JP2008073589A - フッ素晶析技術 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】種晶上にフッ素化合物を晶析させるフッ素晶析技術において、フッ素含有水と反応薬剤とを混合する反応槽内に撹拌機を設け、その撹拌流によって反応槽内に素早く拡散しうる領域に、フッ素含有水及び/又は反応薬剤を吐出する。
【選択図】図3
Description
(例1)前記原水及び/又は前記反応薬剤の注入点の、前記撹拌翼の回転軸方向の高さは、前記撹拌翼の回転中心から、前記撹拌翼の回転半径の2倍以内の距離とする。
(例2)前記原水及び/又は前記反応薬剤の注入点の、前記撹拌翼の回転径方向の位置は、前記撹拌翼の回転中心から、前記撹拌翼の回転半径の2倍以内の距離とする。
(例3)前記原水及び/又は前記反応薬剤の注入点は、中心が前記撹拌翼の回転中心であって、半径が前記撹拌翼の回転半径の2倍である球状の領域内とする。
[共通条件]
晶析反応槽の直径:500mmφ
晶析反応槽の高さ:1200mmH
晶析反応槽の容量:150L
フッ酸廃水のフッ素濃度:2000、10000mg/L
フッ酸廃水流量:150L/h
撹拌翼径:260mmφ
上記条件で、pH、フッ酸廃水およびカルシウム剤(CaCl2)、pH調整剤(NaOH)の注入点を変えて、フッ素回収率の変化を調べた。また、ドラフトチューブを設置した場合と設置しない場合で、フッ素回収率がどのように変わるかも調べた。使用したドラフトチューブは直径が300mmで、上端が水面から200mm、下端が撹拌翼下100mmに位置するように設置した。なお、ここでいう処理水フッ素濃度は、SS性のフッ素(=フッ化カルシウム)と溶解性のフッ素を含むトータルフッ素濃度である。
結果を表1に示す。
Claims (14)
- フッ素を含有する原水と反応薬剤とを粒状種晶が流動する反応槽内に混在せしめ、前記粒状種晶上にフッ素化合物を晶析させるフッ素晶析方法であって、
前記反応槽に前記反応槽内の流体を撹拌する撹拌機を設け、その撹拌流によって反応槽内に素早く拡散しうる領域に、フッ素含有水及び/又は反応薬剤を吐出する、フッ素晶析方法。 - フッ素を含有する原水と反応薬剤とを粒状種晶が流動する反応槽内に混在せしめ、前記粒状種晶上にフッ素化合物を晶析させるフッ素晶析装置であって、
撹拌翼の回転により前記反応槽内の流体を撹拌する撹拌機を備え、
前記原水及び/又は前記反応薬剤の注入点が、前記撹拌機による撹拌流速が大きい領域に設けられる、
フッ素晶析装置。 - フッ素を含有する原水と反応薬剤とを粒状種晶が流動する反応槽内に混在せしめ、前記粒状種晶上にフッ素化合物を晶析させるフッ素晶析装置であって、
撹拌翼の回転により前記反応槽内の流体を撹拌する撹拌機を備え、
前記原水及び/又は前記反応薬剤の注入点が、前記撹拌翼の近傍に設けられる、
フッ素晶析装置。 - 前記原水はフッ素をフッ酸として含有し、前記反応薬剤はカルシウム剤である、請求項2又は3に記載のフッ素晶析装置。
- 前記撹拌翼の近傍に、pH調整剤を吐出するように構成される、請求項2又は3に記載のフッ素晶析装置。
- 前記反応槽の水面下に、筒内下半分の何処かに前記撹拌翼が位置するようにドラフトチューブが立設されると共に、前記撹拌翼により下降流が形成されるように構成される、請求項2から5のいずれかに記載のフッ素晶析装置。
- 前記原水の供給路及び/又は前記反応薬剤の供給路を、前記攪拌翼に回転力を伝える撹拌軸内に付設するか、前記撹拌軸に沿って付設する、請求項2から6のいずれかに記載のフッ素晶析装置。
- 前記原水の供給路及び/又は前記反応薬剤の供給路に合流する水の供給路を備える、請求項2から7のいずれかに記載のフッ素晶析装置。
- 前記反応槽の内側壁との間に間隙を形成するように、該内側壁に沿って立設されるバッフルプレートを備える、請求項2から8のいずれかに記載のフッ素晶析装置。
- 前記原水及び/又は前記反応薬剤の注入点の、前記撹拌翼の回転軸方向の高さは、前記撹拌翼の回転中心から、前記撹拌翼の回転半径の2倍以内の距離である、請求項2から9のいずれかに記載のフッ素晶析装置。
- 前記原水及び/又は前記反応薬剤の注入点の、前記撹拌翼の回転径方向の位置は、前記撹拌翼の回転中心から、前記撹拌翼の回転半径の2倍以内の距離である、請求項2から10のいずれかに記載のフッ素晶析装置。
- 前記原水及び/又は前記反応薬剤の注入点は、中心が前記撹拌翼の回転中心であって、半径が前記撹拌翼の回転半径の2倍である球状の領域内に設けられる、請求項2から9のいずれかに記載のフッ素晶析装置。
- 前記フッ素含有水及び/又は前記反応薬剤の注入点は、前記ドラフトチューブの筒内に設けられる、請求項2から9のいずれかに記載のフッ素晶析装置。
- 前記フッ素含有水及び/又は前記反応薬剤の注入点は、前記ドラフトチューブの筒内であって前記撹拌翼の上方に設けられる、請求項13に記載のフッ素晶析装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Applications Claiming Priority (1)
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JP2006254065A JP4565575B2 (ja) | 2006-09-20 | 2006-09-20 | フッ素晶析技術 |
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JP2008073589A true JP2008073589A (ja) | 2008-04-03 |
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Country Status (1)
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