である走査電子顕微鏡について説明する。図1は実施の形態に係る走査電子顕微鏡の構成を示すブロック図である。
走査電子顕微鏡10は、図1に示すように、鏡筒11内上部の電子線源12から発生した電子線13を、アライメントコイル14(走査手段)、スティグコイル15(走査手段)で収差補正をしつつ走査し、対物レンズコイル16(収束手段)でフォーカスを調整し、例えばウェハ等の資料21を走査する。そして、試料室20内の試料21から発生する二次電子、反射電子などの荷電粒子17を検出器18で検出し、この検出器18からの信号を顕微鏡制御装置30で処理し、前記走査手段の走査に同期して画像表示装置35に試料像として観察可能に表示するものである。また、本例に係る走査電子顕微鏡10には、オートフォーカス装置40が接続されている。
次にオートフォーカス装置40について説明する。図2は実施の形態に係る走査電子顕微鏡のオートフォーカス装置の構成を示すブロック図である。オートフォーカス装置40は、図2に示すように、焦点位置変更装置41と、焦点位置検出装置42と、焦点位置設定装置43とを備えている。
なお、顕微鏡制御装置30及びオートフォーカス装置40はコンピュータにプログラムを実行させることにより前記機能を実現する。このプログラムは、CD、DVD等の記録媒体に格納しておくことができ、コンピュータにイントールされることにより、コンピュータは前記機能を実現する。
焦点位置変更装置41は、複数の走査ラインから構成される1フレーム分の試料領域を走査するに際して前記収束手段を駆動して前記荷電粒子ビームの焦点位置を所定範囲にわたって移動させる。即ち本例では、焦点位置変更装置41は、顕微鏡制御装置30を介して対物レンズコイル16を駆動して、1フレームの間に荷電粒子ビームを基準フォーカス位置Fから指定された振り幅ΔFを加えた位置(F+ΔF)まで複数回(例えば4回〜64回)変更して照射する。
図3は実施の形態に係る焦点位置変更装置の動作を示す模式図である。焦点位置変更装置41は、図3(a)に示すように、試料21の1領域を撮影するに際して、焦点位置を4周期にわたりF〜F+ΔFに変更する(図3(b))。この変更は鋸歯状波によって行われる。なお、この変更は他の波形例えば三角波によるものであってもよい。また、反復周期は4に限らず1、2、8、16…としてよい。
検出器18は試料21からの荷電粒子17を検出して、顕微鏡制御装置30は試料の1フレームの画像信号を得る。この動作では、荷電粒子ビームの走査は、試料の観察領域の全面について最小で1回だけ行われるから、試料にダメージを与えることがない。なお、走査は試料画像のノイズ低減のため複数回画像を積算することも可能である。
このように荷電粒子ビームの焦点位置が変更されつつ走査されると、画像信号として、図3(b)に示すものが得られる。この例では、画像信号から得られる画像は、鋸歯状波の周期毎に4つに分けることができる。この周期毎の画像(分割画像)毎にフォーカスが合っている個所では、試料のパターン(模様)が明瞭に現れ、その前後では、焦点があっておらず徐々にパターンがぼやけていく。
次に焦点位置検出装置42について説明する。焦点位置検出装置42は、焦点位置変更装置41による走査で取得した画像中からパターンの線(エッジ)を抽出し、このエッジの画像情報を解析して、鮮鋭度を表す画像信号のスコア値を求め、このスコア値に基づいて前記適正な焦点位置を取得する。
また、焦点位置検出装置42は、画像の取得周期(位置)による試料のパターンの多寡や、部分的にパターンがない場合、これらによりスコア値に影響が出るのを防止する補正を行うものとしている。この補正は、得られた4周期の画像に基づいて試料像の鮮鋭度を表す画像信号のスコア値をそれぞれの周期で求め、これらのスコア値を平均することによる。
更に、焦点位置検出装置42は、試料像の試料のパターンの多寡による影響を排除する補正を行うものとしている。この補正は、1周期における画像信号中にエッジ数が所定数より少ない場合、焦点位置検出の対象から外すことによる。
