JP2008090191A - カラーフィルタ基板の製造方法 - Google Patents

Abstract

【課題】液晶表示装置に用いた際に、十分なセルギャップを得ることができ、かつ表示品位が低下の少なく、さらに生産性に優れたカラーフィルタ基板の製造方法を提供する。
【解決手段】透明基材１と、上記透明基材１上に形成された遮光部２と、上記遮光部２の開口部に形成された３色以上の着色層３と、上記遮光部２の開口部以外の上に形成され、少なくとも１層以上の着色層３からなる積層柱４と、を有するカラーフィルタ用基板１０上に、感光性樹脂からなる感光性樹脂層５を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層５を多階調マスク２０を用いて露光し、現像して、上記積層柱４と、上記積層柱４上に形成され、上記感光性樹脂からなる積層柱頭頂部７と、を有するスペーサ９、および上記感光性樹脂からなるオーバーコート層６を同時に形成するスペーサ・オーバーコート層形成工程と、を有する。
【選択図】図１

Description

本発明は、液晶表示装置に適用されるカラーフィルタ基板の製造方法であって、十分な高さを持ったスペーサおよびオーバーコート層を同時に形成することができ、かつ表示品位に優れたカラーフィルタ基板の製造方法に関するものである。

近年、パーソナルコンピューターの発達、特に携帯用パーソナルコンピューターの発達に伴って、液晶ディスプレイの需要が増加している。また、最近においては家庭用の液晶テレビの普及率も高まっており、益々液晶ディスプレイの市場は拡大する状況にある。さらに近年普及している液晶ディスプレイは大画面化の傾向があり、特に家庭用の液晶テレビに関してはその傾向が強くなってきている。このような状況において、液晶ディスプレイを構成する部材についてはより低コストで高品質なものを高生産性で製造することが望まれており、特に液晶ディスプレイをカラー表示化させる機能を有するカラーフィルタ基板は、従来高コストであったことからこのような要望が高まっている。

液晶表示装置は、カラーフィルタ基板と液晶駆動側基板（対向基板）とを対向させ、両者の間に液晶化合物を封入して薄い液晶層を形成し、液晶駆動側基板により液晶層内の液晶配列を電気的に制御して表示側基板の透過光の量を選択的に変化させることによって表示を行う。
このような液晶表示装置において、上記カラーフィルタ基板と対向基板との間隙（セルギャップ）は液晶層の厚さそのものであり、色ムラやコントラストムラといった表示ムラを防止し、均一な表示、高速応答性、高コントラスト比、広視野角等の良好な表示性能をカラー液晶表示装置に付与するためには、セルギャップを一定且つ均一に維持する必要がある。

セルギャップを維持する方法としては、上記間隙内にスペーサとしてガラス、アルミナ又はプラスチック等からなる一定サイズの球状又は棒状粒子を多数散在させる方法が用いられてきたが、スペーサとして粒子を散在させる方法では、スペーサの分布が偏り易い等の種々の問題点があった。これら粒子状スペーサの問題点を解消する方法として、遮光部上に着色層を積層して形成した積層柱をスペーサとして用いる方法（特許文献１、特許文献２）が開示されている。しかしながら、遮光部上の限られた領域に積層柱を形成するため、高さが制限され、十分なセルギャップを確保することができないといった問題があった。これに対して、積層柱上に樹脂層を形成することでスペーサを形成する方法（特許文献３）が開示されているが、工程数が多くなり生産性が低くなるといった問題があった。

また、近年、液晶ディスプレイとした際に視野角が広いといった利点から液晶表示装置の動作モードとして、配向した液晶分子を透明基板に対して平行な方向に回転させるＩＰＳ（In-Plane Switching）方式が普及してきている。このようなＩＰＳ方式や他の方式の液晶表示装置に用いられるカラーフィルタ基板においては、液晶分子の保護および着色層の平坦性のために、遮光部、着色層といった各構成を覆うように配置されたオーバーコート層が用いられてきた。
このようなオーバーコート層は、塗工液として調製されたものを塗工することによって形成する。そのため、オーバーコート層形成前に積層柱を形成した場合には、オーバーコート層形成後において、オーバーコート層の平坦化能力により、スペーサ高さが実質的に低くなるといった問題があった。また、上記積層柱の周辺においては、オーバーコート層がブロード化することにより、着色層上のオーバーコート層の厚みが均一とならず、屈折率のばらつきによる表示品位の低下や、液晶の配向不良による透過率の低下が発生するといった問題があった。そのため、従来は、オーバーコート層を形成した後に感光性樹脂層を形成し、それをフォトリソグラフィー法等によってスペーサを形成する方法が一般的に用いられてきた。しかしながら、低コスト化の流れのなかにあって、工程数の増加、生産性の低下が問題となっていた。

特開平５−１９６９４６公報 特開２００４−０３８１９６公報 特開２０００−０８９０２６公報

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、十分な高さを持ったスペーサおよびオーバーコート層を同時に形成することができ、かつ表示品位に優れたカラーフィルタ基板の製造方法を提供することを主目的とするものである。

上記課題を解決するために、本発明は、透明基材と、上記透明基材上に形成された遮光部と、上記遮光部の開口部に形成された３色以上の着色層と、上記遮光部の開口部以外の上に形成され、少なくとも１層以上の着色層からなる積層柱と、を有するカラーフィルタ用基板上に、感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層を多階調マスクを用いて露光し、現像して、上記積層柱と、上記積層柱上に形成され、上記感光性樹脂からなる積層柱頭頂部とを有するスペーサ、および上記感光性樹脂からなるオーバーコート層を同時に形成するスペーサ・オーバーコート層形成工程と、を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法を提供する。

