JP2008091824A - 半導体装置の製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】被加工膜に所定のパターンを形成する際に、被加工膜上に、第1の膜、第2の膜、および第3の膜がこの順で積層された積層ハードマスク膜を形成し(S100)、微細パターン用レジスト膜を用いて第2の膜をエッチングストッパとして第3の膜に細幅ラインパターンを形成し(S102)、微細パターン用レジスト膜を除去する(S104)。つづいて、再度レジスト膜を用いた露光を行い(S106〜S110)、第2の膜、第1の膜および被加工膜を順次選択的にドライエッチングして被加工膜を所定のパターンに形成する(S112)。その後、被加工膜上に残った第1の膜を除去する(S114)。
【選択図】 図2
Description
半導体基板上に形成された被加工膜に所定のパターンを形成する工程を含む半導体装置の製造方法であって、
前記被加工膜上に、第1の膜、第2の膜、および第3の膜がこの順で積層された積層ハードマスク膜を形成する工程と、
第1のパターンを有する第1のレジスト膜をマスクとし前記第2の膜をエッチングストッパとして前記第3の膜を選択的にドライエッチングして前記第3の膜に前記第1のパターンを形成する工程と、
前記第1のレジスト膜を除去する工程と、
前記第1のレジスト膜を除去した後、第2のパターンを有する第2のレジスト膜を前記積層ハードマスク膜上に形成し、当該第2のレジスト膜をマスクとして、前記積層ハードマスク膜および前記被加工膜を順次選択的にドライエッチングして前記被加工膜を前記所定のパターンに形成する工程と、
前記被加工膜を前記所定のパターンに形成した後、当該被加工膜上に残った前記第1の膜を除去する工程と、
を含む半導体装置の製造方法が提供される。
(1)細幅のラインパターンを形成
(2)細幅のラインパターンのうち不要部分をトリムにより除去
(3)広幅のラインパターンおよびコンタクトパッドパターン形成
102 半導体基板
104 ゲート酸化膜
106a 第1のライン
106b 第2のライン
106c 第3のライン
106d 第4のライン
106e 第5のライン
106 多結晶シリコン膜
107 3層ハードマスク膜
108 第1の膜
110 第2の膜
112 第3の膜
114 反射防止膜
116 微細パターン用レジスト膜
118 反射防止膜
120 トリム用レジスト膜
122 反射防止膜
124 コンタクト用レジスト膜
Claims (9)
- 半導体基板上に形成された被加工膜に所定のパターンを形成する工程を含む半導体装置の製造方法であって、
前記被加工膜上に、第1の膜、第2の膜、および第3の膜がこの順で積層された積層ハードマスク膜を形成する工程と、
第1のパターンを有する第1のレジスト膜をマスクとし前記第2の膜をエッチングストッパとして前記第3の膜を選択的にドライエッチングして前記第3の膜に前記第1のパターンを形成する工程と、
前記第1のレジスト膜を除去する工程と、
前記第1のレジスト膜を除去した後、第2のパターンを有する第2のレジスト膜を前記積層ハードマスク膜上に形成し、当該第2のレジスト膜をマスクとして、前記積層ハードマスク膜および前記被加工膜を順次選択的にドライエッチングして前記被加工膜を前記所定のパターンに形成する工程と、
前記被加工膜を前記所定のパターンに形成した後、当該被加工膜上に残った前記第1の膜を除去する工程と、
を含む半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
前記第2のレジスト膜をマスクとして、前記被加工膜を前記所定のパターンに形成する工程は、
前記第3の膜および前記第2のレジスト膜をマスクとして、前記第2の膜を選択的にドライエッチングして当該第2の膜を前記所定のパターンに形成する工程と、
前記第2の膜をマスクとして、前記第1の膜および前記被加工膜を順次選択的にドライエッチングして前記被加工膜を前記所定のパターンに形成する工程と、
を含む半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
前記第1のレジスト膜を除去する工程と、前記被加工膜を前記所定のパターンに形成する工程との間に、
前記積層ハードマスク膜上に前記第3の膜に形成された前記第1のパターンの一部を除去するための第3のパターンを有する第3のレジスト膜を形成し、当該第3のレジスト膜をマスクとし前記第2の膜をエッチングストッパ膜として前記第3の膜をさらに選択的にドライエッチングする工程と、
前記第3のレジスト膜を除去する工程と、
をさらに含む半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
前記第2のパターンは、平面視において前記第1のパターンと重なる領域を有する半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
前記第1の膜は、炭素系の膜である半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
前記第1の膜は、アモルファスカーボンにより構成された半導体装置の製造方法。 - 請求項5に記載の半導体装置の製造方法において、
前記第1の膜を除去する工程において、アッシングにより前記第1の膜を除去する半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
前記所定のパターンは、複数のゲートパターンを含む半導体装置の製造方法。 - 請求項1に記載の半導体装置の製造方法において、
前記第3の膜に前記第1のパターンを形成する工程は、
前記積層ハードマスク膜上に、レジスト膜を形成する工程と、
前記第1のパターンを有するレベンソン位相シフトマスクを用いて前記第1のレジスト膜を形成する工程と、
をさらに含む半導体装置の製造方法。
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