以下焦点位置検出装置42の動作アルゴリズムについて説明する。図4は焦点位置検出装置の動作を示すフローチャート、図5は焦点位置検出装置の動作を示す模式図である。なお、説明中のy方向はフォーカスを変更させた方向を、x方向はフォーカスを変更しない方向を、fは焦点の変更方向(電子線光軸上)をさす。
焦点位置検出装置42は各分割画像の鮮鋭度を以下の手順で算出して評価する。まず、焦点位置検出装置42は、繰り返し回数を設定する(ST1)。初期値を0とし、処理の繰り返し毎に「1」を加算して繰り返し回数を算出する。
次いでフォーカスの振り幅の判定を行う(ST2)。フォーカスの振れ幅(ΔF)が閾値1(予め定めた任意の定数)より大きい場合にはエラーと判断する。フォーカスの振れ幅は、後段の処理により増減する。振れ幅が大きすぎると、フォーカスの精度が不良となるためである。
次いで、繰り返し回数の判定を行う(ST3)、繰り返し回数が、閾値2(任意の定数)より大きい場合にはエラーと判断する。一定回数以上繰り返しても適正なフォーカス値を得ることができない場合は適正なフォーカス値が取得ができないものと判断する。
次いで画像取得を行う(ST4)。焦点位置変更装置41により1フレーム内で指定されたフォーカス振り幅によりフォーカスを変化させた画像(図5(a)を取得する。またこのときのフォーカスを変化させた周期データ(周期、ゲイン、開始位置のオフセットなど)も記憶する。
次いで、エッジ閾値を算出する(ST5)。前述の画像に対し、平滑化処理など必要な処理を行い、画像の明るさと頻度を軸にしたヒストグラムを積分したものより、暗いほうからy1%、y2%(それぞれy1%を約2%、y2%を約98%、等)を取り、その差分(y2−y1)をもとに、エッジ閾値を算出する。
次いで、スコア値の算出を行う(ST6)。取得した画像に対し、画像の1行毎にスコア値S(y)及びエッジ数EN(y)を算出する。得られるスコア値S(y)の模式図を図5(c)に示す。ここで画像をI(x,y)、m,nは任意の定数、エッジ閾値をET、エッジ数をEN(y)として、差分D(x、y)を算出する。差分D(x,y)は、式(1)で得られる。
ただしD(x、y)≦0の場合はD(x,y)=0とする。なお、差分D(x,y)は、以下の(2)式で求めることもできる(m,n,o,pは任意の定数)。
各行のスコア値S(y)、及び有効データ個数E(y)は以下のようにして求められる。ここでIXはフォーカスを変化させない方向の画像サイズであり、EN(y)は、D(x,y)>0となった個数である。またEN(y)より、閾値ENiを算出する。ENiは任意の定数であってもよいし、EN(y)の分散などにより求める値でもよい。
EN(y)<ENiとなるyは、S(y)=0、E(y)=0とし、それ以外は以下の計算を実行することにより得られる。
ここでS(y)をEN(y)で除することによりパターン数の多寡に影響されにくくなる。
また、ENiとの比較により、パターンが少ないと判断される場所を計算より除外することができる。
次いで、スコア値の平均を求める(ST7)。画像内のフォーカスの周期数をiとした場合に、各周期の画像のY方向の位置に対するフォーカス値をF1(f),F2(f)…Fi(f)とし、各周期の画像のY方向の位置に対する鮮鋭度プロファイルをS1(f),S2(f)…Si(f)とし、E(y)より、各フォーカス位置の有効データ数E(f)を算出する。・・・(5)
ここで各周期の鮮鋭度プロファイルを加算する。
次いで、仮ピーク算出を行い(ST8)、有効周期の判定を行う(ST9)。得られた結果S(f)に対し、ピーク位置Pを求める。各周期のピーク位置周辺の平均値A1(f),A2(f)…Ai(f)は以下のように求められる。なお、wは任意の定数である。
ここで、有効とする鋸歯状波の周期iを求めるため、以下の処理を行う。
Aiの最大値Amaxを求め、Amax/n<Aiとなる周期iのみを有効とする。(nは任意の定数)
また、例えばAiの分散Aσを求め、Amax/n<Aiとなる周期iのみを有効にする方法を採用することができる(nは任意の定数)。この処理を行うことにより、パターンが少ないと判断される周期を計算より除外することができる。