本発明によれば、上記多階調マスクを用いることにより、所望の位置に、所望の高さのスペーサ、およびオーバーコート層を形成することができる。したがって、本発明の製造方法により製造されたカラーフィルタ基板を用いることにより、所望のセルギャップを有し、かつ液晶表示品位の低下が少ない液晶表示装置を得ることができる。
また、オーバーコート層とスペーサを同時に形成するため、生産性に優れたものとすることができる。

本発明は、液晶表示装置に用いた際に、十分なセルギャップを得ることができ、かつ表示品位の低下が少なく、さらに生産性に優れたカラーフィルタ基板の製造方法を提供するといった効果を奏する。

本発明は、カラーフィルタ基板の製造方法に関するものである。以下、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法について説明する。

本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、透明基材と、上記透明基材上に形成された遮光部と、上記遮光部の開口部に形成された３色以上の着色層と、上記遮光部の開口部以外の上に形成され、少なくとも１層以上の着色層からなる積層柱と、を有するカラーフィルタ用基板上に、感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、上記感光性樹脂層を多階調マスクを用いて露光し、現像して、上記積層柱と、上記積層柱上に形成され、上記感光性樹脂からなる積層柱頭頂部と、を有するスペーサ、および上記感光性樹脂からなるオーバーコート層を同時に形成するスペーサ・オーバーコート層形成工程と、を有することを特徴とするものである。

次に本発明のカラーフィルタ基板の製造方法について図を参照しながら説明する。図１は本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の一例を示す工程図である。図１に例示するように、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、透明基材１と、上記透明基材１上に形成された遮光部２と、上記透明基材１上の遮光部２の開口部に形成された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色の着色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと、上記遮光部２上に形成され、各色の着色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが積層してなる積層柱４と、を有するカラーフィルタ用基板１０を準備し（図１（ａ））、上記カラーフィルタ用基板１０上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層５を形成する感光性樹脂層形成工程（図１（ｂ））と、上記感光性樹脂層５を、上記積層柱４が形成された遮光部２に対応するように形成された透過領域２１、および上記透過領域２１より露光光の透過率の低い半透過領域２２を有する多階調マスク２０を用いて露光し、現像することにより、上記積層柱４と、上記積層柱４上に上記感光性樹脂からなる積層柱頭頂部７とを有するスペーサ９および上記感光性樹脂からなるオーバーコート層６を同時に形成するスペーサ・オーバーコート層形成工程（図１（ｃ））と、を有することを特徴とするものである。
ここで、感光性樹脂からなり感光性樹脂の厚みの厚い箇所であって上記積層柱頭頂部以外の領域はスペーサ領域部であり、感光性樹脂の厚みが薄く、一定である領域はオーバーコート層である。上記多階調マスクを用いて露光した場合には、図１（ｃ）に示すように、上記透過領域２１に対応する箇所である遮光部２上に、感光性樹脂からなり感光性樹脂の厚みが厚いスペーサ領域部８が形成され、上記半透過領域２２に対応する箇所に感光性樹脂の厚みが薄く、一定であるオーバーコート層６が形成されることになる。
なお感光性樹脂の厚みとは、遮光部の開口部に形成された着色層の表面から感光性樹脂の表面までの距離をいうものである。
このような製造方法によって得られたカラーフィルタ基板は、図１(ｃ)に示すように、上記オーバーコート層６の厚みを薄く、上記積層柱頭頂部７の高さを高いものとすることができるので、オーバーコート層６の表面からスペーサ９の頂部までの距離であるスペーサ高さｈ１が十分な高さのスペーサ９が形成されることになる。

一方、多階調マスクを用いない従来のオーバーコート層の形成方法では、スペーサの高さを所望の高さとすることができない。すなわち、図２（ａ）に例示するように、透明基材１と、上記透明基材１上に形成された遮光部２と、上記透明基材１上の遮光部２の開口部上に形成された赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の各色の着色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと、上記遮光部２上に形成され、各色の着色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが積層してなる積層柱４と、を有するカラーフィルタ用基板１０に対して、オーバーコート層形成用樹脂を塗工液状にしたオーバーコート層塗工液を塗工することにより、積層柱４と、積層柱４上に形成され、オーバーコート層形成用樹脂からなる積層柱頭頂部７とを有するスペーサ９、オーバーコート層形成用樹脂からなり、オーバーコート層形成用樹脂の厚みが厚いスペーサ領域部８、および厚みが薄く、一定であるオーバーコート層６を形成することになる（図２（ｂ））。
なおオーバーコート層形成用樹脂の厚みとは、遮光部の開口部に形成された着色層の表面からのオーバーコート層形成用樹脂表面までの距離をいうものである。
ここで、積層柱４上に塗工されたオーバーコート層塗工液は塗工直後から自重によってより低い位置へと流れ落ちるため、最終的に形成される積層柱頭頂部７の厚みｈ３は、上記オーバーコート層の厚みｈ４より薄いものとなる。したがって、従来の方法では、スペーサの高さ、すなわちオーバーコート層表面から上記スペーサの頂部までの距離を、十分なものとすることができなかった。

また、塗工したオーバーコート層塗工液が自重により、より低い位置へと流れ落ちる結果、形成されるスペーサ領域部８の幅ｗ１は、積層柱４の最大幅ｗ２より広いものとなる（図２（ｂ））。上記スペーサ領域部８が、遮光部２上のみに形成されている場合には問題はないが、開口部に形成された各色の着色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ上にまで及んだ場合には、開口部に形成された各色の着色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ上のオーバーコート層形成用樹脂の厚みが一定ではないことになり、開口部を透過する光の散乱、液晶配向のばらつき等を引き起こし、液晶表示装置としての表示品位の低下を生じる可能性があった。
このような問題のため、従来は、オーバーコート層を形成した後、感光性樹脂層を形成し、フォトリソグラフィー法等によってスペーサを形成する方法が一般的であったが、工程数が多くなり生産性が低くなる問題があった。

