JP2008098572A - 荷電ビーム描画装置用アパーチャマスクデータ作成方法および装置 - Google Patents

Abstract

【課題】アパーチャマスクデータ作成における既存の方法には、回路パターン完成前のアパーチャマスクデータ作成が困難であること、偏向距離短縮と描画精度向上のふたつの基準を同時に満たすアパーチャマスクデータ作成が困難であること、および、アパーチャマスクの運用過程で起こりうる性能低下に対するブラッシュアップの時期提起およびブラッシュアップ実行が困難であるという問題点がある。
【解決手段】荷電ビーム描画用アパーチャマスクのアパーチャマスクデータを作成するアパーチャマスクデータ作成装置であって、各キャラクタ開口をグループ化するグループ化手段と、アパーチャマスク上に形成する各キャラクタ開口の形成位置を決定するキャラクタ開口配置手段と、前記アパーチャマスクデータを作成するアパーチャマスクデータ作成手段とを備えることを特徴とするアパーチャマスクデータ作成装置。
【選択図】図１

Description

本発明は、荷電ビーム描画装置用アパーチャマスクデータ作成方法および装置等に関する。

従来の電子ビーム描画装置は、矩形開口を有する透過アパーチャマスクを使用して任意形状の矩形ビームを形成してウェーハ上に露光する（ＶＳＢ方式と呼ぶ）。また、回路パターン上で繰り返し登場する形状に相当する開口（キャラクタ開口と呼ぶ）をアパーチャマスク上に複数形成し、回路パターンの該当図形を照射する場合に該当キャラクタ開口を照射してショット数を減らし、スループットを向上させる方式（キャラクタ・プロジェクション方式、ＣＰ方式）が提案されている。

ＣＰ方式の電子ビーム描画装置は通常、少なくとも２つの偏向装置を備える。アパーチャマスク上のキャラクタ開口を選択するための偏向装置、及びウェハ上の照射位置を指定するための偏向装置である。ＣＰ方式では、使用するキャラクタ開口を変更するごとにビームの偏向が必要となり、ビームが安定してキャラクタ開口を照射できるまでの待ち時間（偏向整定待ち時間）が発生する。

この偏向整定待ち時間を短縮する方法の例が、特許文献１に開示されている。この方法では、回路パターン上への配置順序が近いキャラクタ開口同士を、アパーチャマスク上で近くに配置する。しかし、この方法は、キャラクタ開口を回路パターン上に配置する順序が常に一定である場合にしか適用できない。そして、この問題を改善する方法が、特許文献２に開示されている。この方法では、ウェハ上における電子ビームの偏向領域（照射領域）ごとに任意の２つのキャラクタ開口同士の組み合わせ頻度を算出し、個々のキャラクタ開口同士の距離と個々のキャラクタ開口同士の組み合わせ頻度との積の総和を算出する。そして、この総和が最小となるように、アパーチャマスク上における各キャラクタ開口の配置を決定する。

アパーチャマスク上におけるキャラクタ開口の配置は、偏向整定待ち時間だけではなく、ウェハ上にビームを照射する際の照射位置やビーム形状に影響する。ＣＰ方式にて、アパーチャマスク周辺部のキャラクタ開口にビームを照射するためには、ビームを大きく偏向させる必要がある。しかし、ビームを大きく偏向させるとビームの収差が大きくなり、照射位置のずれやパターン形状のぼけが生じてしまう。特許文献３には、この問題に対処する方法が開示されている。この方法では、収差が大きくなるアパーチャマスク周辺部に、開口率の小さなキャラクタ開口が配置される。これにより、キャラクタ開口へのビーム照射時におけるクーロン相互作用による悪影響が低減される。

以上の先行技術には、次のような問題がある。即ち、偏向整定待ち時間の短縮のための技術に関しては、実際に照射順が決まるまで、アパーチャマスク上におけるキャラクタ開口の配置を決めるのが難しいという問題がある。パターン形状の精度向上のための技術に関しては、開口率の小さなキャラクタ開口であってもその精度を向上させたいような場合に不都合であるという問題がある。更に、上記の先行技術に関しては、一方の技術を他方の技術と併用することが困難であるため、偏向整定待ち時間の短縮とパターン形状の精度向上の両方を満たすレイアウトの実現が困難であるという問題がある。
特許２６７４１４７号公報 特開２００１−２５７１４５号公報 特許３１９９２３０号公報

本発明は、荷電ビーム描画用アパーチャマスクに形成する各キャラクタ開口の形成位置を決定するための新たな手法を提案することを課題とする。

本発明は、荷電ビーム描画用アパーチャマスクのアパーチャマスクデータを作成するアパーチャマスクデータ作成装置であって、パターン上に頻出する図形を照射するための開口である各キャラクタ開口をグループ化するグループ化手段と、アパーチャマスク上の領域を各グループに割り当て、各グループに割り振られた領域を各キャラクタ開口に割り当てることで、アパーチャマスク上に形成する各キャラクタ開口の形成位置を決定するキャラクタ開口配置手段と、各キャラクタ開口の形成位置の決定結果に基づき、前記アパーチャマスクデータを作成するアパーチャマスクデータ作成手段とを備えることを特徴とするアパーチャマスクデータ作成装置に係る。

本発明は、荷電ビーム描画用アパーチャマスクのアパーチャマスクデータを作成するアパーチャマスクデータ作成方法であって、パターン上に頻出する図形を照射するための開口である各キャラクタ開口をグループ化し、アパーチャマスク上の領域を各グループに割り当て、各グループに割り振られた領域を各キャラクタ開口に割り当てることで、アパーチャマスク上に形成する各キャラクタ開口の形成位置を決定し、各キャラクタ開口の形成位置の決定結果に基づき、前記アパーチャマスクデータを作成することを特徴とするアパーチャマスクデータ作成方法に係る。

本発明は、荷電ビーム描画用アパーチャマスクのアパーチャマスクデータを作成するような情報処理を、コンピュータに実行させるアパーチャマスクデータ作成用プログラムであって、パターン上に頻出する図形を照射するための開口である各キャラクタ開口をグループ化し、アパーチャマスク上の領域を各グループに割り当て、各グループに割り振られた領域を各キャラクタ開口に割り当てることで、アパーチャマスク上に形成する各キャラクタ開口の形成位置を決定し、各キャラクタ開口の形成位置の決定結果に基づき、前記アパーチャマスクデータを作成するような情報処理を、コンピュータに実行させるアパーチャマスクデータ作成用プログラムに係る。

本発明は、上記のアパーチャマスクデータ作成装置、上記のアパーチャマスクデータ作成方法、又は上記のアパーチャマスクデータ作成用プログラム、により作成されたアパーチャマスクデータから作製された荷電ビーム描画用アパーチャマスクに係る。本発明は、上記の荷電ビーム描画用アパーチャマスクを備える荷電ビーム描画装置に係る。本発明は、上記の荷電ビーム描画用アパーチャマスクを用いて荷電ビーム描画を行う荷電ビーム描画方法に係る。

