JP2008081736A - ラダー型ポリシルセスキオキサンの製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 本発明のラダー型ポリシルセスキオキサンの製造方法は、(1)加水分解性基又はヒドロキシル基を有するシラン化合物を、水及び触媒を含む加水分解用溶液に加えて加水分解する工程と、(2)工程(1)で得られた溶液に、水との共沸混合物を生成する有機溶媒を添加する工程と、(3)工程(2)で得られた溶液を加熱還流する工程と、(4)工程(3)で得られた溶液から共沸によって水を除去する工程とを有する。
【選択図】 なし
Description
[式中、R1は、H原子若しくはF原子、B原子、N原子、Al原子、P原子、Si原子、Ge原子及びTi原子のうちの少なくとも1種を含む基、又は、炭素数1〜20の有機基を示し、Xは加水分解性基又はヒドロキシル基を示し、nは1〜3の整数である。但し、nが2又は3である場合、複数のR1はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、nが1又は2である場合、複数のXはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。]
[実施例1]
[比較例1]
Claims (8)
- (1)下記一般式(I)で表されるシラン化合物を、水及び触媒を含む加水分解用溶液に加えて加水分解する工程と、
(2)前記工程(1)で得られた溶液に、水との共沸混合物を生成する有機溶媒を添加する工程と、
(3)前記工程(2)で得られた溶液を加熱還流する工程と、
(4)前記工程(3)で得られた溶液から共沸によって水を除去する工程と、
を有する、ことを特徴とするラダー型ポリシルセスキオキサンの製造方法。
[式中、R1は、H原子若しくはF原子、B原子、N原子、Al原子、P原子、Si原子、Ge原子及びTi原子のうちの少なくとも1種の原子を含む基、又は、炭素数1〜20の有機基を示し、Xは加水分解性基又はヒドロキシル基を示し、nは1〜3の整数である。但し、nが2又は3である場合、複数のR1はそれぞれ同一でも異なっていてもよく、nが1又は2である場合、複数のXはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。] - (5)前記工程(4)で得られた溶液を濃縮する工程を更に有する、ことを特徴とする請求項1記載のラダー型ポリシルセスキオキサンの製造方法。
- (6)前記工程(5)で得られた溶液を乾燥する工程を更に有する、ことを特徴とする請求項2記載のラダー型ポリシルセスキオキサンの製造方法。
- 前記工程(1)における前記加水分解用溶液は、前記触媒、及び、前記シラン化合物を加水分解するのに必要な理論水量以上の水を含有しており、且つ、前記工程(1)においては、前記シラン化合物を前記加水分解用溶液に滴下する、ことを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載のラダー型ポリシルセスキオキサンの製造方法。
- 前記工程(2)における前記有機溶媒が、活性水素を含まない有機溶媒又は水と混和しない有機溶媒である、ことを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載のラダー型ポリシルセスキオキサンの製造方法。
- 前記工程(1)における前記触媒は、無機酸又は有機酸である、ことを特徴とする請求項1〜5のいずれか一項に記載のラダー型ポリシルセスキオキサンの製造方法。
- 前記シラン化合物が、前記一般式(I)におけるR1がH、フェニル基、スチリル基又は多環式脂肪族基である化合物である、ことを特徴とする請求項1〜6のいずれか一項に記載のラダー型ポリシルセスキオキサンの製造方法。
- 数平均分子量が500〜5000であるラダー型ポリシルセスキオキサンを製造する、ことを特徴とする請求項1〜7のいずれか一項に記載のラダー型ポリシルセスキオキサンの製造方法。
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JP2019099775A (ja) * | 2017-12-08 | 2019-06-24 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | 平坦化膜形成用塗布液およびその製造方法、ならびに平坦化膜付き金属箔コイルおよびその製造方法 |
-
2007
- 2007-08-29 JP JP2007223094A patent/JP2008081736A/ja active Pending
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JP2019099775A (ja) * | 2017-12-08 | 2019-06-24 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | 平坦化膜形成用塗布液およびその製造方法、ならびに平坦化膜付き金属箔コイルおよびその製造方法 |
JP7020890B2 (ja) | 2017-12-08 | 2022-02-16 | 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 | 平坦化膜形成用塗布液およびその製造方法、ならびに平坦化膜付き金属箔コイルおよびその製造方法 |
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