次いで、フォーカス値を算出する(ST10)。こうして得られた有効な周期iのみを用いて、(5)の操作、及び、(6)式を再実行し、得られたS(f)に対し、ピーク位置を算出する。ただしS(f)=0となるS(f)は、除外し近似を行う。これによりパターンのないエリアがあったとしても近似時には除外されるため最適フォーカス値の算出に影響を与えないようになる。なお、ピーク位置の算出に際しては、ピーク位置を中心とした2次近似を採用することができる他、ピーク位置の左右の一定範囲(20%〜80%など)の範囲の直線近似の交点を採用することができる。そして、得られたピーク位置より、最適フォーカス値、近似値と実際のデータとの一致度を示す決定係数Rを算出する。
更に、決定係数の比較を行い(ST11)、フォーカス値の設定を行う(ST12)。得られた決定係数Rを閾値3(所定の定数)と比較し、予め定めた閾値3より小さい場合には、フォーカスレンジ(前記ΔF)の範囲を拡大し(ST14)、再度繰り返し回数の設定(ST1)からの処理を繰り返す。また、決定係数Rが閾値3より大きい場合には、計算されたフォーカス値を設定フォーカス値として焦点位置検出装置42に設定する。
次に、フォーカスレンジ判定2を行う(ST13)。フォーカスレンジの値をとして、所定の精度を確保できる閾値4を定めておきΔFが閾値4以下である場合には正常終了し、そうでない場合には、フォーカスレンジを縮小し、再度繰り返し回数の設定(ST1)より繰り返す。
以上の手順により焦点位置検出装置42は、フォーカス値を決定する。焦点位置設定装置43は、このフォーカス値に基づいて対物レンズコイル16等の調整を行うことができ、走査電子顕微鏡10のオートフォーカス操作を実行できる。
なお、上記例では、焦点位置変更装置41及び焦点位置検出装置42による処理は毎回実行されるように説明したが、オートフォーカス装置はオペレータ等の外部からの切替操作により、フォーカス(画像)の鮮鋭度の評価を行うようにしてもよい。また、焦点位置検出装置42の設定フォーカス値と現在のフォーカス値とを比較してその差が一定範囲を超えた場合に警告を表示するか、もしくは焦点位置設定装置43に自動調整を行うようすることができる。
また、実施の形態例では、試料としてウェハを挙げたが、試料はこれに限定されず、電子ビームによって検出可能なパターン等が形成されたマスク等の任意の試料であってもよい。また、荷電粒子ビーム装置は、走査電子顕微鏡に限定されず、半導体製造・検査装置などの電子ビーム照射装置であってもよい。更に、荷電粒子ビーム装置で使用する荷電粒子は、電子に限らず、イオンなどの他の荷電粒子であってもよい。
更に、上記例では焦点位置変更装置は、1フレームの走査中において走査方向を同一のものとしたが、走査方向を交差する2方向で行うことができる。
そして、上記例は定めた一定の荷電粒子ビームの焦点位置の走査方向、偏向量、位置、及び、周期数で1フレームの画像を取得して焦点位置を求める場合について説明したが、焦点位置変更装置は複数フレームの画像を得るものとし、各フレームでは、荷電粒子ビームの焦点位置の走査方向、偏向量、位置、及び、周期数の少なくとも一つを相違させて荷電粒子ビームを走査するものとし、焦点位置検出装置では、得られた複数フレームの画像に基づいて適正な焦点位置を得るようにしてもよい。このようにすると、パターンが局所的にしかない場合や、パターンのエッジが特定方向だけにある場合にも精度良くオートフォーカス動作を行うことができる。
また、上記請求の範囲では、本発明を方法として記載したが、本発明を装置の発明として特定すると以下の手段を挙げることができる。
