JP2008091071A - 電気光学装置、およびその製造方法 - Google Patents
電気光学装置、およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008091071A JP2008091071A JP2006267862A JP2006267862A JP2008091071A JP 2008091071 A JP2008091071 A JP 2008091071A JP 2006267862 A JP2006267862 A JP 2006267862A JP 2006267862 A JP2006267862 A JP 2006267862A JP 2008091071 A JP2008091071 A JP 2008091071A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- material layer
- layer
- pixel electrode
- optical device
- electro
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
【解決手段】画素電極200と、当該画素電極の周縁部を囲む2層以上の材料層からなる隔壁314と、を有する電気光学装置であって、上記周縁部に第1の材料層310と、画素電極200の中心部へ向けて庇状に張り出す第2の材料層313と、からなる空隙50を具備することを特徴とする。
【選択図】図4
Description
インクジェット法では、各々の画素電極を区画する隔壁を上記液滴が乗り越えないことと、上記隔壁と上記画素電極の境界近傍における上記液材のつきまわりの確保と、の両立が必要となる。そこで隔壁を、有機材料からなる上部隔壁と無機材料からなる下部隔壁とを階段状に積層して、2層構造にする手法が提案されている(特許文献1)。
各々の画素領域100には、走査線102を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用TFT108と、スイッチング用TFT108を介して信号線104から供給される画素信号を保持する保持容量110と、保持容量110によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用TFT112と、駆動用TFT112を介して電源供給線106から駆動電流が流れ込む発光素子114が形成されている。後述するように、発光素子114は画素電極である陽極と、画像表示領域10の全範囲にわたって共通電位となる陰極とでEL層を含む機能層を狭持しており、上記駆動電流は陽極に供給される。
(第1の実施形態)
上述したように、本実施形態の有機EL表示装置は画素電極の周縁部に空隙を形成して機能層膜厚の均一性を向上させているため、従来の有機EL表示装置にくらべて、表示特性、および寿命等が向上している。
(第2の実施形態)
次に図11(b)に示すように、上述する液材から溶媒を乾燥除去して、発光層326を形成する。発光層326の膜厚分布は、上述の正孔輸送層324と同様に、間隙50の効果により画素電極200の周縁部以外は均一となる。なお、正孔輸送層324と発光層326とで機能層となる。
Claims (7)
- 画素電極と、当該画素電極の周縁部を囲む2層以上の材料層からなる隔壁と、を有する電気光学装置であって、
前記周縁部に、第1の材料層と、前記画素電極の中心部へ向けて庇状に張り出す第2の材料層と、からなる空隙を有することを特徴とする電気光学装置。 - 前記第1の材料層が無機材料からなり、前記第2の材料層が有機材料層からなることを特徴とする請求項1に記載の電気光学装置。
- 前記第1の材料層と前記画素電極との間に、前記画素電極の中心部へ向けて、前記第1の材料層よりも内側に張り出して前記空隙の底部となる第3の材料層が配置されていることを特徴とする請求項1または2に記載の電気光学装置。
- 基板上に画素電極を整列配置する工程と、
前記基板上に第1の材料層を形成する工程と、
前記第1の材料層上に第2の材料層を積層する工程と、
前記第2の材料層をパターニングして、前記画素電極の当該画素電極の周縁部を除く領域に重なる部分を選択的に除去する工程と、
パターニング後の前記第2の材料層をマスクとして、前記第1の材料層をエッチングし、前記第2の材料層が庇部であり前記第1の材料層が側壁である空隙を形成する工程と、
前記画素電極上に機能層形成材料を溶質とする液材を滴下する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 前記第1の材料層と前記画素電極の間に第3の材料層を形成する工程と、前記第1の材料層のエッチングに続いて前記第3の材料層をエッチングする工程と、をさらに含むことを特徴とする請求項4に記載の電気光学装置の製造方法。
- 前記第3の材料層のエッチングを、前記第3の材料層のエッチングレートに比べて前記第1の材料層のエッチングレートが高くなる条件で行うことを特徴とする請求項4または5に記載の電気光学装置の製造方法。
- 前記第1の材料層および前記第3の材料層の形成材料としてに無機材料用い、前記第2の材料層の形成材料として有機材料を用いることを特徴とする請求項5または6に記載の電気光学装置の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006267862A JP5055925B2 (ja) | 2006-09-29 | 2006-09-29 | 電気光学装置、およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006267862A JP5055925B2 (ja) | 2006-09-29 | 2006-09-29 | 電気光学装置、およびその製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008091071A true JP2008091071A (ja) | 2008-04-17 |
JP5055925B2 JP5055925B2 (ja) | 2012-10-24 |
Family
ID=39375035
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006267862A Expired - Fee Related JP5055925B2 (ja) | 2006-09-29 | 2006-09-29 | 電気光学装置、およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP5055925B2 (ja) |
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010035643A1 (ja) * | 2008-09-24 | 2010-04-01 | 住友化学株式会社 | パターン塗布用基板および有機el素子 |
WO2011013714A1 (ja) * | 2009-07-29 | 2011-02-03 | 住友化学株式会社 | 発光装置 |
