JP2008046149A - リフレクター用Ａｇ合金反射膜、リフレクター、および、リフレクター用Ａｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット - Google Patents

リフレクター用Ａｇ合金反射膜、リフレクター、および、リフレクター用Ａｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット Download PDF

Info

Publication number
JP2008046149A
JP2008046149A JP2006218593A JP2006218593A JP2008046149A JP 2008046149 A JP2008046149 A JP 2008046149A JP 2006218593 A JP2006218593 A JP 2006218593A JP 2006218593 A JP2006218593 A JP 2006218593A JP 2008046149 A JP2008046149 A JP 2008046149A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
alloy
reflective film
reflector
alloy reflective
atomic
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006218593A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Inventor
Jun Suzuki
順 鈴木
Toshiki Sato
俊樹 佐藤
Takeo Kawanaka
岳穂 川中
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kobe Steel Ltd filed Critical Kobe Steel Ltd
Priority to JP2006218593A priority Critical patent/JP2008046149A/ja
Priority to PCT/JP2007/064653 priority patent/WO2008018298A1/fr
Publication of JP2008046149A publication Critical patent/JP2008046149A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/14—Metallic material, boron or silicon
    • C23C14/18—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates
    • C23C14/185—Metallic material, boron or silicon on other inorganic substrates by cathodic sputtering
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/08—Mirrors
    • G02B5/0808—Mirrors having a single reflecting layer

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
JP2006218593A 2006-08-10 2006-08-10 リフレクター用Ａｇ合金反射膜、リフレクター、および、リフレクター用Ａｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット Pending JP2008046149A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006218593A JP2008046149A (ja) 2006-08-10 2006-08-10 リフレクター用Ａｇ合金反射膜、リフレクター、および、リフレクター用Ａｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット
PCT/JP2007/064653 WO2008018298A1 (fr) 2006-08-10 2007-07-26 FILM RÉFLÉCHISSANT EN ALLIAGE D'Ag POUR RÉFLECTEUR, RÉFLECTEUR, ET CIBLE DE PULVÉRISATION EN ALLIAGE D'Ag POUR LA FORMATION DU FILM RÉFLÉCHISSANT EN ALLIAGE D'Ag POUR RÉFLECTEUR

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006218593A JP2008046149A (ja) 2006-08-10 2006-08-10 リフレクター用Ａｇ合金反射膜、リフレクター、および、リフレクター用Ａｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008139813A Division JP2008282023A (ja) 2008-05-28 2008-05-28 リフレクター用Ａｇ合金反射膜、リフレクター、および、リフレクター用Ａｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008046149A true JP2008046149A (ja) 2008-02-28

Family

ID=39032832

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006218593A Pending JP2008046149A (ja) 2006-08-10 2006-08-10 リフレクター用Ａｇ合金反射膜、リフレクター、および、リフレクター用Ａｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2008046149A (fr)
WO (1) WO2008018298A1 (fr)

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3482827B2 (ja) * 1997-08-04 2004-01-06 凸版印刷株式会社 半透過型液晶表示装置
JP4615701B2 (ja) * 1999-12-07 2011-01-19 株式会社フルヤ金属 高耐熱性反射膜を用いた積層体
JP2002129314A (ja) * 2000-10-31 2002-05-09 Furuya Kinzoku:Kk スパッタリングターゲット及びその製造方法、反射型ｌｃｄ用反射板、反射配線電極、薄膜及びその製造方法
JP3656898B2 (ja) * 2001-01-31 2005-06-08 日立金属株式会社 平面表示装置用Ａｇ合金系反射膜
JP2004272245A (ja) * 2003-02-21 2004-09-30 Mitsui Chemicals Inc 反射体

Also Published As

Publication number Publication date
WO2008018298A1 (fr) 2008-02-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4009564B2 (ja) リフレクター用Ａｇ合金反射膜、及び、このＡｇ合金反射膜を用いたリフレクター、並びに、このＡｇ合金反射膜のＡｇ合金薄膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット
KR100644006B1 (ko) 리플렉터용 Ａｇ 합금 반사막, 및 이 Ａｇ 합금 반사막을이용한 리플렉터
JP5719179B2 (ja) 反射膜積層体
JP2005008983A (ja) 銀をベースとする合金、反射層、スパッタ材料および蒸着材料を形成するためのその使用
JPWO2006132414A1 (ja) 反射率・透過率維持特性に優れた銀合金
JPWO2006132415A1 (ja) 反射率・透過率維持特性に優れた銀合金
CN101809467A (zh) 反射膜、反射膜层叠体、led、有机el显示器及有机el照明器具
TWI338054B (fr)
JP2010204291A (ja) Ａｌ合金反射膜、及び、自動車用灯具、照明具、装飾部品、ならびに、Ａｌ合金スパッタリングターゲット
US8603648B2 (en) Reflective film laminate
WO2006132417A1 (fr) Alliage d’argent possédant d’excellentes caractéristiques de conservation du facteur de réflexion et du facteur de transmission
JP2004126497A (ja) 光反射膜およびこれを用いた液晶表示素子、ならびに光反射膜用スパッタリングターゲット
JP5280777B2 (ja) 反射膜積層体
WO2006132416A1 (fr) Alliage d’argent possédant d’excellentes caractéristiques de conservation du facteur de réflexion et du facteur de transmission
JP5097031B2 (ja) 反射膜、ｌｅｄ、有機ｅｌディスプレイ及び有機ｅｌ照明器具
JP2011021275A (ja) Ａｌ合金反射膜、反射膜積層体、及び、自動車用灯具、照明具、ならびに、Ａｌ合金スパッタリングターゲット
JP2008190036A (ja) 耐凝集性および耐硫化性に優れた反射膜
JP2008046149A (ja) リフレクター用Ａｇ合金反射膜、リフレクター、および、リフレクター用Ａｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット
JP2008282023A (ja) リフレクター用Ａｇ合金反射膜、リフレクター、および、リフレクター用Ａｇ合金反射膜の形成用のＡｇ合金スパッタリングターゲット
TWI485270B (zh) Ａｇ合金膜形成用濺鍍靶及Ａｇ合金膜、Ａｇ合金反射膜、Ａｇ合金導電膜、Ａｇ合金半透膜
JP5144302B2 (ja) 反射膜積層体
JP2006284880A (ja) 光反射膜および光反射板
JP4632519B2 (ja) 反射体
JP4176136B2 (ja) Ａｇ合金薄膜
JP5260452B2 (ja) 耐温水性に優れるＡｌ合金反射膜、およびスパッタリングターゲット

Legal Events

Date Code Title Description
A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071221

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20080401

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20080528

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20080722