この点、本発明によれば、多階調マスクを用いることにより、所望の位置に、所望の高さを有したスペーサ、およびオーバーコート層を同時に形成するため、工程数が少なく、生産性に優れたものとすることができる。

本発明のカラーフィルタ基板の製造方法は、感光性樹脂層形成工程と、スペーサ・オーバーコート層形成工程とを有するものである。以下、本発明のカラーフィルタ基板の製造方法に用いられる各工程について説明する。

１．感光性樹脂層形成工程
まず、本発明に用いられる感光性樹脂層形成工程について説明する。本工程は、透明基材と、上記透明基材上に形成された遮光部と、上記遮光部の開口部に形成された３色以上の着色層と、上記遮光部の開口部以外の上に形成され、少なくとも１層以上の着色層からなる積層柱と、を有するカラーフィルタ用基板上に、感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する工程である。以下このような感光性樹脂層形成工程について説明する。

（１）カラーフィルタ用基板
本工程に用いられるカラーフィルタ用基板は、透明基材と、着色層と、遮光部と、積層柱とを有するものである。以下このようなカラーフィルタ用基板の各構成について説明する。

（ａ）透明基材
本工程に用いられる透明基材としては、可視光に対して透明な基材であれば特に限定されるものではなく、一般的なカラーフィルタ基板に用いられる透明基板を用いることができる。具体的には、石英ガラス、無アルカリガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジッド材、あるいは、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材が挙げられる。

上記透明基材は、通常、表示領域および非表示領域を有しているものである。表示領域とは、後述する遮光部および、遮光部の開口部に形成される着色層が形成される領域であり、非表示領域とは、この表示領域の周囲に配置されるものである。
また上記透明基材は、図３（ａ）に示すように、透明基材１がひとつの表示領域１１と、この表示領域１１の周囲に配置された非表示領域１２を有していてもよく、図３（ｂ）に示すように透明基材１が複数の表示領域１１とこれらの表示領域１１の周囲に配置された非表示領域１２とを有していてもよい。本工程においては、通常、図３（ｂ）に例示するように、透明基材１が複数の表示領域１１を有する、すなわちカラーフィルタ基板が多面付けされた多面付け基板が用いられる。

透明基材の厚みは、特に限定されるものではないが、本発明により製造されるカラーフィルタ基板の用途に応じて、例えば１００μｍ〜１ｍｍ程度のものを使用することができる。

（ｂ）遮光部
次に、上記遮光部について説明する。本工程における遮光部は上述した透明基材上に形成され、開口部を有するものである。

本工程に用いられる遮光部としては、通常、同一の形状を有する開口部が等間隔でパターン状に形成されたものが用いられる。ここで、遮光部のパターン形状としては、特に限定されるものではなく、例えば、ストライプ状、マトリクス状等の形状が挙げられる。

遮光部としては、例えば、黒色着色剤をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものや、クロム、酸化クロム等の金属薄膜等が挙げられる。この金属薄膜は、ＣｒＯ_ｘ膜（ｘは任意の数）およびＣｒ膜が２層積層されたものであってもよく、また、より反射率を低減させたＣｒＯ_ｘ膜（ｘは任意の数）、ＣｒＮ_ｙ膜（ｙは任意の数）およびＣｒ膜が３層積層されたものであってもよい。中でも、遮光部の膜厚を比較的厚くすることができるという点で、遮光部は黒色着色剤をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものであることが好ましい。

上記の場合であって、遮光部の形成方法として印刷法やインクジェット法を用いる場合、バインダ樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
また、上記の場合であって、遮光部の形成方法としてフォトリソグラフィー法を用いる場合、バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。この場合、黒色着色剤および感光性樹脂を含有する遮光部形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。

一方、遮光部が金属薄膜である場合、この遮光部の形成方法としては、遮光部をパターニングすることができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、フォトリソグラフィー法、マスクを用いた蒸着法、印刷法等を挙げることができる。

遮光部の膜厚としては、金属薄膜の場合は０．２μｍ〜０．４μｍ程度で設定され、黒色着色剤をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものである場合は０．５μｍ〜２μｍ程度で設定される。

（ｃ）着色層
本工程に用いられる着色層は、透明基材上の遮光部の開口部に形成され、３色以上の着色層からなるものである。

各色の着色層の配列としては、特に限定されるものではなく、例えば、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、４画素配置型等の一般的な配列とすることができる。また、着色層の幅、面積等は任意に設定することができる。

さらに、着色層の色としては、３色以上であれば特に限定されるものではなく、例えば、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３色、または、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）、黄（Ｙ）の４色、または、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）、黄（Ｙ）、シアン（Ｃ）の５色等とすることができる。

着色層の形成方法としては、各色の着色層を形成することができる、すなわち着色層をパターニングすることができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば、着色層形成用感光性樹脂組成物を用いたフォトリソグラフィー法、印刷法、インクジェット法等を挙げることができる。本発明においては、なかでも、フォトリソグラフィー法を用いたものが好ましい。本発明においては、なかでも、着色層を積層させた積層柱を、位置精度良く形成することが容易であることから、フォトリソグラフィー法を用いることが好ましい。