この場合、第1の手段は、焦点位置に荷電粒子ビームを収束する収束手段と前記荷電粒子ビームを2次元的に走査する走査手段とを備え、前記荷電粒子ビームが照射された試料からの2次荷電粒子に基づいて画像信号を取得し試料像を形成する荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス装置において、複数の走査ラインからなる1フレーム分の試料領域を走査するに際して前記収束手段を駆動して前記荷電粒子ビームの焦点位置を所定範囲にわたって移動させる焦点位置変更装置と、前記焦点変更中に得られた1フレームの前記試料像を表す画像信号を解析して適正な荷電粒子ビームの焦点位置を取得する焦点位置検出装置と、得られた焦点位置に荷電粒子ビームを照射するように前記収束手段を設定する焦点位置設定装置と、を備えることを特徴とする荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス装置である。
また、第2の手段は、前記第1の手段記載の荷電粒子ビームのオートフォーカス装置の焦点位置変更装置において、試料の1フレームの領域において前記所定範囲において焦点位置の移動を複数回にわたり行い、各移動回における画像信号を取得し、前記焦点位置検出装置は、前記各移動回における画像信号に基づいて適正な荷電粒子ビームの焦点位置を取得することを特徴とするものである。
また、第3の手段は、前記第1又は第2の手段記載の荷電粒子ビームのオートフォーカス装置において、前記焦点位置変更装置は、前記焦点位置の移動を鋸歯状波に基づいて行うことを特徴とするものである。
また、第4の手段は、前記第1乃至第3の手段のいずれか記載の荷電粒子ビームのオートフォーカス装置焦点位置検出装置において、前記試料像の鮮鋭度を表す画像信号のスコア値を求め、このスコア値に基づいて前記適正な焦点位置を取得することを特徴とするものである。
また、第5の手段は、前記第1乃至第4の手段のいずれか記載の荷電粒子ビームのオートフォーカス装置において、前記焦点位置検出装置は前記焦点位置検知装置走査によって得られる複数回の画像信号から取得したスコア値を平均化して適正な焦点位置を得ることを特徴とする。
また、第6の手段は、前記第1乃至第5の手段のいずれか記載の荷電粒子ビームのオートフォーカス装置において、前記焦点位置検出装置は、前記画像信号中に現れる試料像のエッジ数が所定数以下のとき、その画像信号を無視して前記スコア値を得ることを特徴とすることを特徴とする。
また、第7の手段は、前記第1乃至第6の手段のいずれか記載の荷電粒子ビームのオートフォーカス装置において、前記焦点位置変更装置は、交差する方向に荷電粒子ビームを走査して1フレームの複数の画像を得て、複数の画像により適正な焦点位置を得ることを特徴とする。
請求項8の手段は、前記第1乃至第7の手段のいずれか記載の荷電粒子ビームのオートフォーカス装置において、前記焦点位置変更装置は、複数フレームの画像を得るものとし、各フレームでは、荷電粒子ビームの焦点位置の走査方向、偏向量、位置、及び、周期数の少なくとも一つを相違させて荷電粒子ビームを走査し、前記焦点位置検出装置は、得られた複数フレームの画像に基づいて適正な焦点位置を得ることを特徴とする。
そして、第9の手段は、前記第1乃至第8のいずれか記載のオートフォーカス装置を備えたことを特徴とする荷電粒子ビーム装置である。
実施の形態に係る走査電子顕微鏡の構成を示すブロック図である。 実施の形態に係る走査電子顕微鏡のオートフォーカス装置の構成を示すブロック図である。 実施の形態に係る焦点位置変更装置の動作を示す模式図である。 実施の形態に係る焦点位置検出装置の動作を示すフローチャートである。 実施の形態に係る焦点位置検出装置の動作を示す模式図である。 従来の荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法を説明する図である。 従来の荷電粒子ビーム装置他のオートフォーカス方法を示す図である。
符号の説明
10 走査電子顕微鏡
11 鏡筒
12 電子線源
13 電子線
14 アライメントコイル
15 スティグコイル
16 対物レンズコイル
17 荷電粒子
18 検出器
20 試料室
21 試料
30 顕微鏡制御装置
35 画像表示装置
40 オートフォーカス装置
41 焦点位置変更装置
42 焦点位置検出装置
43 焦点位置設定装置

