JP4980264B2 - 検査方法、デバイス製造方法、検査装置、基板、マスク、リソグラフィ装置、及びリソグラフィセル - Google Patents
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- 239000000758 substrate Substances 0.000 title claims description 102
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 22
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 22
- 238000001459 lithography Methods 0.000 title description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title description 6
- 230000005855 radiation Effects 0.000 claims description 91
- 238000000059 patterning Methods 0.000 claims description 32
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 24
- 230000008859 change Effects 0.000 claims description 19
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 16
- 238000005286 illumination Methods 0.000 claims description 5
- 238000012993 chemical processing Methods 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 14
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 14
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 10
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 8
- 230000006870 function Effects 0.000 description 5
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 210000001747 pupil Anatomy 0.000 description 4
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 3
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 3
- 230000004075 alteration Effects 0.000 description 2
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 2
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000005670 electromagnetic radiation Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 2
- 238000012876 topography Methods 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 230000002238 attenuated effect Effects 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 230000009977 dual effect Effects 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 239000002346 layers by function Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 1
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 238000005192 partition Methods 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
- G03F7/70605—Workpiece metrology
- G03F7/70616—Monitoring the printed patterns
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Description
Claims (8)
- 基板内のオーバーレイエラーを特定するための検査方法であって、
前記基板上のターゲットに放射のビームを投影すること、
スキャトロメータを使用して、前記基板上の前記ターゲットから反射した前記放射を測定すること、及び
前記反射した放射から前記オーバーレイエラーを特定すること、
を含み、
前記ターゲットは、第1及び第2のオーバーラップしたパターンを備え、各パターンは、第1方向においてのみ変化する複数の格子を有する第1サブパターン及び第2方向においてのみ変化する複数の格子を有する第2サブパターンを備え、かつ、前記第1方向においてのみ変化する前記複数の格子と前記第2方向においてのみ変化する前記複数の格子とは互いに交差せず、
前記第1方向の前記格子及び前記第2方向の前記格子それぞれの少なくとも一部が、測定スポット内に位置し、
前記ターゲットは、単一の測定において複数の方向でオーバーレイエラーを特定するように構成され、
前記第1サブパターンを構成する前記複数の格子の数と、前記第2サブパターンを構成する前記複数の格子の数とは異なっており、
前記オーバーレイエラーを特定する際には、前記各サブパターンを構成する前記格子の数に応じて、前記測定に使用される相対的な信号強度が調整される、方法。 - 前記第1方向及び前記第2方向がほぼ直交している、請求項1に記載の方法。
- 前記第1パターン及び前記第2パターンがほぼ同一である、請求項1または2に記載の方法。
- 基板内のオーバーレイエラーを特定するための検査方法であって、
前記基板上のターゲットに放射のビームを投影すること、
スキャトロメータを使用して、前記基板上の前記ターゲットから反射した前記放射を測定すること、及び
前記反射した放射から前記オーバーレイエラーを特定すること、
を含み、
前記ターゲットは、第1及び第2のオーバーラップしたパターンを備え、各パターンは3つのサブパターンを備え、各サブパターンは、第1方向においてのみ変化する複数の格子を有するサブパターン、又は第2方向においてのみ変化する複数の格子を有するサブパターンであり、かつ、前記第1方向においてのみ変化する前記複数の格子と前記第2方向においてのみ変化する前記複数の格子とは互いに交差せず、前記第1方向の前記格子及び前記第2方向の前記格子それぞれの少なくとも一部が、測定スポット内に位置し、
各パターンを構成する、前記第1方向においてのみ変化する前記複数の格子の数と、前記第2方向においてのみ変化する前記複数の格子の数とは異なっており、
前記オーバーレイエラーを特定する際には、前記各サブパターンを構成する前記格子の数に応じて、前記測定に使用される相対的な信号強度が調整される、方法。 - 基板の特性を測定するように構成された検査装置であって、
前記基板上のターゲットに放射を投影するように構成された放射投影器、
前記ターゲットから反射した前記放射を検出するように構成された検出器、及び
単一のターゲットから反射した前記放射に基づいて2つの方向でオーバーレイエラーを算出するように構成されたデータ処理ユニットであって、前記単一のターゲットは第1及び第2のオーバーラップしたパターンを備え、各パターンは第1方向においてのみ変化する複数の格子を有する第1第1サブパターン及び第2方向においてのみ変化する複数の格子を有する第2サブパターンを備え、かつ、前記第1方向においてのみ変化する前記複数の格子と前記第2方向においてのみ変化する前記複数の格子とは互いに交差せず、
前記第1方向の前記格子及び前記第2方向の前記格子それぞれの少なくとも一部が、測定スポット内に位置し、