各色の着色層は、各色の顔料や染料等の着色剤をバインダ樹脂中に分散または溶解させたものである。
赤（Ｒ）の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ペリレン系顔料、レーキ顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、アントラキノン系顔料、アントラセン系顔料、イソインドリン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
緑（Ｇ）の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、ハロゲン多置換フタロシアニン系顔料もしくはハロゲン多置換銅フタロシアニン系顔料等のフタロシアニン系顔料、トリフェニルメタン系塩基性染料、イソインドリン系顔料、イソインドリノン系顔料等が挙げられる。これらの顔料もしくは染料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
青（Ｂ）の着色層に用いられる着色剤としては、例えば、銅フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、インダンスレン系顔料、インドフェノール系顔料、シアニン系顔料、ジオキサジン系顔料等が挙げられる。これらの顔料は単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。

本工程において、上記着色層に用いられるバインダ樹脂としては、例えば、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂、ヒドロキシエチルセルロース樹脂、カルボキシメチルセルロース樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキッド樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等が挙げられる。
また、着色層の形成方法としてフォトリソグラフィー法を用いる場合、バインダ樹脂としては、例えば、アクリレート系、メタクリレート系、ポリ桂皮酸ビニル系、もしくは環化ゴム系等の反応性ビニル基を有する感光性樹脂が用いられる。この場合、着色剤および感光性樹脂を含有する着色層形成用感光性樹脂組成物に、光重合開始剤を添加してもよく、さらには必要に応じて増感剤、塗布性改良剤、現像改良剤、架橋剤、重合禁止剤、可塑剤、難燃剤等を添加してもよい。

上記着色層の膜厚は、通常、１μｍ〜５μｍ程度で設定される。

（ｄ）積層柱
本工程に用いられる積層柱は、遮光部の開口部以外の上に形成され、上述した３色以上の着色層のうち、少なくとも１層以上の着色層が積層して形成されるものである。上記積層柱を形成する着色層は、上述した開口部に形成される着色層と同時に形成されるものであり、上記「（ｂ）着色層」の項に記載した開口部に形成される着色層と同様のものである。

本工程に用いられる積層柱の形成位置としては、図４に例示するように、本発明のカラーフィルタ基板１０上が、透明基材１上に、遮光部２および３色以上の着色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂが形成された表示領域１１および非表示領域１２を有するものである場合においては、少なくとも表示領域１１内の遮光部２の開口部以外の上に形成されていれば良く、表示領域１１の周縁領域に形成された遮光部２（額縁遮光部）、および非表示領域１２に形成してもよい。

本工程に用いられる積層柱は、少なくとも１層以上の着色層が積層してなるものであれば特に限定されるものではなく、全ての積層数を同じにしても良く、異なる積層数の積層柱が混在するものであっても良いが、本工程においては、積層数の異なる積層柱が混在するものであることが好ましい。
積層数が異なる積層柱が混在することにより高さの異なる積層柱が混在することになるため、後述するスペーサ・オーバーコート層形成工程によって、高さの異なるスペーサを得ることができる。このような高さの異なるスペーサを混在させることにより、耐荷重特性を向上させるためにスペーサの密度（単位面積当たりのスペーサの数）を高くしたときであっても、低温にて液晶層が収縮したときに、セルギャップが液晶層の収縮に追従しにくくなり、液晶層内で発泡が生じてしまうという問題（低温発泡）が生じにくいものとすることができるからである。

また、積層数の異なる積層柱が混在する場合にあっては、カラーフィルタ用基板上に均等に分布したものであっても良く、積層数が同じものを局在させて分布したものであっても良いが、本工程においては、均等に分布したものであることが好ましい。
ここで均等に分布したとは、カラーフィルタ用基板の単位面積あたりに存在する、各積層数で構成された積層柱の割合が一定であることをいう。このように均等に分布させる方法としては、例えば、３層積層した積層柱と、２層積層した積層柱とで構成されている場合には、３層積層した積層柱、２層積層した積層柱を交互に分布させることにより達成できる。また、この場合には３層積層した積層柱を構成する着色層は上述した３色以上のうちいずれを組み合わせたものであってもよい。

また上記積層柱を構成する着色層は、着色層の全体が、その直下の着色層もしくは遮光部の開口部以外の上に形成されていることが好ましい。液晶表示装置を作製する際に、クラックが生じたり、スペーサの太さ、高さにバラツキが生じる可能性があるからである。

上記積層柱を構成する着色層の平面視形状は、各着色層を積層し積層柱を形成できるものであれば特に限定されるものではなく、円形でも良く、楕円形でも良く、多角形でも良い。

上記積層柱の高さとしては、上記着色層の膜厚や、積層数に応じて異なるものであるが、０．１μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、なかでも２μｍ〜８μｍの範囲内とすることが好ましい。高さが上記範囲よりも低いと、セルギャップの制御が困難であり、また高さが上記範囲よりも高いと、積層柱の形成が困難になるからである。なお、積層柱の高さとは、遮光部表面から、積層柱の頂部までの距離をいう。

本工程に用いられる積層柱の数は、液晶表示装置とした際に、液晶層に一定の厚みであるセルギャップを形成することができるものであれば特に限定されるものではない。本工程においては、形成されるスペーサの高さ、太さ等によって適宜設定することができる。

本工程に用いられる積層柱の最上層の平面視面積は、後述するスペーサ・オーバーコート層形成工程により形成される積層柱頭頂部が、所望の高さおよび強度を有するものとなる面積であれば特に限定されるものではない。本工程においては、１０μｍ^２〜３０００μｍ^２の範囲内であることが好ましく、なかでも１０μｍ^２〜２０００μｍ^２の範囲内とすることが好ましい。上記範囲より狭いと十分な高さおよび強度を有した積層柱頭頂部を形成するのが困難となるからである。なお、平面視面積とは、透明基材の直上方向から正視した場合の面積をいう。

