JP2008081794A - アルミニウム合金および薄膜系太陽電池基板 - Google Patents
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Abstract
【課題】高温強度に優れた薄膜系太陽電池基板を提供する。
【解決手段】薄膜系太陽電池(1)において、基板(2)を構成するアルミニウム合金は、Si:0.25〜0.35質量%、Fe:0.05〜0.3質量%、Cu:0.3〜0.5質量%、Mn:1.2〜1.8質量%、Sc:0.05〜0.4質量%、Zr:0.05〜0.2質量%を含有し、残部がAlおよび不純物からなる。前記合金においてさらにV:0.05〜0.2質量%を含有する。
【選択図】 図1
【解決手段】薄膜系太陽電池(1)において、基板(2)を構成するアルミニウム合金は、Si:0.25〜0.35質量%、Fe:0.05〜0.3質量%、Cu:0.3〜0.5質量%、Mn:1.2〜1.8質量%、Sc:0.05〜0.4質量%、Zr:0.05〜0.2質量%を含有し、残部がAlおよび不純物からなる。前記合金においてさらにV:0.05〜0.2質量%を含有する。
【選択図】 図1
Description
この発明は、高温強度に優れたアルミニウム合金、およびこのアルミニウム合金からなる太陽電池基板に関する。
太陽電池は、単結晶Si太陽電池、多結晶Si太陽電池、薄膜系太陽電池の3種に大別される。Siウエハーを基板とする単結晶Si太陽電池および多結晶Si太陽電池に対し、薄膜系太陽電池は、ガラス基板、金属基板、樹脂基板といった多様な基板を用い、これらの基板上に薄膜の光吸収層を形成したものである。前記光吸収層としては、アモルファスSiやナノ結晶SiのSi系薄膜、CdS/CdTe、CIS(Cu−In−Se)、CIGS(Cu−In−Ga−Se)等の化合物系薄膜が用いられる。また、可撓性を有する基板を用いることにより、基板をロールに巻き取りながら絶縁層や薄膜を形成するロール・ツー・ロール方式でフレキシブルな太陽電池セルを連続生産することが可能である。
薄膜系太陽電池の優れた特徴であるフレキシブル性を活かすためには、樹脂基板や金属基板が適し、特に金属基板としてステンレス基板やジュラルミン等のアルミニウム合金基板を用いることが提案されている(特許文献1、2、3参照)。
特開2004−79858号公報
特開2004−179328号公報
特開2005−347566号公報
光吸収層として上記化合物系薄膜を形成するには、基板上に化合物を配置し、化合物の種類に応じて350〜550℃で焼結する。例えば、連続生産においてCIGS層を形成するには、350〜550℃、4〜20m/分のライン速度で焼結することが好ましく、この温度に耐える基板材料が望ましい。
しかし、ステンレス基板では上記温度範囲で焼結した場合、絶縁層にピンホールが発生するという問題がある。また、ジュラルミン基板では高温強度が不足して形状保持が困難であるため、焼結温度を下げる必要がある。高温強度の高いアルミニウム合金としては、FeやMnを添加した合金が知られているが、本用途にはなお強度が不足している。
本発明は、上述した背景技術に鑑み、高温強度に優れたアルミニウム合金、薄膜系太陽電池基板、薄膜系太陽電池および薄膜系太陽電池の製造方法の提供を目的とする。
即ち、本発明のアルミニウム合金は下記[1]〜[5]に記載の構成を有し、薄膜系太陽電池基板、薄膜系太陽電池および薄膜系太陽電池の製造方法は下記[6]〜[9]に記載の構成を有する。
[1] Si:0.25〜0.35質量%、Fe:0.05〜0.3質量%、Cu:0.3〜0.5質量%、Mn:1.2〜1.8質量%、Sc:0.05〜0.4質量%、Zr:0.05〜0.2質量%を含有し、残部がAlおよび不純物からなることを特徴とするアルミニウム合金。
[2] さらにV:0.05〜0.2質量%を含有する前項1に記載のアルミニウム合金。
[3] Sc濃度が0.07〜0.15質量%である前項1または2に記載のアルミニウム合金。
[4] Zr濃度が0.07〜0.1質量%である前項1〜3のいずれか1項に記載のアルミニウム合金。