本発明は、従来のアパーチャマスクデータ作成方法と異なり、回路パターンの完成を待たずにアパーチャマスクの作製に取り掛かることができるため、露光開始までの時間短縮が期待できる。また、スループットを必要とする場合のアパーチャマスク作成、精度を必要とする場合のアパーチャマスク作成の両方に利用できる。露光時の実利用頻度から、アパーチャマスクのブラッシュアップを行うことができ、装置を使用すればするほどよりスループットや精度が高いアパーチャマスクの作成が期待できる。

図１は、電子ビーム描画装置１０１の模式図である。図１の電子ビーム描画装置１０１は、アパーチャマスクデータ作成機能及び電子ビーム描画機能を備えており、本発明のアパーチャマスクデータ作成装置及び荷電ビーム描画装置の例となっている。

図１の電子ビーム描画装置１０１では先ず、アパーチャマスクデータ作成機能により、電子ビーム描画用アパーチャマスクのアパーチャマスクデータが作成される。そして、市販のアパーチャマスク作製装置等によって、当該アパーチャマスクデータから電子ビーム描画用アパーチャマスクが作製される。そして、当該アパーチャマスクが図１の電子ビーム描画装置１０１に装着される。図１の電子ビーム描画装置１０１では次に、電子ビーム描画機能により、当該アパーチャマスクを用いた電子ビーム描画が行われる。当該アパーチャマスクは、パターニング用のビームを成形するためのアパーチャマスクに相当し、本発明の荷電ビーム描画用アパーチャマスクの例に相当する。

なお、電子ビーム描画機能及びアパーチャマスクデータ作成機能は、図１に示すように１台の機器に統合されていてもよいし、図２に示すように２台の機器に分離されていてもよい。図２には、電子ビーム描画機能を備える電子ビーム描画装置１０１’と、アパーチャマスクデータ作成機能を備えるアパーチャマスクデータ作成装置２０１が示されている。図２の電子ビーム描画装置１０１’は、本発明の荷電ビーム描画装置の例に相当し、図２のアパーチャマスクデータ作成装置２０１は、本発明のアパーチャマスクデータ作成装置の例に相当する。以下、図１に戻り説明を続ける。

図１の電子ビーム描画装置１０１は、電子ビーム描画機能のための電子光学系として、電子銃１１１と、第１成形アパーチャマスク１２１と、第１偏向器１２２と、第１偏向アンプ１２３と、第２成形アパーチャマスク１３１と、第２偏向器１３２と、第２偏向アンプ１３３と、ステージ１４１（ウェハ１４２がセットされる）と、パターンデータメモリ１５１と、パターンデータデコーダ１５２とを備える。

電子銃１１１は、電子ビームを発射する装置である。第１成形アパーチャマスク１２１は、矩形ビーム成形用のアパーチャマスクである。第１偏向器１２２は、前記電子ビームを第１成形アパーチャマスク１２１のアパーチャから第２成形アパーチャマスク１３１のアパーチャ（キャラクタ開口、図２２参照）に向けて偏向させる偏向器である。第１偏向アンプ１２３は、第１偏向器１２２による偏向処理のためのアンプである。第２成形アパーチャマスク１３１は、パターニングビーム成形用のアパーチャマスクである。第２偏向器１３２は、前記電子ビームを第２成形アパーチャマスク１３１のアパーチャ（キャラクタ開口）からステージ１４１のウェハ１４２に向けて偏向させる偏向器である。第２偏向アンプ１３３は、第２偏向器１３２による偏向処理のためのアンプである。ステージ１４１は、ウェハ１４２等の試料がセットされる試料台である。パターンデータメモリ１５１は、パターンデータが記憶されるメモリである。パターンデータデコーダ１５２は、パターンデータをデコードするデコーダである。

図１の電子ビーム描画装置１０１は、アパーチャマスクデータ作成機能のためのブロックとして、キャラクタ開口抽出部２１１、グループ化部２１２、キャラクタ開口配置部２１３、及びデータ変換部２１４を有するキャラクタ開口管理システムと、アパーチャマスクデータ作成部２２１と、修正画面提供部２３１と、通知部２４１とを備える。これらのブロックは、ここではコンピュータプログラムによって実現される。このコンピュータプログラムは、本発明のアパーチャマスクデータ作成用プログラムの例に相当する。このコンピュータプログラムは例えば、当該描画装置内のＨＤＤに格納されており、当該描画装置内のＣＰＵで実行される。当該描画装置は更に、キャラクタ開口データベース２５１を備える。

キャラクタ開口抽出部２１１は、キャラクタ開口とするパターンを回路パターンから抽出するブロックである。グループ化部２１２は、アパーチャマスク上に形成予定の各キャラクタ開口をグループ化するブロックである。キャラクタ開口配置部２１３は、アパーチャマスク上に形成予定の各キャラクタ開口の形成位置を決定するブロックである。データ変換部２１４は、回路パターンのＣＡＤデータの変換処理を実行するブロックである。データ変換部２１４は、別システム上で稼動する形態でもかまわない。

アパーチャマスクデータ作成部２２１は、各キャラクタ開口の形成位置の決定結果に基づき、上記のアパーチャマスクデータを作成するブロックである。修正画面提供部２３１は、作成されたキャラクタ開口配置の位置の変更やキャラクタ開口の入れ替えを行うための修正画面を提供するブロックである。通知部２４１は、キャラクタ開口データベース２５１の情報を参照することで、新規に作成されたキャラクタ開口配置と既存のキャラクタ開口配置とを比較し、新規に作成されたキャラクタ開口配置の方が優位である旨の比較結果を得た場合、新規に作成されたキャラクタ開口配置を利用すべき旨を通知するブロックである。

キャラクタ開口データベース２５１は、キャラクタ開口に関する種々の情報を格納するためのデータベースである。キャラクタ開口データベース２５１には、各キャラクタ開口について、その識別データ（識別子等）や、その形状データ（向き及び太さ等）や、その使用データ（使用回数等）や、その生成データ（キャラクタ開口を生成する手法や生成時の条件などのデータ）や、その抽出元のセルである元セルの名称情報や、その元セルの機能情報や、その元セルの配置情報（回転角度，拡大縮小率，及び反転の有無等）や、その所属グループに関する情報等が格納される。

ここで、本装置の電子ビームの偏向処理及びキャラクタ開口の配置態様について、より詳細に説明しておく。

本装置は、第２成形アパーチャマスク１３１上のキャラクタ開口を選択するための第１偏向器１２２、電子ビームのウェハ１４２上への照射位置（露光位置）を指定するための第２偏向器１３２、という２つの偏向器を備える。

第１偏向器１２２の偏向処理に関する制御は、第１偏向アンプ１２３に制御電圧を印加する事で実行される。印加可能な制御電圧に上限があること等に起因して、第１偏向器１２２が電子ビームを偏向させることが可能な範囲には限界が存在する。アパーチャマスク上に形成される各キャラクタ開口は、アパーチャマスク上の当該範囲内に配置される事になる。

キャラクタ開口のサイズは、第１成形アパーチャマスク１２１のアパーチャより小さなサイズであればよい。キャラクタ開口のサイズを小さくすると、一の第２成形アパーチャマスク１３１上に配置できるキャラクタ開口の個数が増加し、より多くの種類の回路パターンが一括照射できるようになり、ショット数の削減率上昇が達成され得る。よって、本装置では、アパーチャマスク上に配置されるキャラクタ開口のサイズやアパーチャマスク上に配置できるキャラクタ開口の個数が可変となっていてもよい。キャラクタ開口のサイズやキャラクタ開口の個数の変更は、自動的に行われるようにしてもよいし、後述の修正画面（図２０）等におけるユーザによる手動設定に応じて行われるようにしてもよい。