上記積層柱の着色層は上述した遮光部の開口部に形成される着色層と同時に形成されるものであるため、上記積層柱を形成するに当たり、新たに工程を増やす必要がないため、生産性に優れたものとなる。

（２）感光性樹脂層形成工程
本発明における感光性樹脂層形成工程は、上記カラーフィルタ用基板上に感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する工程である。

本工程に用いられる感光性樹脂としては、ネガ型感光性樹脂およびポジ型感光性樹脂のいずれも用いることができる。本工程においては、中でも、ネガ型感光性樹脂が好ましく用いられる。後述するスペーサ・オーバーコート層形成工程において用いられる多階調マスクを利用した露光では、露光光の透過度を調整することが可能であるので、露光光の透過度に応じてネガ型感光性樹脂の硬化反応に差を生じさせ、形状、厚み等を調整することが容易となるからである。

ネガ型感光性樹脂としては特に限定されるものではなく、カラーフィルタ基板のオーバーコート層として一般的に使用されるものを用いることができる。例えば、架橋型樹脂をベースとした化学増幅型感光性樹脂、具体的にはポリビニルフェノールに架橋剤を加え、さらに酸発生剤を加えた化学増幅型感光性樹脂等や、少なくとも紫外線照射によりラジカル成分を発生する光重合開始剤と、分子内にＣ＝Ｃなるアクリル基を有し、発生したラジカルにより重合反応を起こして硬化する成分と、その後の現像により未露光部が溶解可能となる官能基（例えば、アルカリ溶液による現像の場合は酸性基をもつ成分）とを含有するアクリル系ネガ型感光性樹脂を挙げることができるが、通常、アクリル系ネガ型感光性樹脂が用いられる。
上記アクリル系ネガ型感光性樹脂に用いられるアクリル基を有する成分のうち、比較的低分子量の多官能アクリル分子としては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（ＤＰＨＡ）、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（ＤＰＰＡ）、テトラメチルペンタトリアクリレート（ＴＭＰＴＡ）等が挙げられる。また、高分子量の多官能アクリル分子としては、スチレン−アクリル酸−ベンジルメタクリレート共重合体の一部のカルボン酸基部分にエポキシ基を介してアクリル基を導入したポリマー等が挙げられる。

また、ポジ型感光性樹脂としては特に限定されるものではなく、一般的に使用されるものを用いることができる。具体的には、ノボラック樹脂をベース樹脂とした感光性樹脂等が挙げられる。

上記感光性樹脂を含有する感光性樹脂組成物の塗布方法としては、例えばスピンコート法、キャスティング法、ディッピング法、バーコート法、ブレードコート法、ロールコート法、グラビアコート法、フレキソ印刷法、スプレーコート法等を使用することができる。

塗布後の感光性樹脂層の厚みは、後述するスペーサ・オーバーコート層形成工程によって形成するスペーサおよびオーバーコート層の厚みに応じて適宜調整されるものであるが、０．１μｍ〜１０μｍの範囲内で設定することができ、好ましくは１μｍ〜５μｍの範囲内である。上記範囲より薄いと、後述するスペーサ・オーバーコート層形成工程によって形成される積層柱頭頂部を十分な高さとすることができず、上記積層柱頭頂部を構成成分とするスペーサを十分な高さとすることが困難となるからである。

２．スペーサ・オーバーコート層形成工程
本発明に用いられるスペーサ・オーバーコート層形成工程について説明する。本工程は、上記感光性樹脂層を多階調マスクを用いて露光し、現像して、上記積層柱と上記積層柱上に上記感光性樹脂からなる積層柱頭頂部とを有するスペーサおよび上記感光性樹脂からなるオーバーコート層を同時に形成する工程である。以下、このようなスペーサ・オーバーコート層形成工程について説明する。

（１）多階調マスク
本工程に用いられる多階調マスクは、通常用いられる露光用マスクが、露光光を透過する透過領域、および露光光を透過させない遮光領域のみを有するのに対して、露光光の透過度を２段階以上に調整可能なものである。このような多階調マスクを用いた場合には、例えばネガ型感光性樹脂を露光した場合には、透過度の違いにより、硬化反応に差を生じさせ、高さや形状の異なる異形状の部材を同時に形成することが可能となる。

上記多階調マスクに用いられる露光光の透過度の調整方法としては、特に限定されるものではなく、従来公知のものを用いることができる。このような多階調マスクとしては、露光光を実質的に遮光する遮光膜と、露光光を所望の透過率で透過する半透明膜とを用い、光を透過する透過領域と、光を透過しない遮光領域と、透過する光の量が調整された半透過領域とを有することにより、階調を出すハーフトーンマスク法（特開２００２−１８９２８０）や、露光光を実質的に遮光するクロム膜などの一般的な遮光膜を用い、遮光膜に露光機の解像限界以下の微細なスリットを配置するスリットマスク法（特開２００２−１９６４７４公報）を挙げることができる。スリットマスク法では、マスクのスリットは、解像限界以下のサイズであるため、それ自身は感光性樹脂層上に結像せずに、周囲の非開口部領域も含めたエリアに、サイズに応じた露光光を透過する。このため、スリットマスクは、スリットが形成された領域と、その周囲を含めたエリアに、あたかも半透明膜があるかのように機能するものである。

上記多階調マスクは、所望の位置の露光光の透過度を調整できるものであれば特に限定されるものではなく、ハーフトーンマスク法、スリットマスク法のいずれかの技術を用いたものであっても良いが、本工程においては、ハーフトーンマスク法が好ましい。半透明膜の透過率を調整することで、所望の位置を、所望の透過率とすることが容易であるからである。