[5] V濃度が0.07〜0.1質量%である前項2〜4のいずれか1項に記載のアルミニウム合金。
[6] 基板材料が前項1〜5のいずれかに記載されたアルミニウム合金からなることを特徴とする薄膜系太陽電池基板。
[7] 基板の厚さが20〜200μmである前項6に記載の薄膜系太陽電池基板。
[8] 前項6または7に記載の薄膜系太陽電池基板上に、絶縁層および裏面電極層を介して光吸収層が形成されてなることを特徴とする薄膜系太陽電池。
[9] 前記光吸収層は、CdS/CdTe、CIS、CIGSのうちのいずれかの化合物からなる前項8に記載の薄膜系太陽電池。
[10] 巻き出しロールに前項6または7に記載の薄膜系太陽電池基板が巻かれ、前記薄膜系太陽電池基板を巻き出しロールから巻き取りロールに巻き取る間に、絶縁層、裏面電極層、光吸収層の形成を行う工程を含むことを特徴とする薄膜系太陽電池の製造方法。
[1]に記載の発明にかかるアルミニウム合金によれば、高温領域において高い強度および耐軟化性が得られる。
[2][3][4][5]に記載の各発明にかかるアルミニウム合金によれば、特に高い強度および耐軟化性が得られる。
[6]に記載の発明にかかる薄膜系太陽電池基板は、基板材料が上記アルミニウム合金からなり、高温領域において高い強度および耐軟化性を有するものであるから、光吸収層を構成する化合物の焼結時に基板の強度が大幅に低下したり軟化することがない。ひいては、フレキシブルな薄膜系太陽電池をロール・ツー・ロール方式で効率良く生産することができる。
[7]に記載の各発明にかかる薄膜系太陽電池基板は特にフレキシブルである。
[8][9]に記載の各発明にかかる薄膜系太陽電池は、薄膜系であることを活かしたフレキシブルな太陽電池である。
[10]に記載の発明にかかる薄膜系太陽電池の製造方法によれば、ロール・ツー・ロール方式で効率良く薄膜系太陽電池を製造することができる。
本発明のアルミニウム合金において、Si、Fe、Cu、Mn、Sc、Zrの6元素は必須添加元素であり、さらに任意にVが添加される。また、残部はAlおよび不純物である。
以下に、各元素の添加意義および濃度の限定理由について詳述する。
Siは、鋳造時に鋳造性を向上させるために添加する元素であり、その濃度を0.2〜0.45質量%とする。0.2質量%未満では前記効果が乏しい。一方、0.45質量%を超えても材料特性を低下させることはないものの、コスト高となり経済性の点で不利である。特に好ましいSi濃度は0.25〜0.35質量%である。
Feは、結晶粒を微細化して高温領域における強度および耐軟化性の向上に寄与する元素であり、その濃度を0.05〜0.3質量%とする。0.05質量%未満では前記効果が乏しく、0.3質量%を超えるとAl−Mn−Fe系の粗大晶出物を形成するため、やはり強度向上効果が乏しくなる。特に好ましいFe濃度は0.1〜0.2質量%である。
Cuは、固溶強化作用により高温領域における強度および耐軟化性の向上に寄与する元素であり、その濃度を0.3〜0.5質量%とする。0.3質量%未満では前記効果に乏しく、0.5質量%を超えると耐食性が低下するために好ましくない。特に好ましいCu濃度は0.4〜0.5質量%である。
Mnは、アルミニウムならびにアルミニウム中に含有されるSi、Feと微細な金属間化合物を形成することにより再結晶温度を高め、ひいては高温領域における強度および耐軟化性の向上に寄与する元素であり、その濃度を1.2〜1.8質量%とする。1.2質量%未満では前記効果に乏しく、1.8質量%超えると耐食性が低下するおそれがある。特に好ましいMn濃度は1.4〜1.6質量%である。
Scは、単独で再結晶抑制効果により高温領域における強度および耐軟化性を向上させる効果がある。さらに、固溶ScおよびL12構造を持つAl3Scが形成されることにより、これらが強化相となって高温領域における強度および耐軟化性を向上させる効果がある。Sc濃度は、0.05質量%未満では前記効果が乏しく、0.4質量%を超えると加工性が低下するおそれがあるため、0.05〜0.4質量%とする。特に好ましいSc濃度は0.07〜0.15質量%である。