本装置のキャラクタ開口の抽出単位としては、例えば、回路パターンのスタンダード・セル・ロジック設計で使用されるスタンダード・セルが想定されている。スタンダード・セルは、プロセスノード（技術ノード）が小さくなるのに伴って小さくなる傾向がある。よって、本装置では、プロセスノードが進むに従い、より多くの種類のキャラクタ開口をアパーチャマスク上に配置できるようになり、より多くの種類の回路パターンが一括照射できるようになる。

電子ビームを偏向させる際には、照射位置を設定してからキャラクタ開口を照射できるようになるまでビームの安定を待つ「整定時間」が発生する。あるキャラクタ開口を照射する際の整定時間は、そのキャラクタ開口とその直前のキャラクタ開口との偏向距離が長くなるに従って増加する。また、本装置のように、複数の偏向器を備える描画装置では、各偏向器の整定時間の内の最大のものが、当該描画装置の整定時間となる。本装置では、ウェハ１４２上で近くに位置するセル同士に対応するキャラクタ開口同士を、アパーチャマスク上で近くに配置することで、本装置の整定時間を短くすることが可能である。

さて、図１の電子ビーム描画装置１０１の基本動作は、アパーチャマスクデータ作成時の基本動作と電子ビーム描画時の基本動作とに分けられる。

アパーチャマスクデータ作成時の基本動作は、次の通りである。

先ず、キャラクタ開口抽出部２１１が、回路パターンからキャラクタ開口にするセルを抽出する。回路パターン以外のデータからセルが抽出されるようにしてもかまわない。次に、キャラクタ開口抽出部２１１は、セルのサイズ，セルの参照回数，セルの形状の複雑さの度合（複雑度）等の基準で、各セルをキャラクタ開口にするかどうかを判定する。次に、キャラクタ開口抽出部２１１は、キャラクタ開口にするセルデータをキャラクタ開口用のデータに変換し、データベースに書き込む。キャラクタ開口１つ分よりも大きなサイズのセルデータについては、キャラクタ開口１つ分に収まるようなサイズに分割される。回路パターン上で回転，拡大縮小，反転されて配置されているセルについては、セルデータの変換処理の際に、セルデータの回転処理，拡大縮小処理，反転処理が実行される。

キャラクタ開口抽出部２１１は、上記抽出処理の際にグループ化部２１２を呼び出す。グループ化部２１２は、キャラクタ開口抽出部２１１の制御の下、セルの配置領域，セルの名称，セル（キャラクタ開口）の参照（使用）回数，セルの形状複雑度等に基づき、各セルに対応するキャラクタ開口のグループ化を行う。各キャラクタ開口の所属グループに関する情報は、データベースに書き込まれる。なお、グループ化部２１２は、複数の回路パターンから抽出されたキャラクタ開口を、１つのグループに所属させることができる。

なお、グループ化部２１２は、キャラクタ開口抽出部２１１からの呼び出しに応じてグループ化処理を実行するだけでなく、キャラクタ開口に関する情報をデータベースから独自に読み込んでグループ化処理を実行することもできる。即ち、アパーチャマスクデータ作成処理は、回路パターンデータがない状態でも実施可能である。

続いて、キャラクタ開口配置部２１３が、データベースから各キャラクタ開口に関する情報を読み込む。次に、キャラクタ開口配置部２１３は、各キャラクタの所属グループに関する情報等に基づいて、アパーチャマスク上における各キャラクタ開口の配置を決定する。なお、配置決定処理の際、キャラクタ開口配置部２１３は、同一のキャラクタ開口を１つのアパーチャマスク上の複数箇所に配置することもできる。次に、アパーチャマスクデータ作成部２２１が、キャラクタ開口配置部２１３によるキャラクタ開口配置の決定結果と、データベースに格納されている各キャラクタ開口の形状データとに基づき、上記のアパーチャマスクデータ（アパーチャマスク作製用の設計データ）を作成する。このアパーチャマスクデータから、パターニングビーム成形用のアパーチャマスクが作製される。

電子ビーム描画時の基本動作は、次の通りである。

先ず、電子銃１１１から電子ビームが発射される。当該電子ビームは、電子銃１１１の下流にあるレンズで電流密度が調整された後、第１成形アパーチャマスク１２１にて矩形ビームに成形されて、第２成形アパーチャマスク１３１上に結像される。第２成形アパーチャマスク１３１上には複数のキャラクタ開口が配置されており、電子ビームの照射位置は第１偏向器１２２により選択される。キャラクタ開口の照射順（選択順）については、パターンデータメモリ１５１上のパターンデータをパターンデータデコーダ１５２が解釈し、その解釈結果に基づいて第１偏向アンプ１２３が第１偏向器１２２を制御することで規定される。パターンデータメモリ１５１上のパターンデータはキャラクタ開口管理システムから供給されるところ、図２の場合の当該データ供給は、ネットワーク通信等により自動で実施されるようにしてもよいし、記憶メディアの付け替え操作等により手動で実施されるようにしてもよい。なお、ここでは、キャラクタ開口の一部のみに矩形ビームを照射（部分照射と呼ぶ。詳細は後述）することで、パターニングビームを成形することもできる。

パターニングビームは、第２成形アパーチャマスク１３１の下流にあるレンズによって縮小化されて、ウェハ１４２上に結像される。パターニングビームのウェハ１４２上への照射位置については、パターンデータメモリ１５１上のパターンデータをパターンデータデコーダ１５２が解釈し、その解釈結果を元に第２偏向アンプ１３３が第２偏向器１３２を制御することで規定される。

（１）キャラクタ開口のグループ化
本装置では、グループ化部２１２が、ウェハ１４２上で近くに位置するセル同士に対応するキャラクタ開口同士をグループ化する。グループ化結果に関する情報は、キャラクタ開口データベース２５１に格納される。そして、本装置では、キャラクタ開口配置部２１３が、アパーチャマスク（第２成形アパーチャマスク１３１）上の領域を各グループに割り当て、各グループの領域を各キャラクタ開口に割り当てることで、アパーチャマスク上に形成予定の各キャラクタ開口の形成位置を決定する。これにより、同じグループに属するキャラクタ開口同士を、アパーチャマスク上で比較的近い所に配置することが可能になる。そして、これにより、本装置の偏向整定待ち時間を短縮し、スループットを向上させることができる。

以下、グループ化部２１２により生成されるグループの具体例について説明する。

第１具体例としては、各キャラクタ開口の対応セル（元セル）の機能に基づくグループ化が挙げられる。回路パターン内の領域は、ＲＡＭやＲＯＭ等が形成されるメモリ領域、ＣＰＵ等が形成されるロジック領域というように、集積される素子の機能別に区切られていることが多い。従って、メモリ部位同士は互いに近くに配置されることが多いし、ロジック部位同士は互いに近くに配置されることが多い。更には、メモリ部位同士の中でも、異なる種類のメモリ用のメモリ部位同士よりも、同じ種類のメモリ用のメモリ部位同士の方が、互いに近くに配置されることが多い。よって、第１具体例では、対応セルの機能が共通するキャラクタ開口同士を、同じグループとして取り扱う。