本工程に用いられる多階調マスクとしては、上記積層柱上に、感光性樹脂からなる積層柱頭頂部、スペーサ領域部およびオーバーコート層を形成させることができ、かつ所望の高さのスペーサ高さを有するカラーフィルタ基板を製造することを可能とするものであれば特に限定されない。
このような多階調マスクとしては、上記感光性樹脂層がネガ型感光性樹脂である場合には、少なくとも積層柱の最上層に対応する箇所に透過領域を有するものとし、ポジ型感光性樹脂である場合には、少なくとも上記積層柱の最上層に対応する箇所に遮光領域を有することが好ましい。本工程においては、上記のいずれも好適に用いることができるが、なかでも、ネガ型感光性樹脂からなる感光性樹脂層に対して用いるものであって、少なくとも積層柱の最上層に対応する箇所に透過領域を有するものが好ましく、特に、少なくとも積層柱の最上層に対応する箇所に透過領域を有し、かつ上記オーバーコート層に対応する箇所に半透過領域を有するものが好ましい。
少なくとも積層柱の最上層に対応する位置に透過領域を有する多階調マスクを用いて、ネガ型感光性樹脂からなる感光性樹脂層を露光することにより、上記積層柱上にネガ型感光性樹脂の硬化反応を生じさせ十分な高さを有する積層柱頭頂部を形成させることが容易であるからである。
また、上記多階調マスクがオーバーコート層に対応する箇所に半透過領域を有することにより、上記積層柱上のネガ型感光性樹脂に比べて、オーバーコート層を形成するネガ型感光性樹脂の硬化度を低くすることができるため、現像後においては、上記オーバーコート層を、上記積層柱頭頂部より厚みの薄いものとすることができるからである。

上記多階調マスクにおけるオーバーコート層に対応する箇所が半透過領域となるように設計した場合において、上記半透過領域の露光光透過率は、上述した感光性樹脂層形成工程によって形成された感光性樹脂の種類、感光性樹脂層の厚み、露光光の光強度、露光時間によって異なるが、高圧水銀ランプを用いた場合において、透過領域におけるＩ線（波長３６５ｎｍ）の透過率を１００％とすると、５％〜５０％の範囲内であることが好ましく、なかでも５％〜４５％の範囲内とすることが好ましい。上記範囲より小さいと、十分な露光ができず、オーバーコート層の厚みが薄くなりすぎ、液晶表示装置とした際に着色層が液晶層に露出する恐れがあるからである。また上記範囲より大きいと、オーバーコート層の厚みが厚くなり、十分な高さをもったスペーサとすることができないからである。
ここで、透過率の測定方法としては、多階調マスクに使用する透明基板の透過率をリファレンス（１００％）として、半透明膜の透過率を測定する方法を採用することができる。装置としては、紫外・可視分光光度計（例えば日立Ｕ-４０００等）、またはフォトダイオードアレイを検出器としている装置（例えば大塚電子ＭＣＰＤ等）を用い測定できる。

（２）スペーサ
本工程に用いられるスペーサは、上記積層柱と、上記積層柱上に形成され感光性樹脂からなる積層柱頭頂部とを有するものである。以下、このようなスペーサを構成する積層柱頭頂部について説明する。なお、上記積層柱については「１．感光性樹脂層形成工程」の項に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。

（ａ）積層柱頭頂部
本工程に用いられる積層柱頭頂部は、感光性樹脂からなるものである。このような感光性樹脂は、上述した「１．感光性樹脂層形成工程」の項に記載した内容と同様であるので、ここでの記載は省略する。

上記積層柱頭頂部の上面の形状は、本発明によって製造されるカラーフィルタ基板を液晶表示装置に用いた際に、上記積層柱頭頂部が形成される積層柱の最上層が液晶層に露出することなく、かつセルギャップを一定に保つことができるものであれば特に限定されず、平坦であってもよく、凹凸状があってもよい。
また上記積層柱頭頂部の平面視形状は、円形でも良く、楕円形でも良く、多角形でもよく、上記積層柱の最上層の形状に応じて設定されるものである。

上記積層柱頭頂部の高さとしては、上記感光性樹脂層形成工程より形成された感光性樹脂層の厚みに応じて異なるものであるが、０．１μｍ〜８μｍの範囲内であることが好ましく、なかでも０．１μｍ〜５μｍの範囲内とすることが好ましい。上記範囲より低いと十分な高さのスペーサを形成することができないからである。また、上記範囲より高いと形成する感光性樹脂層の膜厚が厚くなるため、露光・現像により廃棄する感光性樹脂の量が多くなりコストが高くなるからである。

（ｂ）スペーサ
本工程に用いられるスペーサは、上述した積層柱と、積層柱頭頂部とを有するものである。上記スペーサの高さとしては、０．１μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、なかでも２μｍ〜８μｍの範囲内とすることが好ましい。上記範囲より低いと十分なセルギャップを得ることができないためである。
なお上記スペーサの高さとは、オーバーコート層の表面から上記スペーサの頂部までの距離をいう。

（３）オーバーコート層
本工程に用いられるオーバーコート層は、上記カラーフィルタ用基板上に感光性樹脂が一定の厚みで形成されたものであれば特に限定されるものではない。オーバーコート層はカラーフィルタ基板と接する液晶分子の保護および着色層の平坦性のために、遮光部、着色層といった各構成を覆う目的で形成されるものである。

上記オーバーコート層の厚みとしては、０．１μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、なかでも０．１μｍ〜５μｍの範囲内とすることが好ましい。上記範囲より小さいと、機械精度等により着色層が液晶層に露出したり、十分な平坦性が得られないからである。また、上記範囲より大きいと、上述したスペーサの高さを十分なものとすることができないからである。
なお、オーバーコート層の厚みとは、遮光部の開口部に形成された各色の着色層の表面からオーバーコート層の表面までの距離をいう。