Claims (10)

  1. 焦点位置に荷電粒子ビームを収束する収束手段と前記荷電粒子ビームを2次元的に走査する走査手段とを備え、前記荷電粒子ビームが照射された試料からの2次荷電粒子に基づいて画像信号を取得し試料像を形成する荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法において、
    複数の走査ラインからなる1フレーム分の試料領域を走査するに際して前記収束手段を駆動して前記荷電粒子ビームの焦点位置を所定範囲にわたって移動させる画像情報取得工程と、
    前記焦点移動中に得られた1フレームの前記試料像を表す画像信号を解析して適正な荷電粒子ビームの焦点位置を取得する焦点位置検出工程と、
    前記収束手段を前記適正な焦点位置に設定する焦点位置設定工程とを備えることを特徴とする荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法。
  2. 前記焦点位置変更工程では、前記試料の1フレームの領域において前記所定範囲において焦点位置の移動を複数回にわたり行い、各移動回における画像信号を取得し、
    前記焦点位置検出工程では、前記各移動回における画像信号に基づいて適正な荷電粒子ビームの焦点位置を取得することを特徴とする請求項1記載の荷電ビーム装置のオートフォーカス方法。
  3. 前記画像情報取得工程では、前記焦点位置の移動を複数周期からなる鋸歯状波に基づいて行うことを特徴とする請求項1又は2記載の荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法。
  4. 前記焦点位置検出工程では、前記試料像の鮮鋭度を表す画像信号のスコア値を求め、このスコア値に基づいて前記適正な焦点位置を取得することを特徴とする請求項1乃至3のいずれか記載の荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法。
  5. 前記焦点位置検知工程では、走査によって得られる複数回の画像信号から取得したスコア値を平均化して適正な焦点位置を得ることを特徴とする請求項1乃至4のいずれか記載の荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法。
  6. 前記焦点位置検出工程では、前記画像信号中に現れる試料像のエッジ数が所定数以下のとき、その画像信号を無視して前記スコア値を得ることを特徴とする請求項1乃至5のいずれか記載の荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法。
  7. 前記画像情報取得工程では、交差する方向に荷電粒子ビームを走査して1フレームの画像を複数取得し、
    前記焦点位置検出工程では、前記複数の画像により適正な焦点位置を得ることを特徴とする請求項1乃至6のいずれか記載の荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法。
  8. 前記画像情報取得工程では、複数フレームの画像を得るものとし、各フレームでは、荷電粒子ビームの焦点位置の走査方向、偏向量、位置、及び、周期数の少なくとも一つを相違させて荷電粒子ビームを走査し、
    前記焦点位置検出工程では、得られた複数フレームの画像に基づいて適正な焦点位置を得ることを特徴とする請求項1乃至7のいずれか記載の荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法。
  9. 前記請求項1乃至8のいずれか記載の荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法をコンピュータで実行することを特徴とするコンピュータプログラム。
  10. 請求項9記載のプログラムを格納したことを特徴とする記録媒体。
JP2006299942A 2006-11-06 2006-11-06 荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法、コンピュータプログラム、及び、記録媒体 Active JP4995542B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006299942A JP4995542B2 (ja) 2006-11-06 2006-11-06 荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法、コンピュータプログラム、及び、記録媒体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006299942A JP4995542B2 (ja) 2006-11-06 2006-11-06 荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法、コンピュータプログラム、及び、記録媒体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2008117643A true JP2008117643A (ja) 2008-05-22
JP4995542B2 JP4995542B2 (ja) 2012-08-08