Zrは、Al3ScのScと置換することができる元素であり、Al3ZrはAl3Scと同様に強化相となって高温領域における耐軟化性を向上させる効果がある。0.05質量%未満では前記効果に乏しく、0.2質量%を超えると粗大な晶出物の形成により強度向上効果が小さくなるため、0、05〜0.2質量%とする。特に好ましいZr濃度は0.07〜0.1質量%である。
Vは、再結晶温度を高め、ひいては高温領域における強度および耐軟化性の向上に寄与する元素であり、その濃度を0.05〜0.2質量%とする。0.05質量%未満では前記効果に乏しく、0.2質量%を超えると加工性に悪影響を及ぼす。特に好ましいV濃度は0.07〜0.1質量%である。
以上のように、本発明のアルミニウム合金は高温強度に優れたものであるから、高温領域において高い強度が要求される種々の部材の材料として用いることができ、特に薄膜系太陽電池基板の材料として推奨できる。
本発明のアルミニウム合金は、常法により、材料の溶解、スラブやビレットの鋳塊鋳造、面削、均熱処理が施され、さらに押出や圧延等によって所望の厚さの薄膜系太陽電池基板に成形される。これらの工程における熱処理、時効処理、洗浄等も常法により適宜行われる。基板の厚さは限定されないが、フレキシブルな薄膜系太陽電池の製作に適した厚さは20〜200μmであり、特に10〜100μmが好ましい。
薄膜系太陽電池の製作はロール・ツー・ロール方式で行うことができる。即ち、所定厚さに成形されてロールに巻かれた基板は、巻き出しロールから巻き取りロールに巻き取られる間に後述する各層の形成が順次行われ、あるいは巻き取り毎に各層の形成が行われる。
図1は薄膜系太陽電池(1)の基本的な構成の一例を示す断面図であり、基板(2)上に絶縁層(3)を介して裏面電極層(4)が積層され、さらに光吸収層(5)、バッファー層(6)、透明電極層(7)が順次積層され、透明電極層(7)および裏面電極層(4)に取り出し電極(8)(9)が積層されている。さらに、透明電極層(7)の露出部分は反射防止膜(10)で被覆されている。
前記光吸収層(5)においては、発電効率を高めるために、効率良く光を吸収し、そこで励起されたエレクトロン・ホールペアを再結合させずにどれだけ外部に取せるかが重要であり、光吸収係数が大きいものほど発電効率が高くなる。かかる光吸収層(5)として、アモルファスSiやナノ結晶SiのSi系薄膜、または各種化合物からなる薄膜が用いられる。化合物の種類は限定されず、CdS/CdTe、CIS(Cu−In−Se)、CIGS(Cu−In−Ga−Se)、SiGe、CdSe、GaAs、GaN、InP等を例示できる。これらの化合物からなる薄膜は、焼結、化学析出、スパッタ、近接昇華法、多元蒸着法、セレン化法等によって形成される。本発明の基板は高温領域においても高い強度および耐軟化性を有するものであるから、高温で成膜する化合物を光吸収層とする薄膜系太陽電池に適している。具体的には、CdS/CdTe、CIS、CIGSを光吸収層とする薄膜系太陽電池に適している。
CdS/CdTeからなる薄膜は、基板(絶縁層を有する基板)上にCdS膜、CdTe膜を順次形成した積層薄膜であるが、CdS膜の厚さにより2種類に分けられ、(a)20μm程度のもの、(b)0.1μm以下で基板との間に透明導電膜が形成されているものがある。(a)の構造では、基板上にCdSペースト、CdTeペーストを順次塗布して600℃以下で焼結する。(b)の構造では、化学析出またはスパッタ等によりCdS膜を形成し、近接昇華法によりCdTe膜を形成する。
また、CISまたはCIGS薄膜は化合物半導体を用いるものであり、長期間の使用に対して安定性が高いという特徴がある。これらの化合物薄膜の膜厚は例えば0.1〜4μmであり、化合物ペーストを塗布して350〜550℃で焼結することにより形成される。