（４）スペーサ領域部
本工程におけるスペーサ領域部は、感光性樹脂からなり、かつ感光性樹脂の厚みがオーバーコート層より厚い領域のうち、上記積層柱頭頂部以外の箇所をいう。

本工程に用いられるスペーサ領域部の幅としては、液晶表示装置とした際に、上記積層柱を構成する着色層が表面に露出し、液晶層と接触しないように形成されているものであれば特に限定されるものではないが、遮光部の幅より狭いものであることが好ましい。図２（ｂ）に示すようにスペーサ領域部８の幅が遮光部２の幅より大きく、開口部に形成された各色の着色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ上まで及んだ場合には、各色の着色層３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ上の感光性樹脂の厚みが一定ではなくなることになり、開口部から透過される光の散乱、液晶配向のばらつき等を引き起こし、液晶表示装置としての表示品位の低下を生じる可能性があるからである。

本工程に用いられるスペーサ領域部の平面視形状は、上記積層柱が露出しないものであれば特に限定されるものではなく、円形でも良く、楕円形でも良く、多角形でもよい。

（５）スペーサ・オーバーコート層形成工程
本発明に用いられるスペーサ・オーバーコート層形成工程について説明する。本工程は、上記感光性樹脂層を多階調マスクを用いて露光し、現像して、上記積層柱上に上記感光性樹脂からなる積層柱頭頂部が形成されたスペーサおよび上記感光性樹脂からなるオーバーコート層を同時に形成する工程である。

本工程においては、まず、感光性樹脂層を多階調マスクを介して露光する。露光方法としては、特に限定されるものではなく、例えば感光性樹脂の表面から数十μｍ程度の間隙をあけて多階調マスクを配置し、露光するプロキシミティ露光を行うことができる。この露光により、感光性樹脂としてネガ型感光性樹脂を用いた場合には照射部分で硬化反応が生じ、ポジ型感光性樹脂を用いた場合には照射部分で酸発生反応が生じる。

上記の露光後は、現像が行われる。現像により、感光性樹脂層が部分的に除去される。感光性樹脂としてネガ型感光性樹脂を用いた場合には、露光により硬化した部分が残存し、その他の部分が選択的に除去される。透過領域から露光された部位では硬化反応が十分に進行するのに対し、上記透過領域より露光光の透過度が低い半透過領域から露光された部位では硬化反応が不十分となるので、所望の位置に、所望の厚みのスペーサおよびオーバーコート層を同時に形成することができる。
また、感光性樹脂としてポジ型感光性樹脂を用いた場合には、露光により分解した部分が選択的に除去され、その他の部分が残存する。透過領域から露光された部位では酸発生反応が十分に進行するのに対し、半透過領域から露光された部位では酸発生反応が不十分となるので、高さや形状の異なるスペーサおよびオーバーコート層を同時に形成することができる。
現像は、一般的な現像方法に従って行うことができる。

また本工程においては、露光および現像後、形成されたスペーサおよびオーバーコート層に対して加熱処理（ポストベーク）を施してもよい。この加熱処理は、例えば温度１００℃〜２５０℃、処理時間１０分〜６０分程度で適宜設定することができる。

３．その他の工程
本発明においては、感光性樹脂層形成工程前、またはスペーサ・オーバーコート層形成工程後に、カラーフィルタ基板における各種部材を形成する工程を行うことができる。例えば、スペーサ・オーバーコート層形成工程後に、スペーサおよびオーバーコート層を覆うように配向膜を形成する配向膜形成工程を行ってもよい。配向膜は、例えば可溶性ポリイミド、ポリアミック酸タイプポリイミド、変性ポリイミド等の有機化合物を、一般的な印刷法、塗布方法により塗布し、その後、焼成することにより形成することができる。このような配向膜には、配向処理（ラビング）は不要である。
配向膜の厚みは、５００Å〜１０００Å程度とすることができる。

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と、実質的に同一の構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなる場合であっても本発明の技術的範囲に包含される。

次に、実施例及び比較例を挙げて、本発明についてさらに具体的に説明する。

［実施例１］
１．感光性樹脂組成物の調製
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３重量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２重量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２，２´−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７重量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７重量部、トリエチルアミンを０．４重量部、及びハイドロキノンを０．２重量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。

次に下記の材料を室温で攪拌、混合して感光性樹脂組成物とした。
＜感光性樹脂組成物の組成＞
・上記共重合樹脂用液（固形分５０％）：１６重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社 ＳＲ３９９）：２４重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社 エピコート１８０Ｓ７０）：４重量部
・２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン：４重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル：５２重量部

２．遮光部の形成
まず、下記分量の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調製した。

＜黒色顔料分散液の組成＞
・黒色顔料：２３重量部
・高分子分散材（ビックケミー・ジャパン（株） Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１１１）：２重量部
・溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル）：７５重量部

次に、上記黒色顔料分散液を、下記分量の成分を十分混合して、遮光部用感光性樹脂組成物を得た。

＜遮光部用感光性樹脂組成物の組成＞
・上記黒色顔料分散液：６１重量部
・上記の感光性樹脂組成物：２０重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル：３０重量部

そして、透明基材として、厚み１．１ｍｍのガラス基板（旭硝子（株）ＡＮ材）上に上記遮光層用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、膜厚約１μｍの遮光層を形成した。次いで、当該遮光層を、超高圧水銀ランプで遮光パターンに露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を１８０℃の雰囲気下に３０分間の加熱処理を施すことで、開口部を有する遮光部を形成した。

