JP2008078487A - Vop用銅張積層板の製造方法 - Google Patents
Vop用銅張積層板の製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2008078487A JP2008078487A JP2006257591A JP2006257591A JP2008078487A JP 2008078487 A JP2008078487 A JP 2008078487A JP 2006257591 A JP2006257591 A JP 2006257591A JP 2006257591 A JP2006257591 A JP 2006257591A JP 2008078487 A JP2008078487 A JP 2008078487A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper foil
- layer
- foil layer
- copper
- vop
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Printing Elements For Providing Electric Connections Between Printed Circuits (AREA)
Abstract
【解決手段】一面に保護層110、130が形成された第1及び第2銅箔層100、120を提供し、接着層150を中心として上下部にそれぞれ前記第1銅箔層、絶縁層140及び第2銅箔層を積層し、前記第2銅箔層の一面に形成された保護層130を除去し、前記第2銅箔層の一部分を除去し、前記第2銅箔層が除去された領域でレーザー加工によって前記絶縁層のみを除去してビアホール170を形成し、前記第1銅箔層の一面に形成された保護層110及び前記接着層150を除去して二枚の銅張積層板180を形成する。前記第1銅箔層及び前記第2銅箔層の一面に形成された保護層は絶縁層140と接しないように積層する。
【選択図】図3
Description
110 第1保護層
120 第2銅箔層
130 第2保護層
140 絶縁層
150 接着層
160 積層体
170 ビアホール
180 銅張積層板
190 鍍金層
Claims (7)
- (A)一面に保護層が形成された第1及び第2銅箔層を提供する段階と、
(B)接着層を中心として上下部にそれぞれ第1銅箔層、絶縁層及び第2銅箔層を積層する段階と、
(C)前記第2銅箔層の一面に形成された保護層を除去し、前記第2銅箔層の一部分を除去する段階と、
(D)前記第2銅箔層が除去された領域でレーザー加工によって前記絶縁層のみを除去してビアホールを形成する段階と、
(E)前記第1銅箔層の一面に形成された保護層及び前記接着層を除去して二枚の銅張積層板を形成する段階とを含み、
前記(B)段階において、前記第1銅箔層及び前記第2銅箔層の一面に形成された保護層は絶縁層と接しないように積層することを特徴とするVOP用銅張積層板の製造方法。 - 前記保護層は金属層であることを特徴とする請求項1に記載のVOP用銅張積層板の製造方法。
- 前記第1銅箔層及び前記第2銅箔層は5μm以下の厚さを有することを特徴とする請求項1に記載のVOP用銅張積層板の製造方法。
- 前記接着層は熱伝導度の高い物質から形成されることを特徴とする請求項1に記載のVOP用銅張積層板の製造方法。
- 前記(C)段階において、前記第2銅箔層の一部分はエッチング工程で除去することを特徴とする請求項1に記載のVOP用銅張積層板の製造方法。
- 前記(E)段階の後に、
(F)前記銅張積層板上に鍍金層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のVOP用銅張積層板の製造方法。 - 前記(E)段階の後に、
(G)前記ビアホールの内部を導電性ペーストで積層する段階をさらに含むことを特徴とする請求項1に記載のVOP用銅張積層板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006257591A JP2008078487A (ja) | 2006-09-22 | 2006-09-22 | Vop用銅張積層板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006257591A JP2008078487A (ja) | 2006-09-22 | 2006-09-22 | Vop用銅張積層板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2008078487A true JP2008078487A (ja) | 2008-04-03 |
Family
ID=39350224
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006257591A Pending JP2008078487A (ja) | 2006-09-22 | 2006-09-22 | Vop用銅張積層板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2008078487A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN102922231A (zh) * | 2012-10-25 | 2013-02-13 | 昆明贵金属研究所 | 一种钌及钌合金靶材的加工方法 |
US8669477B2 (en) | 2010-02-24 | 2014-03-11 | Empire Technology Development Llc | Wiring substrate and method for manufacturing the same |
WO2014038488A1 (ja) * | 2012-09-05 | 2014-03-13 | 三井金属鉱業株式会社 | プリント配線板の製造方法及びプリント配線板 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11154788A (ja) * | 1997-11-20 | 1999-06-08 | Nec Toyama Ltd | 多層プリント配線板の製造方法 |
JP2000068640A (ja) * | 1998-08-26 | 2000-03-03 | Harima Chem Inc | 層間接続方法 |
JP2001308548A (ja) * | 2000-04-11 | 2001-11-02 | Lg Electronics Inc | 多層印刷回路基板及びその製造方法並びに多層印刷回路基板を利用したbga半導体パッケージ |
JP2002252436A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Asahi Kasei Corp | 両面積層板およびその製造方法 |
JP2002324963A (ja) * | 2001-04-26 | 2002-11-08 | Cmk Corp | プリント配線板の非貫通孔加工方法 |
JP2003124632A (ja) * | 2001-10-16 | 2003-04-25 | Nec Toppan Circuit Solutions Inc | 多層プリント配線板及びその製造方法 |