回路パターンから抽出されたセル同士が、同じ機能に関するセル同士であるかどうかの判定については、以下のような方法が考えられる。第１に、同様の機能に関するセル同士には、同様のセル名が付与されていることが多いので、上記判定を、セル同士の名称文字列の一致度比較により行うことが考えられる。この場合のキャラクタ開口のグループ化は、対応セルの名称に基づくグループ化となる。第２に、セルは機能別にまとめて配置されることが多いので、上記判定を、セル同士が共に特定領域内に存在するかどうかを基準に行うことが考えられる。

第２具体例としては、各キャラクタ開口の対応セル（元セル）の配置に基づくグループ化が挙げられる。これは、キャラクタ開口を、回路パターン内での対応セルの配置（回転角度、拡大縮小率、反転の有無等）により分類するものである。例えば、ある形状を種々の角度回転した種々のセルに関して、０度回転セル用のキャラクタ開口と１８０回転セル用のキャラクタ開口とをグループ化したり、９０度回転セル用のキャラクタ開口と２７０回転セル用のキャラクタ開口とをグループ化したりする。これは、あるセルとその点対称状のセルとを近くに配置させることが多い場合等に有用である。また、斜線を含むセル用のキャラクタ開口と斜線を含まないセル用のキャラクタ開口とをそれぞれグループ化し、斜線を含まないセルに関するパターン照射時の偏向距離を短縮することが考えられる。

対応セルの回転角度に基づくキャラクタ開口のグループ化の例として、ＳＲＡＭを取り上げる。図３はＳＲＡＭの１ビット領域の論理図であり、図４はＳＲＡＭの４×４ビット領域の論理図である。図３及び図４のように、ＳＲＡＭの１ビットは、２個のインバータＩＮ１及びＩＮ２と、２個のスイッチＳＷ１及びＳＷ２によって構成される。インバータＩＮ１及びＩＮ２はそれぞれＰＭＯＳ及びＮＭＯＳからなり、スイッチＳＷ１及びＳＷ２はそれぞれＮＭＯＳからなる。よって、ＳＲＡＭの１ビットは、図５及び図６のように、２個のＰ型トランジスタＴＰ１及びＴＰ２と、４個のＮ型トランジスタＴＮ１、ＴＮ２、ＴＮ３、及びＴＮ４によって構成される。図５はＳＲＡＭの１ビット領域のトランジスタ構造を表し、図６はＳＲＡＭの１ビット領域のアパーチャマスクパターンの具体例を表す。

当該ＳＲＡＭのＰＭＯＳ領域とＮＭＯＳ領域は、互いに分離する必要がある。そこで、図７のようなＳＲＡＭセルを図８のように配置すれば、ＳＲＡＭの面積効率を高くしつつＰＭＯＳ領域とＮＭＯＳ領域を互いに分離することができる。図８では、図７のＳＲＡＭセルと、図７のＳＲＡＭセルの反転セル（線対称セル）とが組み合わされている。この場合には、図７のＳＲＡＭセル用のキャラクタ開口と、図７のＳＲＡＭセルの反転セル用のキャラクタ開口とをグループ化するのが望ましい。

第３具体例としては、各キャラクタ開口の生成方法（どんな手法で生成されたか）や生成態様（どんな形態に生成されたか）等に関するデータ（生成データ）に基づくグループ化が挙げられる。例えば、図９のように、１つのセルを３つに分割して、３つのキャラクタ開口を生成する場合には、これらの３つのキャラクタ開口をグループ化するのが望ましい。これらのキャラクタ開口がそれぞれ保持するパターンは、当然、近くに配置される可能性が高いからである。セルを分割してキャラクタ開口を生成する場合としては、セルのサイズがキャラクタ開口のサイズよりも大きい場合や、セルがドーナツ形状又はリーフ形状を含む場合等が考えられる。

第４具体例としては、各キャラクタ開口の描画精度に基づくグループ化が挙げられる。当該グループ化は、各キャラクタ開口の形状に関するデータ（形状データ）や、各キャラクタ開口の使用頻度や使用態様等に関するデータ（使用データ）を利用して実現される。

回路パターン内では、必要な照射精度が部位により異なる場合がある。例えば、トランジスタの性能に直結する部位、微小形状を含むことが多い部位、図形同士のつなぎ精度が重要になる部位等については、通常、描画位置や描画ゆがみに関する制約が他の部位よりも厳しい。これらの部位の多くは、キャラクタ開口の形状データに基づき特定することが可能である。これらの部位に関連するキャラクタ開口の多くは、開口パターンの細かさや複雑さ等が特徴となるからである。そのため、第４具体例では、各キャラクタ開口の形状データに基づき、高い描画精度が必要なキャラクタ開口同士をグループ化して、これらをアパーチャマスクの中心付近に優先的に配置する。

一方、各キャラクタ開口の使用データが問題となるのは、図１０のように、キャラクタ開口の一部を照射する「部分照射」の場合である。部分照射用のキャラクタ開口には、等間隔の縞模様のパターン等が形成されており、当該キャラクタ開口は、配線やコンタクトを描画するのに使用される。そして、描画図形の本数や長さに応じて、当該キャラクタ開口が部分的に照射されたり繰り返し照射されたりする。これにより、任意の本数の配線等をまとめて描画することができる。しかし、部分照射の際には、繰り返し照射間のつなぎ目（配線同士のつなぎ目等）についての高い照射精度が必要となる。そのため、第４実施例では、部分照射用のキャラクタ開口同士をグループ化して、これらをアパーチャマスクの中心付近に優先的に配置する。そして、部分照射用のキャラクタ開口については、その参照回数（使用回数）に基づき特定することが可能である。部分照射用のキャラクタ開口は通常、繰り返し照射されるからである。なお、部分照射用のキャラクタ開口は主に、配線照射用に使用される。

なお、高度の描画精度が要求されるキャラクタ開口のグループ、中程度の描画精度が要求されるキャラクタ開口のグループ、低度の描画精度が要求されるキャラクタ開口のグループというように、要求される描画精度の程度に応じてグループ分けを行う場合には、要求される描画精度が高いグループから低いグループへと順に、アパーチャマスクの中央部から周辺部へと配置していくことが考えられる。

以上、種々のグループ分け方法について説明したが、これらの基準でキャラクタ開口をグループ化する際に、複数の基準を満たすキャラクタ開口が出て来ることも予想される。そのような場合には、そのキャラクタ開口は複数のグループに属しても良いものとする。

最後に、本実施例のグループ化処理について補足しておく。本実施例では、集積回路のプロセス世代毎のグループを作成するようにしてもよい。また、本実施例では、通信用のグループやマルチメディア用のグループといったように、集積回路の用途毎のグループを作成するようにしてもよい。また、本実施例では、セルライブラリのセルから抽出されたキャラクタ開口を用いて、グループを作成するようにしてもよい。また、本実施例では、どのキャラクタ開口が既存のアパーチャマスクデータで多く使用されていたかをデータベース化しておき、このデータをグループ作成基準として利用するようにしてもよい。また、本実施例では、ユーザーが設定画面等で設定したグループ作成基準に基づいてグループを作成するようにしてもよい。