３．着色層、積層柱の形成
次に、下記組成の赤色用感光性樹脂組成物、緑色用感光性樹脂組成物、および青色用感光性樹脂組成物を調製した。

＜赤色用感光性樹脂組成物の組成＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントレッド１７７：１０重量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤：３重量部
・上記の感光性樹脂組成物：５重量部
・酢酸−３−メトキシブチル：８２重量部
＜緑色用感光性樹脂組成物の組成＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントグリーン３６：１０重量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤：３重量部
・上記の感光性樹脂組成物：５重量部
・酢酸−３−メトキシブチル：８２重量部
＜青色用感光性樹脂組成物の組成＞
・Ｃ．Ｉ．ピグメントブルー１５：６：１０重量部
・ポリスルホン酸型高分子分散剤：３重量部
・上記の感光性樹脂組成物：５重量部
・酢酸−３−メトキシブチル：８２重量部

上記のようにして遮光部を形成した基板上に、上記赤色用感光性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布（塗布厚み１．５μｍ）し、その後、７０℃のオーブン中で３分間乾燥させ、塗膜を形成した。その後、塗膜から１００μｍの距離のところにフォトマスクを配置し、プロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いて、赤色の着色層を形成すべき領域にのみ紫外線を１０秒間照射した。
次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、塗膜の未硬化部分のみを除去した。その後、基板を１８０℃の雰囲気下に３０分間の加熱処理を施して、赤色の着色層を形成すべき領域に赤色の着色層を形成した。

また、上述した赤色の着色層の形成と同様の工程で、上記緑色用感光性樹脂組成物を用いて、緑色の着色層を形成すべき領域に緑色の着色層を形成した。

さらに、上述した赤色の着色層の形成と同様の工程で、上記青色用感光性樹脂組成物を用いて、青色の着色層を形成すべき領域に青色の着色層を形成した。
以上により、赤、緑、青の３色の着色層を形成した。
また、上述した、赤、緑、青の各色の着色層が、この順に積層された高さ４μｍの積層柱を形成した。
以上により、カラーフィルタ用基板を作製した。

４．スペーサ、オーバーコート層の形成
上記のようにして着色層および積層柱を形成した基板上に、感光性樹脂組成物をスピンコーティング法により塗布、乾燥し、乾燥塗膜２μｍの感光性樹脂層を形成した。
感光性樹脂層から１００μmの距離に、上記積層柱に対応する位置に配置された透過領域およびオーバーコート層を形成すべき領域に対応する位置に配置された半透過領域を有する多階調マスクを配置してプロキシミティアライナにより２．０ｋＷの超高圧水銀ランプを用いて紫外線を１０秒間照射した。次いで、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液（液温２３℃）中に１分間浸漬してアルカリ現像し、感光性樹脂層の未硬化部分のみを除去した。その後透明基材を２００℃の雰囲気中に３０分間の加熱処理を施して上記積層柱と、上記積層柱上形成され、感光性樹脂からなる積層柱頭頂部とを有するスペーサ、および感光性樹脂からなるオーバーコート層を形成した。
以上により、カラーフィルタ基板を作製した。

［実施例２］
着色層、積層柱の形成において、積層柱を赤、緑のみの着色層で形成した以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタ基板を作成した。

［実施例３］
着色層、積層柱の形成において、積層柱を赤色のみの着色層で形成した以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタ基板を作成した。

［比較例１］
積層柱頭頂部、オーバーコート層の形成において、多階調マスクを使用せず、カラーフィルタ用基板の全面を均一な露光量で露光した以外は実施例１と同様にしてカラーフィルタ基板を作成した。

［評価］
カラーフィルタ基板の評価として、積層柱と感光性樹脂からなる積層柱頭頂部とを有するスペーサの高さを測定した。測定結果は、各実施例、比較例毎に任意の２０箇所のスペーサを測定して、高さの平均値を求めた。結果を下記表１に示す。
なお、スペーサの高さとは、オーバーコート層の表面からスペーサの頂部までの距離をいう。

スペーサの高さを測定した結果、比較例に比較して十分な高さを有するスペーサが形成されていることが確認できた。また、実施例２〜３のようにスペーサを構成する積層柱の積層数が低いものであっても、十分な高さの積層柱頭頂部が形成でき、かつオーバーコート層の厚みを薄いものとすることができるので、得られるスペーサの高さを十分な高さとすることができることが確認できた。

本発明のカラーフィルタ基板の製造方法の一例を示す工程図である。 従来のカラーフィルタ基板の製造方法を説明する説明図である。 本発明に用いられる透明基材を説明する説明図である。 本発明に用いられるカラーフィルタ用基板の一例を示す概略平面図である。

符号の説明

１ … 透明基材
２ … 遮光部
３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ … 着色層
４ … 積層柱
５ … 感光性樹脂層
６ … オーバーコート層
７ … 積層柱頭頂部
８ … スペーサ領域部
９ … スペーサ
１０ … カラーフィルタ用基板
１１ … 表示領域
１２ … 非表示領域
２０ … 多階調マスク
２１ … 透過領域
２２ … 半透過領域
３０、３０´ … カラーフィルタ基板

Claims (1)

1. 透明基材と、前記透明基材上に形成された遮光部と、前記遮光部の開口部に形成された３色以上の着色層と、前記遮光部の開口部以外の上に形成され、少なくとも１層以上の着色層からなる積層柱と、を有するカラーフィルタ用基板上に、感光性樹脂からなる感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、
   前記感光性樹脂層を、多階調マスクを用いて露光し、現像して、前記積層柱と、前記積層柱上に形成され、前記感光性樹脂からなる積層柱頭頂部とを有するスペーサおよび前記感光性樹脂からなるオーバーコート層を同時に形成するスペーサ・オーバーコート層形成工程と、
   を有することを特徴とするカラーフィルタ基板の製造方法。

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