前記ターゲットは、単一の測定において複数の方向でオーバーレイエラーを特定するように構成され、
前記第1サブパターンを構成する前記複数の格子の数と、前記第2サブパターンを構成する前記複数の格子の数とは異なっており、前記オーバーレイエラーを特定する際には、前記各サブパターンを構成する前記格子の数に応じて、前記測定に使用される相対的な信号強度が調整されるデータ処理ユニット、
を備える、検査装置。 - 基板上にパターンのイメージを投影するように構成された投影システム、及び、請求項5に記載の検査装置、を備えるリソグラフィ装置。
- リソグラフィ装置、前記リソグラフィ装置によって露光される基板上で化学処理を行うように構成された処理ユニット、及び、請求項5に記載の検査装置、を備えるリソグラフィセル。
- 放射のビームを調整するように構成された照明システム、
前記放射のビームにパターンを付与することによりパターン付き放射ビームを形成するように構成されたパターニングデバイスを保持するように構成された支持体、
基板を支持するように構成された基板テーブル、
前記パターン付き放射ビームを前記基板上に投影するように構成された投影システム、及び
前記基板の特性を測定するように構成された検査装置、
を備え、
前記検査装置は、
前記基板上のターゲットに放射を投影するように構成された放射投影器、
前記ターゲットから反射した前記放射を検出するように構成された検出器、及び
単一のターゲットから反射した前記放射に基づいて2つの方向でオーバーレイエラーを算出するように構成されたデータ処理ユニットであって、前記単一のターゲットは第1及び第2のオーバーラップしたパターンを備え、各パターンは第1方向においてのみ変化する複数の格子を有する第1サブパターン及び第2方向においてのみ変化する複数の格子を有する第2サブパターンを備え、かつ、前記第1方向においてのみ変化する前記複数の格子と前記第2方向においてのみ変化する前記複数の格子とは互いに交差せず、
前記第1方向の前記格子及び前記第2方向の前記格子それぞれの少なくとも一部が、測定スポット内に位置し、
前記ターゲットは、単一の測定において複数の方向でオーバーレイエラーを特定するように構成され、
前記第1サブパターンを構成する前記複数の格子の数と、前記第2サブパターンを構成する前記複数の格子の数とは異なっており、前記オーバーレイエラーを特定する際には、前記各サブパターンを構成する前記格子の数に応じて、前記測定に使用される相対的な信号強度が調整されるデータ処理ユニット、を備える、リソグラフィ装置。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US11/712,556 US7724370B2 (en) | 2007-03-01 | 2007-03-01 | Method of inspection, a method of manufacturing, an inspection apparatus, a substrate, a mask, a lithography apparatus and a lithographic cell |
US11/712,556 | 2007-03-01 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008277754A JP2008277754A (ja) | 2008-11-13 |
JP4980264B2 true JP4980264B2 (ja) | 2012-07-18 |
Family
ID=39732832
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2008040760A Active JP4980264B2 (ja) | 2007-03-01 | 2008-02-22 | 検査方法、デバイス製造方法、検査装置、基板、マスク、リソグラフィ装置、及びリソグラフィセル |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7724370B2 (ja) |
JP (1) | JP4980264B2 (ja) |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL2003292A (en) | 2008-09-08 | 2010-03-15 | Asml Netherlands Bv | A substrate, a method of measuring a property, an inspection apparatus and a lithographic apparatus. |
US9081304B2 (en) * | 2008-09-08 | 2015-07-14 | Asml Netherlands B.V. | Substrate, an inspection apparatus, and a lithographic apparatus |
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NL2016925A (en) * | 2015-06-18 | 2016-12-22 | Asml Netherlands Bv | Method of metrology, inspection apparatus, lithographic system and device manufacturing method |
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Family Cites Families (44)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3693370B2 (ja) | 1994-10-18 | 2005-09-07 | 株式会社ルネサステクノロジ | 重合わせ精度測定マーク |
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JP2006012867A (ja) * | 2004-06-21 | 2006-01-12 | Nikon Corp | マーク計測方法及び装置、露光方法及び装置、並びに露光システム |
US7791727B2 (en) | 2004-08-16 | 2010-09-07 | Asml Netherlands B.V. | Method and apparatus for angular-resolved spectroscopic lithography characterization |
US20060109463A1 (en) | 2004-11-22 | 2006-05-25 | Asml Netherlands B.V. | Latent overlay metrology |
US7453577B2 (en) | 2004-12-14 | 2008-11-18 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus and method for inspecting a patterned part of a sample |
US7687925B2 (en) * | 2005-09-07 | 2010-03-30 | Infineon Technologies Ag | Alignment marks for polarized light lithography and method for use thereof |
-
2007
- 2007-03-01 US US11/712,556 patent/US7724370B2/en active Active
-
2008
- 2008-02-22 JP JP2008040760A patent/JP4980264B2/ja active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US7724370B2 (en) | 2010-05-25 |
JP2008277754A (ja) | 2008-11-13 |
US20080212097A1 (en) | 2008-09-04 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
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|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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