（２）グループへの領域割り当て
本装置では、アパーチャマスク上に形成する各キャラクタ開口の形成位置を決定するのに、グループが利用される。即ち、キャラクタ開口配置部２１３が、アパーチャマスク上の領域を各グループに割り当て、各グループに割り振られた領域を各キャラクタ開口に割り当てることで、アパーチャマスク上に形成する各キャラクタ開口の形成位置が決定される。アパーチャマスク上の領域を各グループに割り当てる際には、高い描画精度が求められるグループや参照回数の多いグループに、アパーチャマスクの中央部の領域を割り当てることが望ましい。当該処理の具体例については、図１３や図１４に関連して後述する。

本実施例において、キャラクタ開口をグループ毎に配置する目的は主に、同じグループのキャラクタ開口同士を近くに配置することにある。そして、グループ化の際には主に、ウェハ上で近くに配置されるセル同士に対応するキャラクタ開口同士や、ウェハ上で近くに配置されることが多いセル同士に対応するキャラクタ開口同士が、グループ化される。よって、本実施例では、ウェハ上で近くに配置されるセル同士に対応するキャラクタ開口同士や、ウェハ上で近くに配置されることが多いセル同士に対応するキャラクタ開口同士が、アパーチャマスク上で近くに配置されることになる。これにより、本装置の偏向整定待ち時間が短縮され、スループットが向上する。

なお、２つのキャラクタ開口同士が近くにあるということは、キャラクタ開口を一方から他方に切り替える際の偏向整定時間が小さいということに他ならない。キャラクタ開口を切り替える際の偏向整定時間は、一般的にキャラクタ開口間の直線距離（偏向距離）に伴って増加する。しかし、例えば、描画装置の機械特性に起因してＸ方向への偏向速度とＹ方向への偏向速度とが異なるような場合には、偏向整定時間は、偏向方向にも依存することになり、偏向方向の重み付けを考慮した実効的な偏向距離により規定されることになる。

以下の説明では、説明の簡単化のため、２つのキャラクタ開口同士が近いか遠いかを、キャラクタ開口間の直線距離が小さいか大きいかによって判断する。即ち、偏向整定時間がキャラクタ開口間の直線距離により規定されるとする。以下の説明を、偏向整定時間がキャラクタ開口間の実効距離により規定される場合に適用するには、単に直線距離を実効距離に置き換えればよい。以下、グループへの領域割り当てについて説明する。

図１１は、キャラクタ開口の配置方法について説明するための図である。図１１には、８×８個のキャラクタ開口を配置可能なアパーチャマスク領域が図示されている。本配置方法では、図１１のように、８×８個の領域からなるアパーチャマスク領域を一筆書きの線で埋め尽くし、線の通過順に各領域に１から６４までの番号を割り振り、各領域に番号の割り振り順にキャラクタ開口を配置していく。図１１には、３種類の一筆書きの例が図示されている。

そして、これらの番号は各グループに連番的に割り当てられる。例えば、８個のキャラクタ開口からなるグループＡと、３２個のキャラクタ開口からなるグループＢと、２４個のキャラクタ開口からなるグループＣとが存在する場合に、グループＡに１から８、グループＢに９から４０、グループＣに４１から６４が割り当てられる。これにより、一続きの領域が各グループに割り当てられることになる。そして、各グループに割り当てられた領域に各グループに属するキャラクタ開口を配置することで、同じグループのキャラクタ開口同士を近くに配置することができる。

なお、図１１では、キャラクタ開口が格子状に配置されることになるが、本発明では、キャラクタ開口が非格子状に配置されるようにしてもよい。また、アパーチャマスク領域を一筆書きの線で埋め尽くす態様は、図１１の態様に限定されるものではない。

アパーチャマスク上には、図１２に示すように、不使用箇所（キャラクタ開口を配置しない箇所）を設けることもできる。不使用箇所を設ける場合の具体例としては、以下のような具体例が考えられる。第１の具体例は、描画装置の偏向可能範囲の制限から、アパーチャマスクの周辺部にキャラクタ開口を配置するのが適切でないような場合である。第２の具体例は、アパーチャマスクの汚染（コンタミネーション）等によって、特定の領域が使用できないような場合である。本実施例では、アパーチャマスク上に不使用箇所を設けることができるので、キャラクタ開口を配置すべきではない箇所にキャラクタ開口を配置せずにすむ。

図１３には、一筆書きの線で埋め尽くされたアパーチャマスク領域の例が図示されている。図１３では、番号が小さい領域がアパーチャマスクの中央部に位置しており、番号が大きい領域がアパーチャマスクの周辺部に位置している。図１３では、番号の小さな領域、即ちアパーチャマスクの中心部に近い領域が、グループ番号の早いグループに割り当てられており、番号の大きな領域、即ちアパーチャマスクの周辺部に近い領域が、グループ番号の遅いグループに割り当てられている。

アパーチャマスク領域を各グループに割り当てる場合、高い描画精度が求められるグループには、アパーチャマスクの中央部の領域を割り当てることが望ましい。そこで、本実施例では、各グループの優先度に応じ、各グループにアパーチャマスク上の領域をアパーチャマスクの中央から順に割り当てることにする。これにより、本実施例では、アパーチャマスクの中央付近に配置することが望ましいグループを、アパーチャマスクの中央付近に配置することができる。アパーチャマスク領域割り当ての際の各グループの優先度については、キャラクタ開口データベース２５１に蓄えられた情報を用いて、キャラクタ開口配置部２１３が自動的に算出してもよいし、ユーザーが指定できるようにしてもよい。

図１４には、図１３の変形例として、グループ４の優先度がその他のグループの優先度よりも高い場合の割り当て例が示されている。なお、領域割り当て処理の順番としては、優先度の順位の高いグループに中心部を割り当ててから、優先度の順位の低いグループに周辺部を割り当てるようにしてもよいし、優先度の順位の低いグループに周辺部を割り当ててから、優先度の順位の高いグループに中心部を割り当てるようにしてもよい。即ち、結果として、優先度の高いグループから低いグループへと順に中心部から周辺部へと位置していればよい。図１４のような割り当てを実現する際には、図１３のような割り当てを仮設定してから、グループ同士の位置の入れ替えを行うことで、図１４のような割り当てを実現してもよい。優先度の違いのないグループ同士（例えば図１４のグループ１，２，３，５）については、どのグループに中央部を割り当てて、どのグループに周辺部を割り当ててもよい。

（３）キャラクタ開口への領域割り当て
本装置では、アパーチャマスク上の領域が各グループに割り当てられた後、各グループの領域が各キャラクタ開口に割り当てられることで、アパーチャマスク上に形成予定の各キャラクタ開口の形成位置が決定される。以下、キャラクタ開口への領域割り当てについて説明する。

先ず、複数のグループの要件を満たすキャラクタ開口、即ち、複数のグループに属するキャラクタ開口の配置方法について説明する。図１５は、複数のグループに属するキャラクタ開口の配置方法について説明するための図である。