WO2012060243A1 (ja) * | 2010-11-02 | 2012-05-10 | シャープ株式会社 | カラーフィルタ基板、及び、その製造方法 |
WO2012063766A1 (ja) * | 2010-11-12 | 2012-05-18 | 住友化学株式会社 | 表示装置およびその製造方法 |
JP2014099402A (ja) * | 2012-11-13 | 2014-05-29 | Boe Technology Group Co Ltd | 発光ディスプレイバックプレーン、ディスプレイデバイス、及び画素定義層の製造方法 |
JP2015050022A (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 有機el表示装置 |
JP2015069857A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法 |
CN108123070A (zh) * | 2017-12-18 | 2018-06-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种压平装置、显示基板及其制备方法 |
JP2021516842A (ja) * | 2018-03-12 | 2021-07-08 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co.,Ltd. | 表示パネルとその製造方法、表示装置 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998059356A1 (en) * | 1997-06-23 | 1998-12-30 | Fed Corporation | Passive matrix oled display and method of forming the same |
JP2001345178A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-12-14 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置およびその作製方法 |
JP2004259473A (ja) * | 2003-02-24 | 2004-09-16 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 有機elディスプレイパネル、及びその製造方法 |
JP2005174907A (ja) * | 2003-11-11 | 2005-06-30 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置および電子機器 |
JP2005268024A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Seiko Epson Corp | 有機el装置の製造方法、有機el装置および電子機器 |
-
2006
- 2006-09-29 JP JP2006267862A patent/JP5055925B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1998059356A1 (en) * | 1997-06-23 | 1998-12-30 | Fed Corporation | Passive matrix oled display and method of forming the same |
JP2001345178A (ja) * | 2000-03-27 | 2001-12-14 | Semiconductor Energy Lab Co Ltd | 発光装置およびその作製方法 |
JP2004259473A (ja) * | 2003-02-24 | 2004-09-16 | Internatl Business Mach Corp <Ibm> | 有機elディスプレイパネル、及びその製造方法 |
JP2005174907A (ja) * | 2003-11-11 | 2005-06-30 | Seiko Epson Corp | 電気光学装置および電子機器 |
JP2005268024A (ja) * | 2004-03-18 | 2005-09-29 | Seiko Epson Corp | 有機el装置の製造方法、有機el装置および電子機器 |
Cited By (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010080086A (ja) * | 2008-09-24 | 2010-04-08 | Sumitomo Chemical Co Ltd | パターン塗布用基板および有機el素子 |
EP2334143A1 (en) * | 2008-09-24 | 2011-06-15 | Sumitomo Chemical Company, Limited | Substrate for pattern coating and organic el element |
WO2010035643A1 (ja) * | 2008-09-24 | 2010-04-01 | 住友化学株式会社 | パターン塗布用基板および有機el素子 |
EP2334143A4 (en) * | 2008-09-24 | 2013-04-24 | Sumitomo Chemical Co | SUBSTRATE FOR A PATTERNED COATING AND ORGANIC EL-ELEMENT |
CN102474935A (zh) * | 2009-07-29 | 2012-05-23 | 住友化学株式会社 | 发光装置 |
WO2011013714A1 (ja) * | 2009-07-29 | 2011-02-03 | 住友化学株式会社 | 発光装置 |
WO2012060243A1 (ja) * | 2010-11-02 | 2012-05-10 | シャープ株式会社 | カラーフィルタ基板、及び、その製造方法 |
JP2012104430A (ja) * | 2010-11-12 | 2012-05-31 | Sumitomo Chemical Co Ltd | 表示装置 |
WO2012063766A1 (ja) * | 2010-11-12 | 2012-05-18 | 住友化学株式会社 | 表示装置およびその製造方法 |
JP2014099402A (ja) * | 2012-11-13 | 2014-05-29 | Boe Technology Group Co Ltd | 発光ディスプレイバックプレーン、ディスプレイデバイス、及び画素定義層の製造方法 |
JP2015050022A (ja) * | 2013-08-30 | 2015-03-16 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 有機el表示装置 |
