JP2008083032A - 検査方法および装置、リソグラフィ装置、リソグラフィ処理セルおよびデバイス製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】照明開口絞りを有するスキャトロメトリ装置において、中間像に視野絞りを設けて、基板上のスポットサイズを制御する。視野絞りは、アポダイズすることができ、例えば不等辺四辺形またはガウスの形態の透過率を有する。
【選択図】図2
Description
基板の特性を測定するように構成された検査装置であって、
後部焦点面を有する高NAレンズと、
放射源の中間像を形成し、前記中間像の像を基板へと前記高NAレンズを通して投影するように構成された照明光学システムであって、前記後部焦点面に結像される照明開口ブレードを有している、照明光学システムと、
前記後部焦点面における放射の強度を測定するように配置されたディテクタと、
前記中間像に配置された視野絞りと、
を備える検査装置が提供される。
パターンを照明するように配置された照明光学システムと、
前記パターンの像を基板に投影するように配置された投影光学システムと、
基板の特性を測定するように構成された検査デバイスと、を備え、
前記検査デバイスが、
後部焦点面を有する高NAレンズと、
放射源の中間像を形成し、前記中間像の像を基板へと高NAレンズを通して投影するように構成された照明光学システムであって、前記後部焦点面に結像される照明開口ブレードを有する、照明光学システムと、
前記後部焦点面における放射の強度を測定するように配置されたディテクタと、
前記中間像に配置された視野絞りと、を備える
リソグラフィ装置が提供される。
基板を放射感応性層で被覆するように配置されたコータと、
前記コータによって被覆された前記基板の前記放射感応性層上に像を露光するように配置されたリソグラフィ装置と、
前記リソグラフィ装置によって露光された像を現像するように配置されたディベロパと、
基板の特性を測定するように構成された検査デバイスと、を備え、
前記検査デバイスが、
後部焦点面を有する高NAレンズと、
放射源の中間像を形成し、前記中間像の像を基板へと高NAレンズを通して投影するように構成された照明光学システムであって、前記後部焦点面に結像される照明開口ブレードを有する、照明光学システムと、
前記後部焦点面における放射の強度を測定するように配置されたディテクタと、
前記中間像に配置された視野絞りと、を備える
リソグラフィセルが提供される。
基板の特性を測定する方法であって、
照明開口絞りを含む照明光学システムを使用して、視野絞りに放射源の中間像を形成すること、
高NAレンズを通して前記中間像の像を基板へと投影すること、および
前記高NAレンズの後部焦点面で前記基板から反射した放射の強度を測定すること、
を含む方法が提供される。
リソグラフィプロセスを使用して、デバイス構造およびターゲットパターンを含むデバイス層を形成するために、デバイスパターンおよび基準パターンの像を放射感応性層に投影すること、
照明開口絞りを含む照明光学システムを使用して、視野絞りに放射源の中間像を形成すること、
高NAレンズを通して前記中間像の像を前記ターゲットパターンに投影すること、および
前記高NAレンズの後部焦点面で、前記基板から反射した放射の強度を測定すること、
を含むデバイス測定方法が提供される。
Claims (20)
- 基板の特性を測定するように構成された検査装置であって、
後部焦点面を有する高NAレンズと、
放射源の中間像を形成し、前記中間像の像を基板へと前記高NAレンズを通して投影するように構成された照明光学システムであって、前記後部焦点面に結像される照明開口ブレードを有している、照明光学システムと、
前記後部焦点面における放射の強度を測定するように配置されたディテクタと、
前記中間像に配置された視野絞りと、
を備える検査装置。 - 前記視野絞りがアポダイズされている、請求項1に記載の検査装置。
- 自身の幅に沿った前記視野絞りの透過率が不等辺四辺形形状を有する、請求項2に記載の検査装置。
- 自身の幅に沿った前記視野絞りの前記透過率がガウス形状を有する、請求項2に記載の検査装置。
- パターンを照明するように配置された照明光学システムと、
前記パターンの像を基板に投影するように配置された投影光学システムと、
基板の特性を測定するように構成された検査デバイスと、を備え、
前記検査デバイスが、
後部焦点面を有する高NAレンズと、
放射源の中間像を形成し、前記中間像の像を基板へと高NAレンズを通して投影するように構成された照明光学システムであって、前記後部焦点面に結像される照明開口ブレードを有する、照明光学システムと、
前記後部焦点面における放射の強度を測定するように配置されたディテクタと、
前記中間像に配置された視野絞りと、を備える
リソグラフィ装置。 - 前記視野絞りがアポダイズされている、請求項5に記載のリソグラフィ装置。
- 自身の幅に沿った前記視野絞りの透過率が不等辺四辺形形状を有する、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 自身の幅に沿った前記視野絞りの透過率がガウス形状を有する、請求項6に記載のリソグラフィ装置。
- 基板を放射感応性層で被覆するように配置されたコータと、
前記コータによって被覆された前記基板の前記放射感応性層上に像を露光するように配置されたリソグラフィ装置と、
前記リソグラフィ装置によって露光された像を現像するように配置されたディベロパと、
基板の特性を測定するように構成された検査デバイスと、を備え、
前記検査デバイスが、
後部焦点面を有する高NAレンズと、
放射源の中間像を形成し、前記中間像の像を基板へと高NAレンズを通して投影するように構成された照明光学システムであって、前記後部焦点面に結像される照明開口ブレードを有する、照明光学システムと、
前記後部焦点面における放射の強度を測定するように配置されたディテクタと、
前記中間像に配置された視野絞りと、を備える
リソグラフィセル。 - 前記視野絞りがアポダイズされている、請求項9に記載のリソグラフィセル。
- 自身の幅に沿った前記視野絞りの透過率が不等辺四辺形形状を有する、請求項10に記載のリソグラフィセル。
- 自身の幅に沿った前記視野絞りの透過率がガウス形状を有する、請求項10に記載のリソグラフィセル。
- 基板の特性を測定する方法であって、
照明開口絞りを含む照明光学システムを使用して、視野絞りに放射源の中間像を形成すること、
高NAレンズを通して前記中間像の像を基板へと投影すること、および
前記高NAレンズの後部焦点面で前記基板から反射した放射の強度を測定すること、
を含む方法。 - 前記視野絞りがアポダイズされている、請求項13に記載の方法。
- 自身の幅に沿った前記視野絞りの透過率が不等辺四辺形形状を有する、請求項14に記載の方法。
- 自身の幅に沿った前記視野絞りの透過率がガウス形状を有する、請求項14に記載の方法。
- リソグラフィプロセスを使用して、デバイス構造およびターゲットパターンを含むデバイス層を形成するために、デバイスパターンおよび基準パターンの像を放射感応性層に投影すること、
照明開口絞りを含む照明光学システムを使用して、視野絞りに放射源の中間像を形成すること、
高NAレンズを通して前記中間像の像を前記ターゲットパターンに投影すること、および
前記高NAレンズの後部焦点面で、前記基板から反射した放射の強度を測定すること、
を含むデバイス測定方法。 - 前記視野絞りがアポダイズされている、請求項17に記載の方法。
- 自身の幅に沿った前記視野絞りの透過率が不等辺四辺形形状を有する、請求項18に記載の方法。
- 自身の幅に沿った前記視野絞りの透過率がガウス形状を有する、請求項18に記載の方法。
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