また、図1に例示した薄膜系太陽電池(1)において、絶縁層(3)、裏面電極層(4)、バッファー層(6)、透明電極層(7)、取り出し電極(8)(9)の材料や厚さは何ら限定されない。例えば、CISまたはCIGSを用いた薄膜系太陽電池において、各層は以下の材料と厚さを例示できる。絶縁層(3)の材料はアルカリ金属を含む絶縁材料で厚さは0.1〜10μm、裏面電極層(4)の材料はMoで厚さは0.1〜1μm、バッファー層(6)の材料はZnO/CdSで合計厚さは0.4〜4μm、透明電極層(7)の材料はAlをドープしたZnOやITO(インジウム・スズ酸化物)で厚さが0.1〜0.3μm、取り出し電極(8)(9)の材料はAl/Ni等である。勿論、本発明の薄膜系太陽電池は、層構成や各層の材料および厚さが上記例に限定されるものではない。
なお、本発明の薄膜系太陽電池基板は、光吸収層が化合物の場合に限定して用いられるものではなく、アモルファスSiやナノ結晶SiのSi系薄膜にも用いることができる。Si系薄膜の成膜方法としては、液相成長法、ZMR法(帯域溶融再結晶化法)、SPC法(固相結晶法)、CVD法(化学的気相堆積法)を例示できる。
上述したように、本発明のアルミニウム合金は高温領域において高い強度および耐軟化性を有するものであるから、光吸収層を構成する化合物の焼結時に基板の強度が大幅に低下したり軟化することがない。ひいては、フレキシブルな薄膜系太陽電池をロール・ツー・ロール方式で効率良く生産することができる。
表1に示す組成のアルミニウム合金からなる直径76.2mm(3インチ)の押出ビレットを鋳造し、ビレット温度:530℃、ダイス温度450℃、コンテナ温度:450℃、ラム速度:4mm/s、押出比:50.6の条件で、厚さ3mm×幅30mmのフラットバーを押し出した。押し出したフラットバーは均質化処理をすることなく放冷した。
前記フラットバーから機械加工によりJIS Z2201に規定される13B号試験片を作製し、350℃、400℃、450℃、500℃、550℃、600℃の各温度における引張強さ、耐力、伸びを測定した。これらの結果を表2A〜2Cに示す。
表2A〜2Cの結果より、本発明のアルミニウム合金は高温強度が高く、化合物の焼結温度域である350〜550℃においても高い強度および耐軟化性を有するものであった。また、600℃においても比較例より高い強度および耐軟化性を有するものであった。
本発明のアルミニウム合金で製作した薄膜系太陽電池基板は高温領域において高い強度および耐軟化性を有するものであるから、光吸収層として化合物を用いる薄膜系太陽電池をロール・ツー・ロール方式で効率良く生産することができる。
1…薄膜系太陽電池
2…基板
3…絶縁層
4…裏面電極層
5…化合物(光吸収層)
2…基板
3…絶縁層
4…裏面電極層
5…化合物(光吸収層)
Claims (10)
- Si:0.25〜0.35質量%、Fe:0.05〜0.3質量%、Cu:0.3〜0.5質量%、Mn:1.2〜1.8質量%、Sc:0.05〜0.4質量%、Zr:0.05〜0.2質量%を含有し、残部がAlおよび不純物からなることを特徴とするアルミニウム合金。
- さらにV:0.05〜0.2質量%を含有する請求項1に記載のアルミニウム合金。
- Sc濃度が0.07〜0.15質量%である請求項1または2に記載のアルミニウム合金。
- Zr濃度が0.07〜0.1質量%である請求項1〜3のいずれか1項に記載のアルミニウム合金。
- V濃度が0.07〜0.1質量%である請求項2〜4のいずれか1項に記載のアルミニウム合金。
- 基板材料が請求項1〜5のいずれかに記載されたアルミニウム合金からなることを特徴とする薄膜系太陽電池基板。
- 基板の厚さが20〜200μmである請求項6に記載の薄膜系太陽電池基板。
- 請求項6または7に記載の薄膜系太陽電池基板上に、絶縁層および裏面電極層を介して光吸収層が形成されてなることを特徴とする薄膜系太陽電池。
- 前記光吸収層は、CdS/CdTe、CIS、CIGSのうちのいずれかの化合物からなる請求項8に記載の薄膜系太陽電池。
- 巻き出しロールに請求項6または7に記載の薄膜系太陽電池基板が巻かれ、前記薄膜系太陽電池基板を巻き出しロールから巻き取りロールに巻き取る間に、絶縁層、裏面電極層、光吸収層の形成を行う工程を含むことを特徴とする薄膜系太陽電池の製造方法。
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