複数のグループに属するキャラクタ開口については、そのうちのどれかのグループに属するとみなしてレイアウトする。図１５（ａ）には、グループ１とグループ２に属するキャラクタ開口Ａを、グループ１に属するとみなしてレイアウトした様子が示されている。その後、Ａが属するグループの他のキャラクタ（ここではＢとする）と位置の交換を試みる（図１５（ｂ））。交換後、それぞれのキャラクタについて、グループ内のキャラクタとの平均距離が短くなる場合は、Ａ，Ｂの位置を交換する。

図１５の手法は、一のグループの割り当て領域と他のグループの割り当て領域とを交換する場合にも有効である。グループ間で割り当て領域を交換する場合の具体例としては、各グループの割り当て領域の形状が線状である場合等が挙げられる。グループ領域の一端に位置するキャラクタ開口と他端に位置するキャラクタ開口とが、遠く離れてしまうからである。図１６は、一のグループの割り当て領域と他のグループの割り当て領域との交換方法について説明するための図である。

図１６（ａ）には、グループ４に属するキャラクタ開口Ｃが、グループ４の領域の端部にレイアウトされ、グループ３に属するキャラクタ開口Ｄが、グループ３の領域の端部にレイアウトされている様子が示されている。このような場合、ＣとＤとの位置交換を試みる（図１６（ｂ））。交換後、それぞれのキャラクタについて、グループ内のキャラクタとの平均距離が短くなる場合は、Ｃ，Ｄの位置を交換する。

次に、１つのグループに属する各キャラクタ開口にグループ領域を割り当てる割り当て方法について説明する。図１７は、グループ領域の割り当て方法について説明するための図である。ここでは、グループ領域の割り当て方法の例として、描画精度の向上を基準とする割り当て方法と、描画時間の短縮を基準とする割り当て方法とを取り上げる。

図１７（Ａ）には、描画精度の向上を基準とする割り当て方法の例が示されている。この例では、求められる描画精度の高い順に、各キャラクタ開口にグループ領域をアパーチャマスクの中央から順に割り当てている。求められる描画精度が高いキャラクタ開口には、アパーチャマスクの中央付近のグループ領域が割り当てられており、求められる描画精度が低いキャラクタ開口には、アパーチャマスクの周辺付近のグループ領域が割り当てられている。アパーチャマスクの中央と各領域とが近いか遠いかはここでは、アパーチャマスク領域の重心（点Ｐ）と各領域の重心との直線距離により規定している。図１７（Ａ）には、求められる描画精度の高い順に、グループ５のキャラクタ開口にグループ５の領域をアパーチャマスクの中央から順に割り当てた様子が示されている。

上述のように、高い描画精度が求められるキャラクタ開口には、アパーチャマスクの中央部の領域を割り当てることが望ましい。図１７（Ａ）の例では、高い描画精度が求められるキャラクタ開口に、アパーチャマスクの中央部の領域が割り当てられることになるため、描画精度の向上が実現される。このように、本実施例では、各キャラクタ開口の優先度（ここでは、求められる描画精度の高さ）に応じ、各キャラクタ開口に各グループの領域をアパーチャマスクの中央から順に割り当てることができる。これにより、本実施例では、アパーチャマスクの中央付近に配置することが望ましいキャラクタ開口を、アパーチャマスクの中央付近に配置することができる。なお、優先度の算出方法、優先度の指定方法、領域割り当て処理の順番等については、グループ処理の場合（図１３及び図１４に関する説明部分参照）と同様である。

図１７（Ｂ）には、描画時間の短縮を基準とする割り当て方法の例が示されている。この例では、参照回数の多い順に、各キャラクタ開口にグループ領域をグループ領域の中央から順に割り当てている。参照回数が多いキャラクタ開口には、グループ領域の中央付近の領域が割り当てられており、参照回数が少ないキャラクタ開口には、グループ領域の周辺付近の領域が割り当てられている。グループ領域の中央と各領域とが近いか遠いかはここでは、グループ領域の重心（点Ｑ）と各領域の重心との直線距離により規定している。図１７（Ｂ）には、参照回数の多い順に、グループ５のキャラクタ開口にグループ５の領域をグループ５の領域の中央から順に割り当てた様子が示されている。

参照回数が多いキャラクタ開口には、グループ領域の中央部の領域を割り当てることが望ましい。参照回数が多いキャラクタ開口は一般的に、同じグループ内の他のキャラクタ開口との切り替えが多いことが期待できる。参照回数が多いキャラクタ開口を、グループ領域の中央付近に配置しておけば、該キャラクタ開口と同じグループ内の他のキャラクタ開口とを切り替える際の偏向整定時間が短縮される。図１７（Ｂ）の例では、参照回数が多いキャラクタ開口に、グループ領域の中央部の領域が割り当てられることになるため、描画時間の短縮が実現される。このように、本実施例では、各キャラクタ開口の優先度（ここでは、参照回数の多さ）に応じ、各キャラクタ開口に各グループの領域を各グループの領域の中央から順に割り当てることができる。これにより、本実施例では、グループ領域の中央付近に配置することが望ましいキャラクタ開口を、グループ領域の中央付近に配置することができる。なお、優先度の算出方法、優先度の指定方法、領域割り当て処理の順番等については、グループ処理の場合（図１３及び図１４に関する説明部分参照）と同様である。

図１８は、図１７（Ｂ）の割り当て方法の利点について説明するための図である。図１８Ａのグループ５の領域に、図１８Ｂのようにキャラクタ開口を配置する場合と、図１８Ｃのようにキャラクタ開口を配置する場合とを比較することにする。図１８Ｂが、図１７（Ｂ）と異なる割り当て方法による配置例に相当し、図１８Ｃが、図１７（Ｂ）と同じ割り当て方法による配置例に相当する。図１８Ｂと図１８Ｃには、キャラクタ開口１からキャラクタ開口９までの９個のキャラクタ開口が示されている。これら９個のキャラクタ開口の番号は、参照回数の多い順に付与されているものとする。よって、キャラクタ開口１の参照回数が最も多く、キャラクタ開口９の参照回数が最も少ない。

図１８ａには、キャラクタ開口の切り替えが発生するようなキャラクタ開口ペアが列挙されている。例えば、キャラクタ開口３から他のキャラクタ開口への切り替えとしては、３から１、３から２、３から４、３から５、３から６、３から７、の６種類が発生する。キャラクタ開口７から他のキャラクタ開口への切り替えとしては、７から１、７から２、７から３、の３種類が発生する。図１８ａには、４０種類分の切り替え態様が列挙されている。

図１８ｂには、図１８Ｂにおいて図１８ａの４０種類の切り替えを行う際の、平均偏向距離が示されている。図１８ｃには、図１８Ｃにおいて図１８ａの４０種類の切り替えを行う際の、平均偏向距離が示されている。図１８ｂと図１８ｃとを比較すると、図１８Ｂにおける平均偏向距離１．６７よりも、図１８Ｃにおける平均偏向距離１．４５の方が、０．２２だけ短い事が解る。このように、図１７（Ｂ）の割り当て方法によれば、キャラクタ開口の切り替えの際の平均偏向距離を短くすることができる。

