JP2008103392A - 半導体装置および半導体装置の製造方法 - Google Patents
半導体装置および半導体装置の製造方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】本半導体装置は、炭化珪素半導体基体100の第1主面とヘテロ接合を形成し、且つ炭化珪素とバンドギャップの異なる多結晶シリコンからなるヘテロ半導体領域3と、ゲルマニウムからなり、へテロ半導体領域3と接するバッファ層4と、バッファ層4と接するアノード電極5と、炭化珪素基板1の裏面に接するカソード電極6を備えている。
【選択図】図1
Description
第1の実施形態に係る半導体装置について図1を参照して説明する。図1は、本発明の第1の実施形態に係る半導体装置の断面図である。図1に示す第1の実施形態に係る半導体装置は、第1の半導体材料である炭化珪素からなるN−型の炭化珪素基板1と、炭化珪素基板1上に形成された炭化珪素からなるN−型の炭化珪素エピタキシャル層2とからなる炭化珪素半導体基体100を備えている。更に、炭化珪素半導体基体100の第1主面である表面とヘテロ接合を形成し、且つ炭化珪素とバンドギャップの異なるヘテロ半導体材料であるP型の多結晶シリコン層11(図2参照)からなるヘテロ半導体領域3と、へテロ半導体領域3と異なる第2の半導体材料であるゲルマニウムからなり、へテロ半導体領域3と接するバッファ層4と、バッファ層4と接するアノード電極5とを少なくとも備えている。また、炭化珪素基板1の裏面に接触するようにカソード電極6が形成されている。
次に、第2の実施形態に係る半導体装置について、第1の実施形態に係る半導体装置と異なる点を中心に図4を参照して説明する。また、第2の実施形態に係る半導体装置について、第1の実施形態に係る半導体装置と同様の構造には同じ番号を付し、説明を省略する。また、第2の実施形態に係る半導体装置における炭化珪素エピタキシャル層2の表面にヘテロ半導体領域3を形成する工程と、ヘテロ半導体領域3に接してバッファ層4を形成する工程と、バッファ層4に接してアノード電極5を形成する工程は、第1の実施形態に係る半導体装置の製造工程と同様であり、他の工程は従来の製造工程と同様であるので、第2の実施形態に係る半導体装置の製造方法の説明を省略する。
4 バッファ層、5 アノード電極、6 カソード電極、
11 多結晶シリコン層、12 ゲルマニウム層、20 ガリウムイオン、
30 P型の炭化珪素(電界緩和領域)、31 高抵抗領域(電界緩和領域)、
32 トレンチ、33 フィールド絶縁膜、34 層間絶縁膜、
40 ソース領域、41 ゲート絶縁膜、42 ゲート電極、
100 炭化珪素半導体基体
Claims (12)
- 第1の半導体材料からなる半導体基体と、
前記半導体基体の第1主面とヘテロ接合を形成し、且つ前記第1の半導体材料とバンドギャップの異なるヘテロ半導体材料からなるヘテロ半導体領域と、
前記半導体基体に接するカソード電極とを有する半導体装置において、
前記へテロ半導体領域と異なる第2の半導体材料からなり、前記へテロ半導体領域と接するバッファ層と、
前記バッファ層の少なくとも一部と接するアノード電極とを備えることを特徴とする半導体装置。 - 前記バッファ層の導電型と前記へテロ半導体領域の導電型が、同一導電型であることを特徴とする請求項1に記載の半導体装置。
- 前記アノード電極と前記バッファ層との接合部における前記バッファ層のキャリア濃度が、前記へテロ接合部における前記ヘテロ半導体領域のキャリア濃度以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記へテロ半導体領域と前記バッファ層との両方に、同種の不純物がドーピングされていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記バッファ層における前記同種の不純物の固溶限界濃度が、前記へテロ半導体領域における前記同種の不純物の固溶限界濃度より高いことを特徴とする請求項4のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記へテロ半導体領域と前記バッファ層との両方にドーピングされている前記同種の不純物の濃度が、前記へテロ半導体領域における前記同種の不純物の前記固溶限界濃度より高いことを特徴とする請求項5に記載の半導体装置。
- 前記第1の半導体材料が、炭化珪素、窒化ガリウム、ダイヤモンドのいずれかであることを特徴とする請求項1乃至6のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記へテロ半導体材料が、単結晶シリコン、多結晶シリコン、アモルファスシリコンのいずれかであることを特徴とする請求項1乃至7のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記第2の半導体材料が、ゲルマニウム、またはシリコンゲルマニウムであることを特徴とする請求項1乃至8のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記不純物がガリウムであることを特徴とする請求項4乃至9のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記半導体基体の所定の位置に形成されたソース領域と、
前記半導体基体と前記ソース領域の接合部に接して形成されたゲート絶縁膜、前記ゲート絶縁膜に接して形成されたゲート電極および前記ヘテロ半導体領域からなる駆動領域と、
前記半導体基体の一部に形成されたドレイン領域との少なくとも3つの領域から構成される活性領域を有するスイッチ素子を有し、
前記ソース領域は、前記アノード電極および前記バッファ層と接し、
前記ドレイン領域は、前記カソード電極と接することを特徴とする請求項1乃至10のいずれかに記載の半導体装置。 - 第1の半導体材料からなる半導体基体上に、前記半導体基体の第1主面とヘテロ接合を形成し、且つ前記第1の半導体材料とバンドギャップの異なるヘテロ半導体材料からなるヘテロ半導体領域を形成する工程と、
前記へテロ半導体領域に接するように、前記ヘテロ半導体材料と異なる第2の半導体材料からなるバッファ層を形成する工程と、
前記バッファ層に接してアノード電極を形成する工程と、
前記半導体基体に接してカソード電極を形成する工程とを有する半導体装置の製造方法
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