JP2003243824A (ja) * | 2002-02-13 | 2003-08-29 | Casio Micronics Co Ltd | 配線形成用フレキシブル基板およびフレキシブル配線基板並びにフレキシブル配線基板の製造方法 |
JP2004031710A (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-29 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 配線基板の製造方法 |
-
2006
- 2006-09-22 JP JP2006257591A patent/JP2008078487A/ja active Pending
Patent Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11154788A (ja) * | 1997-11-20 | 1999-06-08 | Nec Toyama Ltd | 多層プリント配線板の製造方法 |
JP2000068640A (ja) * | 1998-08-26 | 2000-03-03 | Harima Chem Inc | 層間接続方法 |
JP2001308548A (ja) * | 2000-04-11 | 2001-11-02 | Lg Electronics Inc | 多層印刷回路基板及びその製造方法並びに多層印刷回路基板を利用したbga半導体パッケージ |
JP2002252436A (ja) * | 2001-02-23 | 2002-09-06 | Asahi Kasei Corp | 両面積層板およびその製造方法 |
JP2002324963A (ja) * | 2001-04-26 | 2002-11-08 | Cmk Corp | プリント配線板の非貫通孔加工方法 |
JP2003124632A (ja) * | 2001-10-16 | 2003-04-25 | Nec Toppan Circuit Solutions Inc | 多層プリント配線板及びその製造方法 |
JP2003243824A (ja) * | 2002-02-13 | 2003-08-29 | Casio Micronics Co Ltd | 配線形成用フレキシブル基板およびフレキシブル配線基板並びにフレキシブル配線基板の製造方法 |
JP2004031710A (ja) * | 2002-06-27 | 2004-01-29 | Shinko Electric Ind Co Ltd | 配線基板の製造方法 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8669477B2 (en) | 2010-02-24 | 2014-03-11 | Empire Technology Development Llc | Wiring substrate and method for manufacturing the same |
WO2014038488A1 (ja) * | 2012-09-05 | 2014-03-13 | 三井金属鉱業株式会社 | プリント配線板の製造方法及びプリント配線板 |
TWI573508B (zh) * | 2012-09-05 | 2017-03-01 | Mitsui Mining & Smelting Co | Printed circuit board manufacturing method and printed circuit board |
CN102922231A (zh) * | 2012-10-25 | 2013-02-13 | 昆明贵金属研究所 | 一种钌及钌合金靶材的加工方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4126052B2 (ja) | プリント基板の製造方法および薄型プリント基板 | |
KR20120067968A (ko) | 다층배선기판 및 그의 제조방법 | |
TWI617225B (zh) | 印刷電路板及其製造方法 | |
TWI383715B (zh) | 高密度基板之結構與製法 | |
JP2007096314A (ja) | ワイヤボンディングパッド面とボールパッド面の回路層の厚さが異なる半導体パッケージ基板およびその製造方法 | |
JP2008060609A (ja) | 多層基板およびその製造方法 | |
JP2009260370A (ja) | 陽極酸化による微細回路パターン付きパッケージ基板の製造方法 | |
JP4802338B2 (ja) | 多層基板の製造方法及び多層基板 | |
JP2006148038A (ja) | 高密度プリント基板の製造方法 | |
JP5177968B2 (ja) | 貫通孔形成方法および配線回路基板の製造方法 | |
JP2008124247A (ja) | 部品内蔵基板及びその製造方法 | |
TWI500366B (zh) | Multilayer printed wiring board and manufacturing method thereof | |
KR100674295B1 (ko) | 다층 인쇄회로기판의 제조방법 | |
US7807215B2 (en) | Method of manufacturing copper-clad laminate for VOP application | |
JP2015109392A (ja) | 配線基板の製造方法 | |
JP2013106034A (ja) | プリント回路基板の製造方法 | |
JP2008078487A (ja) | Vop用銅張積層板の製造方法 | |
JP4319917B2 (ja) | 部品内蔵配線板の製造方法 | |
JP2009239105A (ja) | 多層回路基板の製造方法 | |
JP2019067864A (ja) | プリント配線板の製造方法 | |
KR100722606B1 (ko) | Vop용 동박적층판의 제조방법 | |
JP6076431B2 (ja) | 半導体パッケージ基板の製造方法 | |
JP2010232585A (ja) | 多層配線基板およびその製造方法 | |
JP2003008208A (ja) | 高密度多層ビルドアップ配線板の製造方法 | |
JP4736251B2 (ja) | フィルムキャリア及びその製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080520 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20080820 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20080825 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080909 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20081216 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090316 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090908 |