次に、一のアパーチャマスク上に複数の同一のキャラクタ開口を設ける場合の具体例について説明する。

一のアパーチャマスク上に複数の同一のキャラクタ開口を設けた場合において、該キャラクタ開口を電子ビーム描画に使用する必要が生じた場合には、これらのキャラクタ開口の内の任意の１つが選択されて使用されることになる。これには、該アパーチャマスクの使用開始後に、複数の同一のキャラクタ開口の内の１つが破損又は汚染されたとしても、該アパーチャマスクを使い続けることができるという利点がある。該アパーチャマスクは、複数の同一のキャラクタ開口の全てが破損又は汚染されるまで使用可能である。これにより、アパーチャマスクの破棄率の削減、アパーチャマスクを洗浄する頻度の抑制、アパーチャマスクの寿命の向上等が実現される。

アパーチャマスク上にキャラクタ開口を作製する際、作製予定のキャラクタ開口の中に、アパーチャマスク上に作製するのが困難な形状のキャラクタ開口が含まれる場合がある。作製が困難な形状のキャラクタ開口の具体例としては、微小辺を多く含む形状であるため、設計通り作製できないキャラクタ開口や、図１９のように、開口周辺部との接続幅が狭く、開口内の部分の長さが長い又は面積が大きい形状であるため、作製中に破損する可能性のあるキャラクタ開口等が挙げられる。これらのアパーチャマスクの作製に失敗した場合に、これらのアパーチャマスクを再作製することにすると、アパーチャマスク作製の費用及び手間が増大してしまう。また、これらのキャラクタ開口に対応するパターンについては、ＣＰ方式ではなくＶＳＢ方式で描画することも考えられる。しかしながら、これは、ショット数の増加を招き、スループットの低下及び描画精度の低下をもたらす。そこで、本実施例では、作製が困難な形状のキャラクタ開口をアパーチャマスク上に設ける際には、一の当該アパーチャマスク上に複数の当該キャラクタ開口を設けるものとする。これにより、一の当該キャラクタ開口の作製が失敗しても、他の当該キャラクタ開口の作製が成功したならば、当該アパーチャマスクを破棄せずにすむ。

キャラクタ開口の露光を繰り返すと、キャラクタ開口に汚れ（コンタミネーション）が発生する。キャラクタ開口は、開口部の汚れによって開口形状が変化すると、キャラクタ開口として使用できなくなる。これは、当該キャラクタ開口が設けられているアパーチャマスクに、スループットの低下及び描画精度の低下をもたらす。様々なキャラクタ開口の中で、参照回数の多いキャラクタ開口や微小形状を多く含むキャラクタ開口が特に汚れやすい。そこで、本実施例では、参照回数の多いキャラクタ開口や微小形状を多く含むキャラクタ開口をアパーチャマスク上に設ける際には、一の当該アパーチャマスク上に複数の当該キャラクタ開口を設けるようにしてもよい。

一のアパーチャマスク上に複数の同一のキャラクタ開口を設けた場合、それらの内の１つのキャラクタ開口を繰り返し使用するようにしてもよいし、各キャラクタ開口を代わる代わる使用するようにしてもよい。前者の場合、使用中のキャラクタ開口が破損又は汚染されたら、使用するキャラクタ開口を切り替えることにする。後者の場合には、各キャラクタ開口が破損又は汚染されるまでの期間が長くなることになる。

（４）アパーチャマスクデータの作成
本装置では、アパーチャマスクデータ作成部２２１が、各キャラクタ開口の形成位置の決定結果に基づき、電子ビーム描画用アパーチャマスクのアパーチャマスクデータを作成する。

（５）アパーチャマスクデータのブラッシュアップ
本装置では、アパーチャマスクデータ作成部２２１によるアパーチャマスクデータ作成前又は作成後に、修正画面提供部２３１による修正画面提供処理や、通知部２４１による通知処理が実行されることになる。以下、修正画面提供処理及び通知処理について説明する。

本装置では、キャラクタ開口配置部２１３により、アパーチャマスク上に形成予定の各キャラクタ開口の配置が決定される。そして、本装置では、ユーザーが、このキャラクタ開口配置を修正画面で修正することができる。図２０は、キャラクタ開口配置の修正画面の具体例を表す。当該修正画面を表示するために必要なデータは、データベース２５１を介するなどして、キャラクタ開口配置部２１３から修正画面提供部２３１へと提供される。当該修正画面における修正内容は、データベース２５１を介するなどして、修正画面提供部２３１からキャラクタ開口配置部２１３へと提供される。なお、キャラクタ開口配置の修正処理がアパーチャマスクデータの作成後に実行される場合には、修正前のアパーチャマスクデータが修正後のアパーチャマスクデータと差し替えられることになる。

図２１は、本装置の処理履歴情報について説明するための図である。本装置の処理履歴情報には、キャラクタをデータベースに登録した際の処理内容等に関する情報（登録履歴情報）と、ＣＡＤデータを描画用データへと変換した際の処理内容等に関する情報（変換履歴情報）とが存在する。

登録履歴情報は、図２１Ａのような形でデータベース２５１内に保存される。登録履歴情報は例えば、登録キャラクタ一覧、登録日時、登録時の設定情報、登録プログラム名、ＣＡＤデータファイル名等により構成される。登録履歴情報は例えば、キャラクタ開口のグループ化の際に利用可能である。例えば、同じＣＡＤデータに由来するキャラクタ開口同士や、同じ設定情報（登録セルのサイズの上限等）を持つキャラクタ開口同士を、それぞれグループ化するといった具合である。

変換履歴情報は、図２１Ｂのような形でデータベース２５１内に保存される。変換履歴情報は例えば、ＣＡＤデータファイル名、変換時の設定情報、キャラクタ情報（識別子、セル名、参照回数、ＶＳＢショット数、ショット面積等）等により構成される。変更履歴情報に基づいて、ＶＳＢショット数の多いキャラクタや参照回数の多いキャラクタのキャラクタ開口をＣＰ照射することで、ショット数の削減効果が高くなる。たとえばアパーチャマスクデータ作成時に算出した参照回数が低いためにアパーチャマスク上に作成しなかったキャラクタ開口Ａがあり、一方作成時の算出よりも使用頻度の低いキャラクタ開口Ｂがあれば、Ｂの代わりにＡを搭載したアパーチャマスクデータを作成し、データの総ショット回数を比較できる。また、精度の必要なキャラクタの位置や、照射回数など、照射の精度を比較基準とすることもできる。

本装置では、このような比較処理が、通知部２４１によって実施される。通知部２４１は、新規に作成されたキャラクタ開口配置と既存のキャラクタ開口配置とを比較し、新規に作成されたキャラクタ開口配置の方が優位である旨の比較結果を得た場合、ユーザーに対して、新規に作成されたキャラクタ開口配置を利用すべき旨を通知する。当該比較処理が実施される状況としては、当該既存のキャラクタ開口配置を有するアパーチャマスクが、本装置に装着されて使用されているような状況が考えられる。本装置のアパーチャマスクの方が劣っている場合には、本装置のアパーチャマスクを取り替えを促すのである。これにより、アパーチャマスクの取り替えタイミングの自動判定機能が実現される。キャラクタ開口配置同士の優劣の判定基準の具体例としては、描画時間（予測描画時間）の短さ等が挙げられる。また、通知部２４１による通知方法の具体例としては、画面表示やＬＥＤ表示等が挙げられる。