JP2015069857A (ja) * | 2013-09-30 | 2015-04-13 | 株式会社ジャパンディスプレイ | 有機エレクトロルミネッセンス表示装置及びその製造方法 |
CN108123070A (zh) * | 2017-12-18 | 2018-06-05 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种压平装置、显示基板及其制备方法 |
US11569486B2 (en) | 2017-12-18 | 2023-01-31 | Boe Technology Group Co., Ltd. | Manufacturing method for display substrate and flattening device |
JP2021516842A (ja) * | 2018-03-12 | 2021-07-08 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司Boe Technology Group Co.,Ltd. | 表示パネルとその製造方法、表示装置 |
EP3767680A4 (en) * | 2018-03-12 | 2021-12-15 | Boe Technology Group Co., Ltd. | DISPLAY PANEL AND ITS MANUFACTURING PROCESS, AND DISPLAY APPARATUS |
US11233115B2 (en) | 2018-03-12 | 2022-01-25 | Hefei Xinsheng Optoelectronics Technology Co., Ltd | Display panel and manufacturing method thereof, and display device |
JP7272966B2 (ja) | 2018-03-12 | 2023-05-12 | 京東方科技集團股▲ふん▼有限公司 | 表示パネルとその製造方法、表示装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP5055925B2 (ja) | 2012-10-24 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5055925B2 (ja) | 電気光学装置、およびその製造方法 | |
JP2008091072A (ja) | 電気光学装置、およびその製造方法 | |
JP4483757B2 (ja) | 有機el装置及び光学装置 | |
KR100690526B1 (ko) | 전기 광학 장치 및 전자 기기 | |
JP4328384B2 (ja) | 有機elディスプレイパネルおよびその製造方法 | |
JP6211873B2 (ja) | 有機el表示装置及び有機el表示装置の製造方法 | |
TWI469194B (zh) | 有機電致發光裝置之畫素結構 | |
JP4888268B2 (ja) | 電気光学装置及び電子機器 | |
JP2005327674A (ja) | 有機エレクトロルミネッセント表示素子、それを有する表示装置、及び、その製造方法 | |
KR101818776B1 (ko) | 표시 패널 장치 및 표시 패널 장치의 제조 방법 | |
WO1998012689A1 (fr) | Ecran matriciel et son procede de fabrication | |
JP2006146205A (ja) | 平板表示装置及びその製造方法 | |
WO2021244248A1 (zh) | 显示面板及其制备方法、显示基板及其制备方法和显示装置 | |
JP2008235033A (ja) | 表示装置及び表示装置の製造方法 | |
JP2005174907A (ja) | 電気光学装置および電子機器 | |
US20210134905A1 (en) | Display substrate and method of manufacturing the same, and display panel | |
JP2005203215A (ja) | 有機el素子 | |
JP2009170115A (ja) | 表示装置およびその製造方法 | |
JP2009140689A (ja) | 有機el装置および電子機器 | |
JP2012022787A (ja) | 有機el装置、有機el装置の製造方法、及び電子機器 | |
JP4957477B2 (ja) | 有機el装置の製造方法 | |
JP2011014358A (ja) | 発光パネルの製造方法及び発光パネルの製造装置 | |
US10014470B2 (en) | Organic light emitting diode substrate and method for manufacturing the same | |
JP2008234932A (ja) | 表示装置 | |
JP2007279107A (ja) | 表示装置および表示装置の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090722 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110113 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110125 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110315 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110621 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110810 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110913 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111109 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120327 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120404 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120703 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120716 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150810 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5055925 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |