JP2008060458A - 露光装置及び露光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】主制御装置20が、ウエハW上の複数のショット領域に対して順次露光する際に、ウエハを保持して2次元面に沿って移動可能なウエハステージWSTの走査方向に関する加速度と速度が同時に零とならないように、ウエハステージの移動を制御する。これにより、1枚のウエハを露光する間に、ウエハステージが停止することがないので、スループットの向上を図ることが可能となり、また、各ショット領域に対する走査露光開始直前に、ウエハステージを急激に加速しなくても良いため、加速に起因するウエハステージの振動が露光精度に与える影響を極力抑制することができる。
【選択図】図1
Description
この連続する2つのショット領域の走査露光動作について、図3(A)、図3(B)等を用いて説明する。図3(A)には、投影光学系PLの有効フィールドPL’に内接する、ウエハW上の幅wのスリット状の照明領域(レチクルR上の照明領域と共役な領域;以下、照明スリットという)STとショット長Lのショット領域Sn,Sn+1との関係が平面図にて示され、図3(B)には、ステージ移動時間tとY軸方向に関するウエハステージWSTの速度Vyとの関係が示されている。なお、実際には、ショット領域Snが照明スリットSTに対して矢印yの反対方向に移動することで露光が行なわれるが、図3(A)では、図3(B)のステージ移動時間とウエハステージWSTのY速度Vyの関係とを対応付けるため、照明スリットSTがショット領域Sn,Sn+1に対し移動するように示されている。
次に、本実施形態における、行間を跨ぐ2つのショット領域を露光する場合の行間移動動作についてについて、従来の行間移動と比較しつつ説明する。
本実施形態では、ウエハW上のファーストショットの露光動作においても、露光開始直前の加速により振動が極力発生しないように、例えば、以下の2種類の露光方法を採用することが可能である。なお、ファーストショットの露光動作においては、通常、図3において実線で示される移動軌跡に沿ってウエハステージWSTが移動される(図3において、n=1であるものとする)。
Claims (11)
- 物体を走査方向に移動しつつ前記物体上の複数の区画領域を走査露光し、前記各区画領域にパターンを順次形成する露光装置であって、
前記物体を保持して2次元面に沿って移動可能な物体ステージと;
前記パターンを前記物体上の複数の区画領域に順次形成する際に、前記物体ステージの前記走査方向に関する加速度と速度が同時に零とならないように、前記物体ステージの移動を制御する制御装置と;を備える露光装置。 - 前記制御装置は、
前記複数の区画領域のうち、前記走査方向に直交する非走査方向の任意の行内の最終区画領域に対するパターンの形成が終了した後、別の行の最初の区画領域に対するパターンの形成のための移動中には、前記物体ステージの前記走査方向に関する移動方向が逆向きになる瞬間以外は速度が零とならないように、前記物体ステージの移動を制御することを特徴とする請求項1に記載の露光装置。 - 前記制御装置は、
前記複数の区画領域のうちの最初の区画領域に対するパターンの形成のための前記物体ステージの加速距離及び加速時間を、その行の他の区画領域に対するパターンの形成のための前記物体ステージの加速距離及び加速時間よりも長くとることを特徴する請求項1又は2に記載の露光装置。 - 前記制御装置は、
前記複数の区画領域のうちの最初の区画領域へのパターンの形成に先立って、該最初の区画領域の、第2番目の区画領域が存在する側とは反対側に、ダミーの区画領域が存在すると仮定して、該ダミーの区画領域にパターンを形成するように、前記物体ステージを移動することを特徴とする請求項1又は2に記載の露光装置。 - 前記パターンが形成されたマスクと;
前記マスクを保持して少なくとも前記走査方向に移動可能なマスクステージと;を更に備え、
前記制御装置は、前記各区画領域に対してパターンを形成する直前に、前記マスクと前記物体とが同期移動を開始するように、前記マスクステージの移動を制御することを特徴とする請求項1〜4のいずれか一項に記載の露光装置。 - 物体を走査方向に移動しつつ前記物体上の複数の区画領域を走査露光し、前記各区画領域にパターンを順次形成する露光方法において、
前記パターンを前記物体上の区画領域に対してパターンを順次形成する際に、前記物体を、前記走査方向に関して加速度と速度が同時に零とならないように移動させることを特徴とする露光方法。 - 前記複数の区画領域のうちの前記走査方向に直交する非走査方向の任意の行内の最終区画領域へのパターンの形成が終了した後、別の行の最初の区画領域に対するパターンの形成を開始のための前記物体の移動中には、前記物体の前記走査方向に関する移動方向が逆向きになる瞬間以外は速度が零とならないように移動させることを特徴とする請求項6に記載の露光方法。
- 前記複数の区画領域のうちの最初の区画領域に対するパターンの形成のための前記物体の加速距離及び加速時間を、その行の他の区画領域に対するパターンの形成のための前記物体の加速距離及び加速時間よりも長くとることを特徴する請求項6又は7に記載の露光方法。
- 前記複数の区画領域のうちの最初の区画領域に対するパターンの形成に先立って、該最初の区画領域の、第2番目の区画領域が存在する側とは反対側にダミーの区画領域が存在すると仮定して、該ダミーの区画領域に対してパターンを形成するように、前記物体を移動させることを特徴とする請求項6又は7に記載の露光方法。
- 前記パターンを前記物体上の区画領域に順次パターンを形成する際には、前記パターンが形成されたマスクを前記物体と前記走査方向に同期移動させることを特徴とする請求項6〜9のいずれか一項に記載の露光方法。
- 前記各区画領域に前記パターンを形成する直前に、前記マスクと前記物体との同期移動が開始されるように、前記マスクを移動させることを特徴とする請求項10に記載の露光方法。
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Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11233433A (ja) * | 1998-02-17 | 1999-08-27 | Nikon Corp | 走査型露光装置及び走査露光方法並びにデバイス製造方法 |
JP2001230170A (ja) * | 2000-02-15 | 2001-08-24 | Canon Inc | 走査露光装置及び走査露光方法 |
JP2004072076A (ja) * | 2002-06-10 | 2004-03-04 | Nikon Corp | 露光装置及びステージ装置、並びにデバイス製造方法 |
WO2005036620A1 (ja) * | 2003-10-10 | 2005-04-21 | Nikon Corporation | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
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Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH11233433A (ja) * | 1998-02-17 | 1999-08-27 | Nikon Corp | 走査型露光装置及び走査露光方法並びにデバイス製造方法 |
JP2001230170A (ja) * | 2000-02-15 | 2001-08-24 | Canon Inc | 走査露光装置及び走査露光方法 |
JP2004072076A (ja) * | 2002-06-10 | 2004-03-04 | Nikon Corp | 露光装置及びステージ装置、並びにデバイス製造方法 |
WO2005036620A1 (ja) * | 2003-10-10 | 2005-04-21 | Nikon Corporation | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010087470A (ja) * | 2008-09-05 | 2010-04-15 | Canon Inc | 露光装置及びデバイスの製造方法 |
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