電子ビーム描画装置の模式図である。 電子ビーム描画装置及びアパーチャマスクデータ作成装置の模式図である。 ＳＲＡＭの１ビット領域の論理図である。 ＳＲＡＭの４×４ビット領域の論理図である。 ＳＲＡＭの１ビット領域のトランジスタ構造を表す。 ＳＲＡＭの１ビット領域のアパーチャマスクパターンの具体例を表す。 ＳＲＡＭの１ビット領域を表す模式図である。 ＳＲＡＭの４×４ビット領域のレイアウトの具体例を表す。 セル分割によるキャラクタ開口生成に関する説明図である。 部分照射に関する説明図である。 キャラクタ開口の配置方法について説明するための図である。 キャラクタ開口の配置方法について説明するための図である。 グループへの領域割り当てについて説明するための図である。 グループへの領域割り当てについて説明するための図である。 複数のグループに属するキャラクタ開口の配置方法について説明するための図である。 一のグループの割り当て領域と他のグループの割り当て領域との交換方法について説明するための図である。 キャラクタ開口への領域割り当てについて説明するための図である。 キャラクタ開口への領域割り当てについて説明するための図である。 作製が困難な形状のキャラクタ開口の具体例を表す。 キャラクタ開口配置の修正画面の具体例を表す。 電子ビーム描画装置の処理履歴情報について説明するための図である。 アパーチャマスク上のキャラクタ開口を表す。

符号の説明

１０１ 電子ビーム描画装置
１１１ 電子銃
１２１ 第１成形アパーチャマスク
１２２ 第１偏向器
１２３ 第１偏向アンプ
１３１ 第２成形アパーチャマスク
１３２ 第２偏向器
１３３ 第２偏向アンプ
１４１ ステージ
１４２ ウェハ
１５１ パターンデータメモリ
１５２ パターンデータデコーダ
２０１ アパーチャマスクデータ作成装置
２１１ キャラクタ開口抽出部
２１２ グループ化部
２１３ キャラクタ開口配置部
２１４ データ変換部
２２１ アパーチャマスクデータ作成部
２３１ 修正画面提供部
２４１ 通知部
２５１ キャラクタ開口データベース

Claims (17)

1. 荷電ビーム描画用アパーチャマスクのアパーチャマスクデータを作成するアパーチャマスクデータ作成装置であって、
   パターン上に頻出する図形を照射するための開口である各キャラクタ開口をグループ化するグループ化手段と、
   アパーチャマスク上の領域を各グループに割り当て、各グループに割り振られた領域を各キャラクタ開口に割り当てることで、アパーチャマスク上に形成する各キャラクタ開口の形成位置を決定するキャラクタ開口配置手段と、
   各キャラクタ開口の形成位置の決定結果に基づき、前記アパーチャマスクデータを作成するアパーチャマスクデータ作成手段とを備えることを特徴とするアパーチャマスクデータ作成装置。
2. 前記グループ化手段は、各キャラクタ開口の対応セルの機能、各キャラクタ開口の対応セルの配置、各キャラクタ開口の対応セルの名称、各キャラクタ開口の形状情報、各キャラクタ開口の使用情報、又は各キャラクタ開口の生成情報に基づき、各キャラクタ開口をグループ化することを特徴とする請求項１に記載のアパーチャマスクデータ作成装置。
3. 前記グループ化手段は、キャラクタ開口を、複数のグループに所属させることができることを特徴とする請求項１又は２に記載のアパーチャマスクデータ作成装置。
4. 更に、グループ間及び／又はキャラクタ開口間に優先順位をつけることができる手段を備えることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のアパーチャマスクデータ作成装置。
5. 前記キャラクタ開口配置手段は、各グループの優先度に応じ、各グループにアパーチャマスク上の領域をアパーチャマスクの中央から順に割り当てることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のアパーチャマスクデータ作成装置。
6. 前記キャラクタ開口配置手段は、アパーチャマスク上に、キャラクタ開口を配置しない位置を設けることが可能であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のアパーチャマスクデータ作成装置。
7. 前記キャラクタ開口配置手段は、一のアパーチャマスク上に複数の同一のキャラクタ開口を設けることが可能であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のアパーチャマスクデータ作成装置。
8. 前記キャラクタ開口配置手段は、各キャラクタ開口の優先度に応じ、各キャラクタ開口に各グループの領域をアパーチャマスクの中央又は各グループの領域の中央から順に割り当てることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載のアパーチャマスクデータ作成装置。
9. 更に、優先順位の算出に必要な情報と各キャラクタ開口の使用頻度情報とを保持するキャラクタ開口データベースを備えることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のアパーチャマスクデータ作成装置。
10. 更に、新規に作成されたキャラクタ開口配置と既存のキャラクタ開口配置とを比較し、新規に作成されたキャラクタ開口配置の方が優位である旨の比較結果を得た場合、新規に作成されたキャラクタ開口配置を利用すべき旨を通知する通知手段を備え、前記通知手段は、前記比較の際に、前記キャラクタ開口データベースに蓄えられたキャラクタ開口の使用頻度情報を利用できることを特徴とする請求項９に記載のアパーチャマスクデータ作成装置。
11. 更に、作成されたキャラクタ開口配置の修正操作のための修正画面を提供する修正画面提供手段を備えることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか１項に記載のアパーチャマスクデータ作成装置。
12. アパーチャマスク上に配置されるキャラクタ開口のサイズ及び／又はアパーチャマスク上に配置できるキャラクタ開口の個数が可変であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載のアパーチャマスクデータ作成装置。
13. 荷電ビーム描画用アパーチャマスクのアパーチャマスクデータを作成するアパーチャマスクデータ作成方法であって、
    パターン上に頻出する図形を照射するための開口である各キャラクタ開口をグループ化し、
    アパーチャマスク上の領域を各グループに割り当て、各グループに割り振られた領域を各キャラクタ開口に割り当てることで、アパーチャマスク上に形成する各キャラクタ開口の形成位置を決定し、
    各キャラクタ開口の形成位置の決定結果に基づき、前記アパーチャマスクデータを作成することを特徴とするアパーチャマスクデータ作成方法。
14. 荷電ビーム描画用アパーチャマスクのアパーチャマスクデータを作成するような情報処理を、コンピュータに実行させるアパーチャマスクデータ作成用プログラムであって、
    パターン上に頻出する図形を照射するための開口である各キャラクタ開口をグループ化し、
    アパーチャマスク上の領域を各グループに割り当て、各グループに割り振られた領域を各キャラクタ開口に割り当てることで、アパーチャマスク上に形成する各キャラクタ開口の形成位置を決定し、
    各キャラクタ開口の形成位置の決定結果に基づき、前記アパーチャマスクデータを作成するような情報処理を、コンピュータに実行させるアパーチャマスクデータ作成用プログラム。
15. 請求項１乃至１２のいずれか１項に記載のアパーチャマスクデータ作成装置、請求項１３に記載のアパーチャマスクデータ作成方法、又は請求項１４に記載のアパーチャマスクデータ作成用プログラム、により作成されたアパーチャマスクデータから作製された荷電ビーム描画用アパーチャマスク。
16. 請求項１５に記載の荷電ビーム描画用アパーチャマスクを備えることを特徴とする荷電ビーム描画装置。
17. 請求項１５に記載の荷電ビーム描画用アパーチャマスクを用いて荷電ビーム描画を行うことを特徴とする荷電ビーム描画方法。

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