Family

ID=39503402

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006299942A Active JP4995542B2 (ja) 2006-11-06 2006-11-06 荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法、コンピュータプログラム、及び、記録媒体

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4995542B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013229189A (ja) * 2012-04-26 2013-11-07 Hitachi High-Technologies Corp 試料の寸法測定方法、および荷電粒子線装置
JP2020534638A (ja) * 2017-09-19 2020-11-26 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 荷電粒子ビーム装置及びその装置を動作させるシステム及び方法

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63307652A (ja) * 1987-06-08 1988-12-15 Nikon Corp 電子顕微鏡の焦点位置検出装置
JP2000277046A (ja) * 1999-03-29 2000-10-06 Shimadzu Corp 走査型電子顕微鏡における自動焦点合わせ方法
JP2001006599A (ja) * 1999-06-22 2001-01-12 Jeol Ltd 電子ビーム装置における電子ビーム制御方法
JP2003303564A (ja) * 2002-04-10 2003-10-24 Seiko Instruments Inc 走査型荷電粒子顕微鏡における自動焦点システム
JP2005201810A (ja) * 2004-01-16 2005-07-28 Toshiba Corp 寸法測定装置、寸法測定方法およびプログラム

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63307652A (ja) * 1987-06-08 1988-12-15 Nikon Corp 電子顕微鏡の焦点位置検出装置
JP2000277046A (ja) * 1999-03-29 2000-10-06 Shimadzu Corp 走査型電子顕微鏡における自動焦点合わせ方法
JP2001006599A (ja) * 1999-06-22 2001-01-12 Jeol Ltd 電子ビーム装置における電子ビーム制御方法
JP2003303564A (ja) * 2002-04-10 2003-10-24 Seiko Instruments Inc 走査型荷電粒子顕微鏡における自動焦点システム
JP2005201810A (ja) * 2004-01-16 2005-07-28 Toshiba Corp 寸法測定装置、寸法測定方法およびプログラム

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013229189A (ja) * 2012-04-26 2013-11-07 Hitachi High-Technologies Corp 試料の寸法測定方法、および荷電粒子線装置
JP2020534638A (ja) * 2017-09-19 2020-11-26 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 荷電粒子ビーム装置及びその装置を動作させるシステム及び方法
US11798777B2 (en) 2017-09-19 2023-10-24 Asml Netherlands B.V. Charged particle beam apparatus, and systems and methods for operating the apparatus

Also Published As

Publication number Publication date
JP4995542B2 (ja) 2012-08-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4644617B2 (ja) 荷電粒子線装置
JP5500871B2 (ja) テンプレートマッチング用テンプレート作成方法、及びテンプレート作成装置
JP3994691B2 (ja) 荷電粒子線装置および自動非点収差調整方法
JP4857101B2 (ja) プローブ評価方法
US7714286B2 (en) Charged particle beam apparatus, aberration correction value calculation unit therefor, and aberration correction program therefor
KR20180049099A (ko) 다중 빔 주사 전자 현미경 검사 시스템에서의 초점 조정을 위한 방법 및 시스템
TW201447225A (zh) 圖案測定方法、帶電粒子束裝置之裝置條件設定方法、以及帶電粒子束裝置
KR20140033331A (ko) 제조된 기판 상에 산재된 핫 스팟 영역들의 검사를 위한 방법 및 장치
JP4829584B2 (ja) 電子線装置の自動調整方法及び電子線装置
JP4995542B2 (ja) 荷電粒子ビーム装置のオートフォーカス方法、コンピュータプログラム、及び、記録媒体
US7671332B2 (en) Autofocus method for scanning charged-particle beam instrument
JP5506699B2 (ja) 荷電ビーム装置
JP5055015B2 (ja) 荷電粒子線装置
US10665420B2 (en) Charged particle beam apparatus
JP5592085B2 (ja) 荷電粒子ビーム装置におけるオートフォーカス画像判定方法、荷電粒子ビーム装置におけるオートフォーカス画像判定装置、荷電粒子ビーム装置、コンピュータプログラム及び記録媒体
JP5178558B2 (ja) 荷電粒子線の光軸調整方法、及び荷電粒子線装置
JP2009064746A (ja) 荷電粒子ビーム装置の撮像方法、コンピュータプログラム、記録媒体
KR102001715B1 (ko) 상대적 임계 치수의 측정을 위한 방법 및 장치
JP2014106388A (ja) 自動合焦点検出装置及びそれを備える荷電粒子線顕微鏡
JP5470194B2 (ja) 荷電粒子線装置
JP5191714B2 (ja) 電子線装置の自動補正方法、コンピュータプログラム、記録媒体及び電子線装置
JP2002075262A (ja) 画像処理応用装置
JP6230831B2 (ja) 荷電粒子線装置および画像取得方法
JP4246311B2 (ja) ビーム加工方法及び集束イオンビーム装置
CN114628210A (zh) 带电粒子束装置

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20091106

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20111019

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20111021

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20111220

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20120403

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20120416

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20120507

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20120510

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150518

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4995542

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250