JP5055925B2 - 電気光学装置、およびその製造方法 - Google Patents
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Description
インクジェット法では、各々の画素電極を区画する隔壁を上記液滴が乗り越えないことと、上記隔壁と上記画素電極の境界近傍における上記液材のつきまわりの確保と、の両立が必要となる。そこで隔壁を、有機材料からなる上部隔壁と無機材料からなる下部隔壁とを階段状に積層して、2層構造にする手法が提案されている(特許文献1)。
各々の画素領域100には、走査線102を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング用TFT108と、スイッチング用TFT108を介して信号線104から供給される画素信号を保持する保持容量110と、保持容量110によって保持された画素信号がゲート電極に供給される駆動用TFT112と、駆動用TFT112を介して電源供給線106から駆動電流が流れ込む発光素子114が形成されている。後述するように、発光素子114は画素電極である陽極と、画像表示領域10の全範囲にわたって共通電位となる陰極とでEL層を含む機能層を狭持しており、上記駆動電流は陽極に供給される。
(第1の実施形態)
上述したように、本実施形態の有機EL表示装置は画素電極の周縁部に空隙を形成して機能層膜厚の均一性を向上させているため、従来の有機EL表示装置にくらべて、表示特性、および寿命等が向上している。
(第2の実施形態)
次に図11(b)に示すように、上述する液材から溶媒を乾燥除去して、発光層326を形成する。発光層326の膜厚分布は、上述の正孔輸送層324と同様に、間隙50の効果により画素電極200の周縁部以外は均一となる。なお、正孔輸送層324と発光層326とで機能層となる。
Claims (3)
- 画素電極と、当該画素電極の周縁部を囲む2層以上の材料層からなる隔壁と、を有する電気光学装置であって、
前記周縁部に、無機材料で形成された第1の材料層と、前記画素電極の中心部へ向けて庇状に張り出す有機材料で形成された第2の材料層と、からなる空隙を有し、前記第1の材料層と前記画素電極との間に、前記画素電極の中心部へ向けて、前記第1の材料層よりも内側に張り出して前記空隙の底部となる第3の材料層が配置され、
前記第3の材料層は前記第2の材料層をマスクとしてエッチングすることにより形成されており、
前記空隙は機能層形成材料を溶質とする液材を保持する機能を有することを特徴とする電気光学装置。 - 基板上に画素電極を整列配置する工程と、
前記基板上に無機材料で形成された第3の材料層を形成する工程と、
前記基板上に無機材料で形成された第1の材料層を形成する工程と、
前記第1の材料層上に有機材料で形成された第2の材料層を積層する工程と、
前記第2の材料層をパターニングして、前記画素電極の当該画素電極の周縁部を除く領域に重なる部分を選択的に除去する工程と、
パターニング後の前記第2の材料層をマスクとして、前記第1の材料層をエッチングする工程と、
パターニング後の前記第2の材料層をマスクとして、前記第3の材料層及び前記第1の材料層をエッチングし、前記第1の材料層が側壁として、前記第3の材料層と前記第2の材料層とで挟まれる空隙を形成する工程と、
前記画素電極上に機能層形成材料を溶質とする液材を滴下する工程と、
を含むことを特徴とする電気光学装置の製造方法。 - 前記第3の材料層のエッチングを、前記第3の材料層のエッチングレートに比べて前記第1の材料層のエッチングレートが高くなる条件で行うことを特徴とする請求項2に記載の電気光学装置の製造方法。
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